一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置和方法，所述装置包括光源、投影物镜、探测器、工件台和掩模板，掩模板包括多照明模式模板和测试标记，激光将该测试标记经由投影物镜成像；探测器具有参考标记和在该参考标记下方的光电传感器，测试标记进行成像的激光经过该参考标记后照射在光电传感器上；工作台承载探测器，并在水平或垂直方向能够移动，根据光电传感器输出的电信号的强度能够判断测试标记像的位置，根据表示投影物镜像差和位置偏移量关系的矩阵可在线得到所述投影物镜的波像差。本发明专利技术只需要经过一次照明和一次测量即可实现多照明模式下位置偏移量的测量，显著地提高了投影物镜波像差检测的速度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学记录
，具体涉及一种光刻机投影物镜波像差的在线测量装置和方法，特别是采用空间像传感器在线测量波像差的装置和方法。
技术介绍
随着光刻机关键尺寸不断减小，对投影物镜波像差的要求也越来越小，对于先进光刻机，一般要求投影物镜的波像差不大于几纳米。在投影物镜的实际使用中，由于激光照射所引起的投影物镜热效应以及周围环境的影响，投影物镜的波像差会逐渐变大，因此在光刻机内部需要安装一种投影物镜波像差在线测量装置，以便实时测量投影物镜波像差，必要时通过调节投影物镜可动镜片将投影物镜波像差调整到合适范围，以保证线条的曝光质量。投影物镜的波像差会影响标记的成像质量，那么通过测量标记像的参数，也可以得到投影物镜的波像差。现有技术I (Hans van der laan, Marcel Dierichs, Henk vanGreevenbroek,etc. “Aerial image measurement methods for fast aberration set-upand illumination pupil verification”，Proc. SPIE2001,43本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、探测器(DE)和工件台(ST)，所述光源(LA)用于出射激光，其特征在于：所述装置还包括掩模板(MA)，其上具有测试标记(7)，所述激光将该测试标记(7)经由所述投影物镜(PO)成像；所述探测器(DE)具有一个表面和在该表面以下的光电传感器，所述表面上设置有参考标记；所述对测试标记(7)进行成像的激光经过该参考标记后照射在所述光电传感器上；所述工作台(ST)用于承载所述探测器(DE)，该工作台可以在水平、垂直方向上移动，当其在水平或垂直方向移动时，根据所述光电传感器输出的电信号的强度能够判断测试标记像的位置，根据表示投影...

【技术特征摘要】
1.一种光刻机投影物镜波像差在线测量装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、探测器 (DE)和工件台(ST)，所述光源(LA)用于出射激光，其特征在于所述装置还包括掩模板(MA)，其上具有测试标记(7)，所述激光将该测试标记(7)经由所述投影物镜(PO)成像；所述探测器(DE)具有一个表面和在该表面以下的光电传感器，所述表面上设置有参考标记；所述对测试标记(7)进行成像的激光经过该参考标记后照射在所述光电传感器上；所述工作台(ST)用于承载所述探测器(DE)，该工作台可以在水平、垂直方向上移动， 当其在水平或垂直方向移动时，根据所述光电传感器输出的电信号的强度能够判断测试标记像的位置，根据表示投影物镜像差和位置偏移量关系的矩阵可在线得到所述投影物镜 (PO)的波像差。2.如权利要求1所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述掩模板(MA)还包括多照明模式模板(5)和会聚透镜￠)，入射到所掩模板(MA)的激光通过所述多照明模式模板(5)后由所述会聚透镜(6)整形，然后照射在所述测试标记(7)上，所述多照明模式模板(5)是具有特定特征图案的掩模板，所述特征图案是能够产生多种照明模式的特征图案；所述参考标记和测试标记的图案位置分布与所述多模式模板上的特征图案的位置分布相同。3.如权利要求2所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述多照明模式模板的特征图案呈三行三列分布。4.如权利要求2所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述掩模板(MA)还包括扩散片(4)，其用于对激光光束在空间上进行均匀化。5.如权利要求1-4中任一项所述的光刻机投影物镜波像差在线测量装置，其特征在于，所述参考标记和测试标记具有相同的图案和图案分布，且其尺寸之...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘广义，齐月静，张清洋，周翊，王宇，
申请(专利权)人：中国科学院光电研究院，
类型：发明
国别省市：