一种曝光机对位方法及控制设备技术

本发明专利技术公开了一种曝光机对位方法，用以提高对位成功率，提高生产效率。该方法为：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。本发明专利技术同时公开了一种曝光机对位控制设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种曝光机对位方法及控制设备。
技术介绍
在薄膜晶体管-液晶显不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)生成过程中，需要多次使用光刻エ艺。在光刻エ艺中，利用具有设计图案的光罩(Mask)和紫外光对涂有光刻胶的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在TFT-LCD的生成过程中，需要反复几次进行光刻才能完成薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板的制作。在采用曝光机进行曝光之前，首先需要进行对位操作，对位精度是曝光机的重要參数之一，直接影响曝光效果。在一次曝光过程中，曝光机的主要操作为预对位(Pre-alignment)-> 间距控制(Gap Control)-> 对位(Alignment)-> 曝光(Exposure)。在现有的曝光机对位方式中，通过移动承载光罩的基台(mask stage)进行光罩上的对位标记(mask mark)和基板上的对位标记(work mark)的对准,从而实现对位。但是，现有的对位方式中，由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机对位方法，其特征在于，包括：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机对位方法，其特征在于，包括移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作之前，包括将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，将所述基板的对位标记拆分为一个以上的子对位标记，具体包括以所述基板的对位标记的对称中心为坐标原点，以横坐标轴和纵坐标轴为分割线，将所述基板的对位标记划分为4个子对位标记。4.如权利要求2或3所述的方法，其特征在于，进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，具体包括在视野范围内依次搜索各子对位标记，在确定搜索到至少一个所述子对位标记后，移动承载光罩的基台或承载基板的基台进行光罩的对位标记与搜索到的所述子对位标记的对准操作。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，再次移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，直至移动光罩的对位标记达到第一设定次数为止。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，若确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，再次移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作，直至移动承载基板的基台达到第二设定次数为止。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一设定次数为5次，所述第二设定次数为15次。8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的...

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，徐先华，张力舟，张磊，吴琪，贾富强，刘志，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：