检测底片误差的方法及其系统技术方案

一种检测底片误差的方法，其包含：一提供步骤，一配置步骤，及一检测步骤。该提供步骤提供一层设置于一个曝光装置上且具有至少四个定位符号的透光基板，及一层具有至少四个相对应所述定位符号的对位符号的底片。该配置步骤将该底片设置于该透光基板上。该检测步骤量测所述定位符号与所述对位符号的偏移量，得到该底片的误差值。本发明专利技术还提供执行上述方法的系统。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种检测底片误差的方法及其系统，特别是涉及一种用于曝光装置的即时检测底片误差的方法及其系统。
技术介绍
现有印刷电路板上的线路图案的形成方式，主要是先于一可透光的底片上形成预先设计好的线路图案，再以曝光显影技术于一玻璃纤维基板上显影出该底片上的线路图案，再进行后续加工制程以制得该印刷电路板。其中，在进行曝光显影步骤前，必须利用该底片的对位靶与该玻璃纤维基板对位孔准确的进行对位，才能使得该底片上的线路图案精准的形成于该基板的预定位置上。一般而言，该底片上的线路图案会先于底片室中设计完成后，再拿到制程现场装设于曝光机台上以与该玻璃纤维基板进行对位及后续的曝光显影制程。然而，当该底片与该玻璃纤维基板无法对位成功时，并无法即时判读是底片或是玻璃纤维基板的误差，而造成对位问题。目前通常是将该底片拆卸下来，送回底片室进行尺寸确认，确定是该底片的尺寸产生变形后，才会汰换该底片，然而，在拆卸底片的过程中，往往有容易因为拆卸造成底片的变形，又进一步影响判断的结果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可即时检测底片误差的方法。本专利技术检测底片误差的方法包含：一提供步骤、一配置步骤，及一检测步骤。该提供步骤提供一装设于一曝光装置的透光基板，及一底片，该透光基板具有至少四个位置彼此相对且具有预设间距的定位符号，该底片具有一成预定线路图案的线路区，及至少四个与该预定线路图案于同一制程形成，并位于该线路区外的对位符号，该透光基板及该底片各自具有一对位点，且所述对位符号的位置与所述定位符号相对
应。该配置步骤利用该透光基板及该底片的对位点对位，将该底片定位于该透光基板上，并令所述定位符号与所述对位符号各自对应。该检测步骤是量测所述定位符号与所述对位符号的偏移量，得到该底片的误差值。本专利技术的检测底片误差的方法，该透光基板及该底片的对位点是选自其中至少一个相对应的定位符号及对位符号。本专利技术的检测底片误差的方法，该底片概呈矩形，且该底片还具有一围绕该线路区的无效区，该底片的四个对位符号是对应形成于该无效区的四个对角位置。本专利技术的检测底片误差的方法，该提供步骤还提供四个侦测元件，该检测步骤是透过所述侦测元件计算该每一个定位符号与相对应的该每一个对位符号的中心点的偏移量，得到该底片的误差值。本专利技术的检测底片误差的方法，该提供步骤还进一步地对该透光基板定义两条彼此间隔并沿一第一方向延伸的第一定位线，及两条彼此间隔并沿一垂直该第一方向的第二方向延伸的第二定位线，并对该底片定义两条沿该第一方向延伸的第一对位线，及两条沿该第二方向延伸的第二对位线，其中，所述第一定位线与所述第二定位线的交点分别为该四个定位符号的中心点，所述第一对位线与所述第二对位线的交点分别为该四个对位符号的中心点，该配置步骤是将所述对位线的其中一条与相对应的所述定位线的其中一条进行对位，将该底片定位于该透光基板上，该检测步骤量测所述定位线与所述对位线的偏移量，得到该底片的误差值。本专利技术的检测底片误差的方法，该提供步骤还进一步地对该透光基板定义两条成角度且分别通过二个位于对角的定位符号的中心点的第三定位线，并对该底片定义两条成角度且分别通过二个位于对角的对位符号的中心点的第三对位线。本专利技术的检测底片误差的方法，所述定位符号是以铣刀加工或印刷方式形成于该透光基板。本专利技术的另一目的在于提供一种检测底片误差的系统，该系统包含一曝光装置及至少四个侦测元件。该曝光装置包括一对位平台，及一位于该对位平台上的透光基板，该底片设置于该透光基板上并位于该对位平台与该透光基板之间，该透光基板具有至少四个与所述对位符号的位置相对应的定位符号。该侦测单元位于该透光基板上，量测并计算该每一个定位符号与相对应的该每一个对位符号的中心点的偏移量，得到该底片的误差值。本专利技术的检测底片误差的系统，该透光基板的定位符号的位置对该底片的投影是位于该线路区外，且所述定位符号的位置彼此相对并具有预设间距。本专利技术的检测底片误差的系统，该侦测单元具有多个对应所述定位符号的电耦合元件。本专利技术的有益效果在于：在曝光装置的透光基板形成所述定位符号，并在该底片的线路区外形成相对应所述定位符号的所述对位符号，并将该底片定位于该透光基板上，量测所述定位符号与所述对位符号的偏移量，而能即时检测该底片的误差值。附图说明图1是一立体分解图，说明本专利技术检测底片误差的系统；图2是一流程图，说明本专利技术检测底片误差的方法的流程图；图3是一省略四个侦测元件的俯视图，说明本专利技术检测底片误差的方法的一第一实施例；图4是一立体分解图，说明本专利技术检测底片误差的方法的一第二实施例；图5是一省略所述侦测元件的俯视图，辅助说明图4的第二实施例；图6是一省略所述侦测元件的俯视图，说明本专利技术检测底片误差的方法的一第三实施例。具体实施方式下面结合附图及实施例对本专利技术进行详细说明。参阅图1，本专利技术检测底片误差的系统的一实施例，适用于检测
待曝光的一底片31的误差值。其中，该底片31包括一具有成预定线路图案300的线路区311、一围绕该线路区311的无效区312，及至少四个位于该线路区311外的对位符号313。该系统的实施例包含一曝光装置2，及一个侦测单元20。该曝光装置2为目前产业上用于制造半导体集成电路的自动曝光机，图1显示的曝光装置2为自动曝光机的示意图，以公开与本专利技术相关的主要元件作说明。该曝光装置2包括一对位平台200，及一位于该对位平台200上的透光基板22。具体地说，该对位平台200是用于承载一片曝光基板21，该曝光基板21具有一形成线路图案的曝光区211，及一围绕该曝光区211的非曝光区212。本实施例的该曝光基板21便为现有用以将集成电路形成于其上的印刷电路板(printed circuit board，PCB)。该透光基板22间隔地设置于该曝光基板21上，且是由一可供曝光光线穿透的材质所构成，本例的透光基板22是以玻璃材质所构成的玻璃基板为例作说明。值得一提的是，本例的透光基板22具有至少四个彼此相对并具有预设间距的定位符号221。较佳地，本例的该透光基板22以具有四个定位符号221为例作说明。所述定位符号221分别地形成于该透光基板22的四个对角位置。更佳地，所述定位符号221位于四个对角位置而概成矩形，因此，本例中的所述定位符号221所具有的预设间距是根据此矩形的长宽大小而对应地改变，且所述定位符号221位于该透光基板22的四个对角位置对该曝光基板21的投影，是位于该曝光基板21的非曝光区212的四个对角。该侦测单元20位于该透光基板22上，用以量测并计算该每一个定位符号221与相对应的该每一个对位符号313的中心点的偏移量，以得到该底片31的误差值。要说明的是，该侦测单元20可以视操作及设计需求而仅具有一个或两个侦测元件231，并利用移动该侦测元件231的方式分别量测对应的该每一个定位符号221与相对应的该每一个对位符号313的中心点的偏移量，或是可具有多个分别对应所述对位符号313设置的侦测元件231，而不须于量测过程中移动该侦测元件231。于本实施例中，该侦测单元20是具有四个对应所述定位符
号221设置的侦测元件231，且是以能将影像讯号转成数字讯号的电耦合元件(charge-coupled 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测底片误差的方法，其特征在于：包含一提供步骤，一配置步骤，及一检测步骤，该提供步骤是提供一装设于一曝光装置的透光基板，及一底片，该透光基板具有至少四个位置彼此相对且具有预设间距的定位符号，该底片具有一成预定线路图案的线路区，及至少四个与该预定线路图案于同一制程形成，并位于该线路区外的对位符号，该透光基板及该底片各自具有一对位点，且所述对位符号的位置与所述定位符号相对应；该配置步骤是利用该透光基板及该底片的对位点对位，将该底片定位于该透光基板上，并令所述定位符号与所述对位符号各自对应；该检测步骤是量测所述定位符号与所述对位符号的偏移量，得到该底片的误差值。

【技术特征摘要】
1.一种检测底片误差的方法，其特征在于：包含一提供步骤，一配置步骤，及一检测步骤，该提供步骤是提供一装设于一曝光装置的透光基板，及一底片，该透光基板具有至少四个位置彼此相对且具有预设间距的定位符号，该底片具有一成预定线路图案的线路区，及至少四个与该预定线路图案于同一制程形成，并位于该线路区外的对位符号，该透光基板及该底片各自具有一对位点，且所述对位符号的位置与所述定位符号相对应；该配置步骤是利用该透光基板及该底片的对位点对位，将该底片定位于该透光基板上，并令所述定位符号与所述对位符号各自对应；该检测步骤是量测所述定位符号与所述对位符号的偏移量，得到该底片的误差值。2.根据权利要求1所述的检测底片误差的方法，其特征在于：该透光基板及该底片的对位点是选自其中至少一个相对应的定位符号及对位符号。3.根据权利要求1所述的检测底片误差的方法，其特征在于：该底片概呈矩形，且该底片还具有一围绕该线路区的无效区，该底片的四个对位符号是对应形成于该无效区的四个对角位置。4.根据权利要求1所述的检测底片误差的方法，其特征在于：该提供步骤还提供四个侦测元件，该检测步骤是透过所述侦测元件计算该每一个定位符号与相对应的该每一个对位符号的中心点的偏移量，得到该底片的误差值。5.根据权利要求1所述的检测底片误差的方法，其特征在于：该提供步骤还进一步地对该透光基板定义两条彼此间隔并沿一第一方向延伸的第一定位线，及两条彼此间隔并沿一垂直该第一方向的第二方向延伸的第二定位线，并对该底片定义两条沿该第一方向延伸的第一对位线，及两条沿该第二方向延伸的第二对位线，其中，所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐嘉伟，王啓毓，
申请(专利权)人：志圣工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71