一种新型高速数字扫描直写光刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种高速数字扫描直写光刻装置，包括光源，光学照明系统，可编程图形发生器，投影光学系统，高速精密移动平台等五部分。曝光光束从光源发出，进入光学照明系统，准直成平行均匀的面光源投影至可编程图形发生器，而此时可编程图形发生器上的图形信息伴随光线进入投影光学系统，曝光光线穿过投影光学系统，最后投影成像在高速精密移动平台的基底上。本发明专利技术可以省去掩膜版或菲林版的加工工序，并能数十倍的提升可编辑图形发生器的刷新频率，从而提高产品的加工速率，改善了产品加工的良率。制作工艺简单，降低了产品的生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种新型高速数字扫描直写光刻装置
本专利技术涉及半导体加工(包括电路板制造PCB、平板显示器FPD、发光二极管LED、印刷CTS及CTcP (CTP)、光掩模版等使用半导体加工工艺的加工领域)所应用的光刻
，具体涉及一种高速数字扫描直写光刻装置。
技术介绍
光刻装置是通过光学系统将特殊定义的结构图形亥Ij在涂有感光物质的基片(也可称为基底)上，用来产生电路图案的设备，是半导体和PCB等加工中装备中最关键的设备。基片可包括用于制造半导体器件硅片或掩膜版、平面显示器(例如液晶显示器)掩膜版、印刷电路板(PCB)、发光二极管(LED)衬底、生物芯片、微电子机械系统(MEMS)、光电子线路芯片或光掩膜版等基片。本领域的技术人员应该理解，这些仅是举例说明，并没有包含全部，还应用在本领域技术人员已知的其他类型基片。光刻技术是光学设计加工、精密机械设计加工，电子及计算机控制系统等领域高度集成的尖端科技技术，目前主要被欧、美、日等发达国家与地区所控制。直写光刻装置是一种综合式的无掩膜光刻技术，是当代半导体加工工艺中最核心的技术之一，目前主要应用于高端HDI和高良率封装线路板、PSS本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型高速数字扫描直写光刻装置，包含有光源、光学照明系统、可编程图形发生器、投影光学系统、高速精密移动平台，曝光光线从光源发出，经光学照明系统后投影至可编程的图形发生器，可编程发生器上预设的图形信息随着曝光光线进入投影光学系统，最后投影在高速精密移动平台的基底上，其特征在于：所述光源、所述光学照明系统和所述图形发生器同轴。

【技术特征摘要】
2014.02.18 CN 201420068700.X1.一种新型高速数字扫描直写光刻装置，包含有光源、光学照明系统、可编程图形发生器、投影光学系统、高速精密移动平台，曝光光线从光源发出，经光学照明系统后投影至可编程的图形发生器，可编程发生器上预设的图形信息随着曝光光线进入投影光学系统，最后投影在高速精密移动平台的基底上，其特征在于:所述光源、所述光学照明系统和所述图形发生器同轴。2.根据权利要求1所述的一种新型高速数字扫描直写光刻装置，其特征在于:所述光源为波长在436nm及其以下的紫外光源，是激光、LED、LD或者汞灯。3.根据权利要求1所述的一种新型高速数字扫描直写光刻装置，其特征在于:所述光学照明系统将入射光源准直成平行均匀的面光源。4.如权利要I所述的新型高速数字扫描直写光刻装置，其特征在于:所述可编程图形发生器是反射、衍射或透射器件。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李平贵，张国龙，马迪，
申请(专利权)人：苏州微影光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32