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本发明公开了一种曝光机对位方法，用以提高对位成功率，提高生产效率。该方法为：移动承载光罩的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标记的对准操作；确定未实现光罩的对位标记与基板的对位标记的对准时，移动承载基板的基台进行光罩的对位标记与基板的对位标...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。