【技术实现步骤摘要】
一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路
技术介绍
在微电子生产エ艺中，光刻设备曝光光源的稳定度对电子元器件的成品率和质量有着直接的影响。随着微电子器件エ艺和制造技术的不断发展，光学微细加工逐渐向高集成度、超微细线宽方向迈进，这样对微电子光刻设备曝光光源的稳定度提出了更高的要求。目前，一些光刻设备曝光光源采用线性电源或恒流控制的开关电源以控制超高压汞灯发光，光强稳定度不高，很难满足生产エ艺的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，g在解决现有光刻设备中超高压汞灯的光强稳定度不高的问题。为实现上述的目的，本专利技术所采用的技术方案如下 一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，包括 光强反馈模块，用于将光强基准信号与采样的超高压汞灯紫外光强信号差分放大后形成光强反馈信号输出； 功率反馈模块，用于将采样的超高压汞灯电压信号及电流信号运算放大后相乘形成功率反馈信号，经滤波及信号调节后输出； 运算与处理模块，用于对所述光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，经滤波及调节处理后输出到脉宽控制模块； 脉宽控制器模块，用于根据所述信号...
【技术保护点】
一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，包括：光强反馈模块，用于将光强基准信号与采样的超高压汞灯紫外光强信号差分放大后形成光强反馈信号输出；功率反馈模块，用于将采样的超高压汞灯电压信号及电流信号运算放大后相乘形成功率反馈信号，经滤波及信号调节后输出；运算与处理模块，用于对所述光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，经滤波及调节处理后输出到脉宽控制模块；脉宽控制器模块，用于根据所述信号运算与处理模块的输出信号调节功率变换电路中的高压脉冲占空比，实现对超高压汞灯光强度的控制。
【技术特征摘要】
1.一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，包括 光强反馈模块，用于将光强基准信号与采样的超高压汞灯紫外光强信号差分放大后形成光强反馈信号输出； 功率反馈模块，用于将采样的超高压汞灯电压信号及电流信号运算放大后相乘形成功率反馈信号，经滤波及信号调节后输出； 运算与处理模块，用于对所述光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，经滤波及调节处理后输出到脉宽控制模块； 脉宽控制器模块，用于根据所述信号运算与处理模块的输出信号调节功率变换电路中的高压脉冲占空比，实现对超高压汞灯光强度的控制。2.根据权利要求1所述的一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，所述光强反馈模块包括基准电压源、用于检测所述汞灯紫外光强信号的紫外光传感器，输入端分别与所述基准电压源、紫外光传感器之输出端连接的差分放大器，所述差分放大器输出端连接所述运算与处理模块的输入端。3.根据权利要求2所述的一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，所述差分放大器包括第四运算放大器N4 ;所述第四运算放大器N4同相输入端分别经电阻RIO、R9与电位器RPl动臂和地相接，所述电位器RPl —端接所述紫外光传感器输出端，另一端接地；所述第四运算放大器N4反相输入端经电阻Rll接电位器RP2动臂，电位器RP2一端接所述基准电压源+5V输出端，另一端接地；第四运算放大器N4反相输入端与输出端间接电阻R12。4.根据权利要求1所述的一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，所述功率反馈模块包括用于检测超高压汞灯电压信号及电流信号的电压传感器与电流传感器、模拟乘法器、第一滤波及信号调节电路；所述电压传感器和电流传感器输出端分别经第一放大器与第二放大器连接所述模拟乘法器的输入端，所述模拟乘法器输出端经第一滤波及信号调节电路接所述运算与处理模块的输入端。5.根据权利要求4所述的一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，所述电压传感器和电流传感器均采用霍尔磁平衡传感器。6.根据权利要求4所述的一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，所述第一放大器和第二放大器结构相同；所述第一放大器包含第一运算放大器NI ;所述第一运算...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫平，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：
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