球形气动找平机构制造技术

一种球形气动找平机构，包括支座与上板。支座的球形凹面上均布若干个出气口，出气口上固接与球形凹面一致的带有节流孔的节流盖。节流孔气流出口端处在支座与上板之间处，入口端处在支座内部通气道出口处。一个节流盖对应一条支座通气道。通气道汇总后既与压缩空气源相通又与真空源相通。上板的吸盘以及承片台的环形槽均与真空气源相通。支座与上板之间通入压缩空气形成气膜将上板浮起。上板真空吸附承片台，承片台真空吸附基片。上板被气膜浮起后可容易的进行基片找平且找平力还很小；上板和支座的摩损小，增大了两者的使用寿命。压缩空气切换成真空，上板连同基片被锁紧，基片不会产生X、Y方向的位移，减少了基片的损坏率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种接触接近式光刻机对准工作台的找平机构，特别是涉及一种接触接近式光刻机对准工作台的球形气动找平机构。
技术介绍
找平机构是接触接近式光刻机对准工作台部件中的关键装置，也是瓶颈技术，该装置直接体现接触接近式光刻机的研制、生产、制造、装配等技术水平。由于基片上下表面的不平行，在基片吸附固定后与掩膜版表面接触时二者之间会形成一个楔形角，找平机构就是为了消除这个楔形误差，使基片与掩膜版完全接触，接触面达到平行状态。国外接触接近式光刻机的找平机构都是自行研制的，属于核心技术受到保护。国内接触接近式光刻机目前配置的找平机构，普遍采用半球形找平技术，找平时由于凸凹两个半球面直接相互接触相对运动频繁、磨损快，磨损后无法维修，只能进行更换；且找平力大，易造成掩膜版变形从而影响基片曝光质量，特别对于薄基片容易造成碎片。因此，从社会效益和经济效益两方面考虑，研制开发易于找平、找平力小的球形气动找平机构是非常必要的。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对已有接触接近式光刻机找平技术的不足，提供一种接触接近式光刻机能够实现基片与掩膜版找平时易于找平、锁紧时X及Y方向无漂移、找平力小、维护方便的球本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种球形气动找平机构，包括互为呈球形结构且上板2坐落在支座1球形凹面中的支座1与上板2，其特征在于：所述支座1的球形凹面上均布对称设有若干个出气口1’，所述每个出气口1’上均通过螺钉固接一个与支座1球形凹面一致的节流盖3，所述节流盖3与支座1结合部之间设有密封胶圈5，所述节流盖3上设有节流孔，所述节流盖3的节流孔外侧出口端处在所述支座1与上板2之间形成的空间处，内侧入口端处在支座1内部设有的支座通气道出口处，所述一个节流盖3对应一条支座通气道，所述支座1外部设有一个支座进气嘴10，所述若干条支座通气道的进气端汇总与所述支座进气嘴10连通，所述支座进气嘴10与气动系统的调速阀13的出口连接，所述...

【技术特征摘要】
1.一种球形气动找平机构，包括互为呈球形结构且上板2坐落在支座I球形凹面中的支座I与上板2，其特征在于所述支座I的球形凹面上均布对称设有若干个出气口 1’，所述每个出气口 I’上均通过螺钉固接一个与支座I球形凹面一致的节流盖3，所述节流盖3与支座I结合部之间设有密封胶圈5，所述节流盖3上设有节流孔，所述节流盖3的节流孔外侧出口端处在所述支座I与上板2之间形成的空间处，内侧入口端处在支座I内部设有的支座通气道出口处，所述一个节流盖3对应一条支座通气道，所述支座I外部设有一个支座进气嘴10，所述若干条支座通气道的进气端汇总与所述支座进气嘴10连通，所述支座进气嘴10与气动系统的调速阀13的出口连接，所述调速阀13的进口通过串联的两个电磁阀16既与真空泵15管路连接，又通过减压阀19与压缩空气泵14管路连接，所述节流盖3与所述支座I之间形成的空间经过支座进气嘴10通过两个电磁阀16或者与压缩空气泵14连通或者与真空泵15连通； 所述上板2四个角部各设有一个吸盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：李霖，蒲继祖，甄万财，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：