待曝光基材及底片的对位方法及影像检测对位系统技术方案

技术编号:8562428 阅读:247 留言:0更新日期:2013-04-11 03:58
本发明专利技术公开一种待曝光基材及底片的对位方法及其影像检测对位系统,旨在提供一种在待曝光基材及底片中,无需特殊的对位标靶,就可精确对位的方法及检测系统;其技术要点:至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作,该方法包括下述步骤:(a)每个摄影单元分别拍摄一张影像,每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界;(b)控制装置定位出步骤(a)中影像的基材边缘及底片边界;(c)控制装置根据步骤(b)中定位的基材边缘及该底片边,计算一偏移量;(d)控制装置根据步骤(c)计算的偏移量驱动调整机构,并依次调整基材及该底片的相对位置,使该基材及该底片彼此对齐;属于影像技术领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基材及底片的对位曝光技术,具体地说,是一种待曝光基材及底片的对位方法,本专利技术还涉及实现该方法的影像检测对位系统。
技术介绍
高端的电子产品如移动电话、液晶显示器、平板电脑、照相装置、个人数位助理等,其显示荧幕的线路设计日趋精细,许多制造过程的精度要求也更加严格,例如曝光制造过程,以目前多以人工目测的对位方式,但该对位方式很难以应付未来更为严苛的要求。此夕卜,目前以十字形、圆形或方形的特殊的对位标靶图形,无法应用在透明基材上,如触控面板。
技术实现思路
针对上述问题,本专利技术提供一种在待曝光基材及底片中,无需特殊的对位标靶,就可精确对位的方法及检测系统。为解决上述技术问题,本专利技术的提供前一技术方案是这样的一种待曝光基材及底片的对位方法,至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作,所述的控制装置控制调整机构以调整该基材及该底片的相对位置,该方法包括下述步骤(a)每个摄影单元分别拍摄一张影像,每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界;(b)控制装置定位出步骤(a)中影像的基材边缘及底片边界;(c)控制装置根据步骤(b)中定位的基材边缘及该底片边,计算一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种待曝光基材及底片的对位方法,其特征在于,至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作,所述的控制装置控制调整机构以调整该基材及该底片的相对位置,该方法包括下述步骤:(a)每个摄影单元分别拍摄一张影像,每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界;(b)控制装置定位出步骤(a)中影像的基材边缘及底片边界;(c)控制装置根据步骤(b)中定位的基材边缘及该底片边,计算一偏移量;(d)控制装置根据步骤(c)计算的偏移量驱动调整机构,并依次调整基材及该底片的相对位置,使该基材及该底片彼此对齐。

【技术特征摘要】
1.一种待曝光基材及底片的对位方法,其特征在于,至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作,所述的控制装置控制调整机构以调整该基材及该底片的相对位置,该方法包括下述步骤 (a)每个摄影单元分别拍摄一张影像,每张影像的视野范围包括基材边缘及底片边界; (b)控制装置定位出步骤(a)中影像的基材边缘及底片边界; (c)控制装置根据步骤(b)中定位的基材边缘及该底片边,计算一偏移量; (d)控制装置根据步骤(C)计算的偏移量驱动调整机构,并依次调整基材及该底片的相对位置,使该基材及该底片彼此对齐。2.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法,其特征在于,所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材边缘,所述的控制装置的调节步骤如下 步骤(b)是先定位出第一张影像中的底片边界与影像中心线的第一交点,再定位出第二张影像中的底片边界与影像中心线的第二交点; 步骤(C)是先计算该第一交点及该第二交点之间的距离,再计算出第一张影像中过第一交点与相应的第一底片边界垂直的第一间距,以及第二张影像中第二交点与相应的第二底片边界垂直的第二间距,最后将所述的两交点之间的距离、第一间距和第二间距代入三角函式换算一偏移角度; 步骤(d)是根据步骤(c)的偏移角度驱动该调整机构,调整该基材的位置。3.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法,其特征在于,所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材的上边缘和下边缘,所述的控制装置的调节步骤如下 步骤(b)分别定位出两张影像中的基材边缘及底片边界; 步骤(C)先计算出第一张影像的基材边缘与对应的底片上边界之间的上间距,再计算出第二张影像的基材边缘与对应的底片下边界之间的下间距; 步骤(d)根据步骤(c)所述的上间距和下间距之差值调整基材的位置,使上方间距与下间距基本相等。4.根据权利要求1所述的待曝光基材及底片的对位方法,其特征在于,所述的摄影单元的拍摄位置朝向基材的左边缘和右边缘,所述的控制装置的调节步骤如下 步骤(b)分别定位出两张影像中的基材边缘及底片边界; 步骤(C)计算第一张影像的基材边缘与相应的底片边界之间的左间距,再计算出第二张影像的基材边缘与相应的底片边界之间的右间距; 步骤(d)根据步骤(c)所述的左间距及右方距之差值调整该基材的位置,使左间距和右方距基相等。5.一种待曝光基材及...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐嘉伟王启毓张茂和
申请(专利权)人:志圣科技广州有限公司
类型:发明
国别省市:

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