微光刻投射曝光设备的照明系统技术方案

微光刻投射曝光设备的照明系统表现了布置为多镜阵列且能够经由至少一个驱动器倾斜的镜。此外，照明系统表现了用于该镜的驱动电子装置，该驱动电子装置表现了具有第一分辨率的粗数模转换器(68)、具有第二分辨率的精数模转换器(70)，以及加法器(72)，第二分辨率高于第一分辨率，通过两个数模转换器(68、70)输出的输出量能够利用该加法器(72)相加以产生总量。该总量至少能够间接施加于该镜的至少一个驱动器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统具有布置为多镜阵列且能够经由至少ー个驱动器倾斜的镜、和该镜的驱动电子装置，以及还涉及驱动所述镜的方法。
技术介绍
集成电路和其他微结构部件传统上通过将ー些结构层施加到合适的基底来制作，该合适的基底例如可以是硅晶片。为了构造所述层的目的，基底首先涂覆光致抗蚀剂，该光致抗蚀剂对属于特定波长区域的光(例如，深紫外频谱区域(DUV)中的光)敏感。接着，已经以该种方式涂覆的晶片在微光刻投射曝光设备中曝光。在该エ艺中，布置在掩模上的结构的图案借助于投射物镜被成像光致抗蚀剂上。因为在这个エ艺中复制比例通常小于1，所以这种类型的投射物镜也常称作缩小物镜。当光致抗蚀剂已经显影之后，晶片经历刻蚀处理，刻蚀处理的结果是所述层依照掩模上的图案被结构化。接着从所述层的剩余部分移除留下的光致抗蚀剂。重复该过程直到所有层都已经施加到晶片上。所使用的投射曝光设备的性能不仅由投射物镜的成像特性也由使用投射光照明掩模的照明系统来确定。为此目的，照明系统包括光源(例如以脉冲模式工作的激光器)以及从光源产生的光产生在场点会聚到掩模上的光束的若干光学元件。为此，光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括布置为多镜阵列(22)且能够借助于至少一个驱动器(60、E1、E2、E3)倾斜的镜(24)，并且包括所述镜(24)的驱动电子装置(44、46)，其特征在于，产生施加到所述镜(24)的至少一个驱动器(60、E1、E2、E3)的电信号的所述驱动电子装置(44、46)包括积分驱动器级(84)和微分级(86)，所述积分驱动器级包括输入，微分级(86)包括输出，所述微分级(86)的输出至少间接地连接到所述积分驱动器级(84)的输入。

【技术特征摘要】
2007.12.21 US 61/016,1051.微光刻投射曝光设备的照明系统，该照明系统包括布置为多镜阵列(22)且能够借助于至少一个驱动器(60、民、も、も)倾斜的镜(24)，并且包括所述镜(24)的驱动电子装置(44、46),其特征在于,产生施加到所述镜(24)的至少ー个驱动器(G(KEpEpE3)的电信号的所述驱动电子装置(44、46)包括积分驱动器级(84)和微分级(86)，所述积分驱动器级包括输入，微分级(86)包括输出，所述微分级(86)的输出至少间接地连接到所述积分驱动器级(84)的输入。2.根据权利要求1所述的照明系统，其特征在于，在特定应用的集成电路中实施所述积分驱动器级(84)需要小于所述受驱动的镜(24)的面积的50%的面积需求。3.根据前述权利要求中的一项所述的照明系统，其特征在于，所述至少一个驱动器(60、E1. E2、E3)包含电容器(98)，并且所述积分级(84)包含当前镜电路(96)，该当前镜电路具有连接至所述至少一个驱动器^(KEpEpE3)的输出，使得所述积分级能够在所述电容器(98)上执行信号积分。4.根据权利要求3所述的照明系统，其特征在于，所述积分级(84)包含两个电压-电流转换器(92、94)，每ー个所述两个电压-电流转换器(92、94)都具有输出，其中所述两个电压-电流转换器(92、94)的输出连接至所述当前镜电路(96)的输入。5.根据前述权利要求中的一项所述的照明系统，其特征在于，数字地实现所述微分级(86)，并且提供具有数字输入和模拟输出的数模转换器(68、70)，其中所述数字输入连接至所述微分级(86)的输出，而所述模拟输出连接至所述积分级(84)的输入。6.根据权利要求5所述的照明系统，其特征在于，所述微分级(86)作为数字算法实现在所述驱动电子装置中。7.根据权利要求5或6所述的照明系统，其特征在于，所述数模转换器(68、70)包含 a)第一分辨率的...

【专利技术属性】
技术研发人员：简霍恩，克里斯琴肯普特，沃尔夫冈法洛特伯格哈特，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：