基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台制造技术

基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台属于大规模集成电路制造装备，该装置隔振平台台体由四个均匀分布于下方的隔振器支撑，在隔振平台台体与地面之间配置有X向位移传感器、Z向位移传感器和Y向位移传感器以及X向执行器、Z向执行器和Y向执行器，构成六自由度位置闭环运动伺服系统；本发明专利技术中高度、水平姿态六维位置量可同时测量，并经解耦解算反馈给控制系统，可有效消除隔振平台由于六自由度之间相互耦合引入的位置误差源，大大提高气浮隔振平台的水平姿态精度和隔振性能。

【技术实现步骤摘要】
基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台
本专利技术属于超精密测量与超精密加工装备领域，主要涉及一种基于高度/水平姿 态六维位置检测与控制的隔振平台。
技术介绍
具有高质量隔振性能的平台是进行大规模集成电路制造的基本保证，而同时具有 高精度水平姿态控制的气浮隔振平台是光刻设备核心单元组成之一。平台的水平姿态控制 关系到到光刻设备中计量基准的准确性、控制系统的控制精度和投影物镜的成像质量。大 规模集成电路的刻线宽度的不断的在缩小，目前国外已从45nm线宽发展到ISnm线宽。环 境振动对光刻设备的影响越来越大，气浮隔振平台作为新兴的隔振设备也随着该产业的发 展而发展。而气浮隔振平台的水平姿态则直接影响到其上面激光干涉已和光学成像系统的 精度，因此气浮隔振平台姿态的稳定在光刻设备中显得格外重要。特别是对于我国科研单 位和企业，随着超大规模集成电路制造业的高速发展以及对测量精度和测量稳定性要求的 不断提高，作为基础的隔振平台的稳定性也受到了更加严峻的考验。气浮隔振平台台体水平姿态的检测方案有很多种，精确定位的方法主要是通过建 立直角坐标系来检测水平姿态，测量台体各自由度的位移变化。气浮本文档来自技高网...

【技术保护点】
基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台，其特征在于该装置的隔振平台台体(1)由四个均匀分布于下方的隔振器(2)支撑，所述隔振器(2)包括第一隔振器(2a)、第二隔振器(2b)、第三隔振器(2c)和第四隔振器(2d)；在隔振平台台体(1)与地面之间配置有X向位移传感器(3)、Z向位移传感器(4)和Y向位移传感器(5)，所述X向位移传感器(3)包括X向第一位移传感器(3a)和X向第二位移传感器(3b)，所述Z向位移传感器(4)包括Z向第一位移传感器(4a)、Z向第二位移传感器(4b)以及Z向第三位移传感器(4c)，同时在隔振平台台体(1)与地面之间还设置有X向执行器(6)、Z向执行器(7)...

【技术特征摘要】
1.基于高度/水平姿态六维位置检测与控制的隔振平台，其特征在于该装置的隔振平台台体(1)由四个均匀分布于下方的隔振器(2)支撑，所述隔振器(2)包括第一隔振器 (2a)、第二隔振器(2b)、第三隔振器(2c)和第四隔振器(2d);在隔振平台台体(1)与地面之间配置有X向位移传感器(3)、Z向位移传感器(4)和Y向位移传感器(5),所述X向位移传感器(3)包括X向第一位移传感器(3a)和X向第二位移传感器(3b),所述Z向位移传感器(4)包括Z向第一位移传感器(4a)、Z向第二位移传感器(4b)以及Z向第三位移传感器 (4c)，同时在隔振平台台体⑴与地面之间还设置有X向执行器(6)、Z向执行器(7)和Y 向执行器(8),所述X向执行器(6)包括X向第一执行器(6a)和X向第二执行器(6b),所述 Z向执行器(7)包括Z向第一执行器(7a)、Z向第二执行器(7b)和Z向第三执行器(7c...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雷，谭久彬，赵勃，崔俊宁，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：