【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光刻机投影物镜波像差检测的检测标记，其特征在于，所述的检测标记由方向不同，尺寸相同的一维图形构成： (1)所述图形的方向包含0°、30°、45°、60°、90°、120°、150°中的任何一个或几个方向； (2)各个方向上的图形都是轴对称图形，都具有相同的几何参数； (3)各个方向上的图形由2～5个透射空构成，透射空的宽度最小为光刻机工作波长的1/10，最大不超过光刻机工作波长的5倍；相邻透射空的中心位置间隔最小为光刻机工作波长的1/5，最大不超过光刻机工作波长的10倍；检测标记的周期Pitch不超过光刻机工作波长的50倍；所述的宽度都是硅面宽度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：闫观勇，李思坤，王向朝，沈丽娜，刘晓雷，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31
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