适于接触式光刻机的分区域曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本实用新型专利技术的装置结构简单，使用时即不破坏光刻机整机结构和正常的曝光工艺，又能很好的起到遮挡紫外光的作用；且该装置中挡板更换方便，更换时不会破坏装置结构；挡板的尺寸可以根据掩膜架上曝光区域的大小进行设定，灵活性强。

【技术实现步骤摘要】
201620238897

【技术保护点】
一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于，所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第一滑槽导轨包括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽；所述第一滑槽位于所述第一滑槽导轨的内侧；所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间，且所述第一挡板的两端分别位于两所述第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内，并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨；所述第二滑槽导轨横跨所述第一滑槽导轨组，并固定于所述第一滑槽导轨的表面，且所述第二滑槽导轨与所述第一滑槽导轨相垂直；所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上的第二滑槽；所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧；所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间，且所述第二挡板的两端分别位于两所述第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内，并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。

【技术特征摘要】
1.一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于，所述适于接触式光刻机的分区域
曝光装置包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；
所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第一滑槽导轨包
括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽；所述第一滑槽位于所述第一滑
槽导轨的内侧；
所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间，且所述第一挡板的两端分别位于两所述
第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内，并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动；
所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨；所述第二滑槽导轨横
跨所述第一滑槽导轨组，并固定于所述第一滑槽导轨的表面，且所述第二滑槽导轨与所述
第一滑槽导轨相垂直；所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上
的第二滑槽；所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧；
所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间，且所述第二挡板的两端分别位于两所述
第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内，并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。
2.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于：所述第一滑槽
的长度方向与所述第一导轨本体的长度方向一致，且所述第一滑槽自所述第一导轨本体的
一端面延伸至另一端面。
3.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于：所...

【专利技术属性】
技术研发人员：马林贤，
申请(专利权)人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：新型
国别省市：上海;31