一种曝光机对位方法及控制设备技术

本发明专利技术公开了一种曝光机对位方法，用以提高对位成功率，提高生产效率。该方法为：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。本发明专利技术同时公开了一种曝光机对位控制设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种曝光机对位方法及控制设备。
技术介绍
在薄膜晶体管-液晶显不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)生成过程中，需要多次使用光刻エ艺。在光刻エ艺中，利用具有设计图案的光罩(Mask)和紫外光对涂有光刻胶的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在TFT-LCD的生成过程中，需要反复几次进行光刻才能完成薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板的制作。在采用曝光机进行曝光之前，首先需要进行对位操作，对位精度是曝光机的重要參数之一，直接影响曝光效果。在一次曝光过程中，曝光机的主要操作为预对位(Pre-alignment)-> 间距控制(Gap Control)-> 对位(Alignment)-> 曝光(Exposure)。在现有的曝光机对位方式中，通过移动承载光罩的基台(mask stage)进行光罩上的对位标记(mask mark)和基板上的对位标记(work mark)的对准,从而实现对位。但是，现有的对位方式中，由于受到mask stage结构空间限制等因素的影响，使得无法实现mask mark和work mark对准。其中,往往会因为对位标记超出视野范围太多导致聚焦清晰度过低(即聚焦得分值(Score)较低)，使得需要进行人为判定，曝光机只能处于暂时等待状态，不能正常进行曝光。这就会影响设备的稼动率，降低生产效率。这就需要寻求ー种新的曝光机对位方法，以提高对位成功率。
技术实现思路
本专利技术提供一种曝光机对位方法及控制设备，用以提高对位成功率，提高生产效率。本专利技术实施例提供的具体技术方案如下一种曝光机对位方法,包括移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。一种曝光机对位控制设备，包括第一控制模块，用于控制移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；第二控制模块，用于确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，控制移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。基于上述技术方案，本专利技术实施例中，在移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作失败时，移动承载基板的基台进行基板的对位标记与光罩的对位标记的对准操作，由于承载基板的基台不受设计空间的限制，其移动幅度可以满足对位标记匹配的需要，有效避免了传统的仅移动承载光罩的基台进行对位标记对准的操作所导致的无法对准的情况，提高了对位成功率，进而提高了生产效率。附图说明图1为现有的对基板进行曝光的剖面结构示意图；图2为本专利技术实施例中实现曝光机对位的方法流程图；图3为本专利技术实施例中对work mark进行拆分的示意图；图4a为本专利技术实施例中初始时监视范围内的对位标记位置示意图；图4b为本专利技术实施例中移动work mark至监视范围中心的示意图；图4c为本专利技术实施例中work mark与mask mark对准的示意图；图5为本专利技术具体实施例中进行对位的方法流程图；图6为本专利技术实施例中曝光机对位控制设备的结构示意图。具体实施例方式为了避免传统的仅移动承载光罩的基台进行对位标记对准的操作所导致的无法对准的情况，提闻对位成功率，以及提闻生广效率，本专利技术实施例提供了一种隱光机对位方法。下面结合附图对本专利技术优选的实施方式进行详细说明。如附图1所示为对基板进行曝光的剖面结构示意图，其中，包括用于承载光罩(mask) 102的基台(mask stage)101,maskl02以真空吸附的方式吸附于mask stagelOl的下表面，以及包括承载基板(Glass) 103的基台(work stage) 104, Glassl03放置于workstagel04的上表面，还包括用于支撑Glassl03的支撑脚(work pin) 105,该支撑脚105上下贯穿work stagel04,以支撑Glassl03上下移动。基于附图1所示的结构，如附图2所示，本专利技术实施例中，曝光机对位的详细方法流程如下步骤201 :移动承载光罩的基台(mask stage)进行光罩的对位标记(maskmark)与基板的对位标记(work mark)的对准操作。步骤202 :确定未实现mask mark与work mark的对准时,移动承载基板的基台(.work stage)进打 mask mark 与 work mark 的对准操作。优选地,本专利技术实施例中，在进行mask mark与work mark的对准操作之前,将work mark拆分为一个以上的子对位标记，即将work mark的图案划分为多个子图案,姆个子图案对应ー个子对位标记。该优选地实施例中,进行mask mark与work mark的对准操作的具体过程为在视野范围内依次搜索各子对位标记，在确定搜索到至少ー个子对位标记后，移动mask stage或work stage进行mask mark与搜索到的子对位标记的对准操作。在ー个具体实现中，如附图3所示，在将work mark拆分为ー个以上的子对位标记时，以work mark的对称中心为坐标原点，以横坐标轴和纵坐标轴为分割线，将work mark划分为4个子对位标记。在进行mask mark与work mark的对准操作时,在视野范围内依次搜索4个子对位标记,在确定搜索到一个子对位标记后,移动mask stage或work stage进行mask mark与搜索到该子对位标记的对准操作。该优选地实施例中,通过将work mark拆分为多个子对位标记,在视野范围内搜索各子对位标记，采用捜索到的子对位标记与mask mark进行对准操作，从而可以避免现有的对位方式中，在work mark不能完全出现在视野范围内时，由于无法有效识别work mark而导致对位失败，使得能够在只有作为work mark—部分的子对位标记出现在视野范围内，SP可有效识别work mark,进而实现mask mark与work mark的对准操作，进一步提高了对位成功率。例如，如附图4a 图4c所示，在基板相对两侧分别设置有work mark,假设前监视器(Front monitor)的视野范围对应显示一侧work mark的对位过程,后监视器(Backmonitor)的视野范围对应显示另一侧work mark的对位过程。如附图4a所示,初始时workmark仅有一半出现在视野中心,若以完整的workmark的图案在监视范围内进行搜索,则搜索到work mark的可能性较小,若以拆分后的4个l/4work mark在监视范围内进行搜索,贝U位于视野范围内的部分work mark中,可以搜索到拆分后的4个l/4work mark中的两个，米用搜索到的其中一个l/4work mark进行对位操作，即可使得work mark和mask mark对准至视野中心。优选地,步骤201可重复执行设定次数。具体地,移动mask stage进行mask mark与work ma本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机对位方法，其特征在于，包括：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机对位方法，其特征在于，包括移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作之前，包括将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记，具体包括以所述基板的对位标记的对称中心为坐标原点，以横坐标轴和纵坐标轴为分割线，将所述基板的对位标记划分为4个子对位标记。4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，具体包括在视野范围内依次搜索各子对位标记，在确定搜索到至少一个所述子对位标记后，移动承载光罩的基台或承载基板的基台进行光罩的对位标记与搜索到的所述子对位标记的对准操作。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，再次移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，直至移动光罩的对位标记达到第一设定次数为止。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，再次移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，直至移动承载基板的基台达到第二设定次数为止。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一设定次数为5次，所述第二设定次数为15次。8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，徐先华，张力舟，张磊，吴琪，贾富强，刘志，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：