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本发明公开一种待曝光基材及底片的对位方法及其影像检测对位系统，旨在提供一种在待曝光基材及底片中，无需特殊的对位标靶，就可精确对位的方法及检测系统；其技术要点：至少有二组摄影单元、一套调整机构和一个控制装置配合运作，该方法包括下述步骤：（a）...
该专利属于志圣科技（广州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过志圣科技（广州）有限公司授权不得商用。

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