一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。本实用新型专利技术还提供一种阵列光刻工艺设备。本实用新型专利技术的有益效果是：减压干燥的同时进行加热，将减压干燥工艺和前烘工艺同时进行，降低成本、提高生产效率。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
—种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备
本技术涉及液晶产品工艺
，尤其涉及一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备。
技术介绍
TFT-LCD (薄膜晶体管液晶显不器，Thin Film Transistor-LiquidCrystalDisplay)不断向高世代发展，玻璃基板不断增大，产能不断提高。各厂商为了提高竞争力，在不断提高产品性能和开发新产品的同时，还在成本的降低上做着各种努力。如图1所示，现有技术中的减压干燥装置，包括干燥室I和设置与干燥室I内的用于承载玻璃基板的承载台2，所述承载台2由多个独立且位于同一水平面的承载板间隔组成。如图2所示，现有的烘烤装置，包括本体1，所述本体I包括多层设置的烤箱2。在传统的光刻设备中减压干燥设备和前烘设备是完全独立的设备，不仅增加了设备，还增占了厂房面积(光刻产线是Array厂房中最长的产线)，而且加大了对设备维护的难度。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术提供一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备，提闻生广效率。为了达到上述目的，本技术采用的技术方案是:一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括:干燥室；用于承载玻璃基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；其特征在于，所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。

【技术特征摘要】
1.一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括: 干燥室； 用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内； 其特征在于，所述减压干燥装置还包括: 用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。2.根据权利要求1所述减压干燥装置，其特征在于，所述承载台包括一第一承载板，所述第一承载板的外表面形成用于承载玻璃基板的承载面。3.根据权利要求1或2所述减压干燥装置，其特征在于，所述承载台还包括与所述第一承载板叠置的第二承载板，所述第一承载板和所述第二承载板之间具有间隙形成用于容纳所述加热结构的容纳空间。4.根据权利要求3所述减压干燥装置，其特征在于，所述加热结构包括一电加热板。5.根据权利要求2所述减压干燥装...

【专利技术属性】
技术研发人员：张民，周子卿，王涛，吴磊，陈朋，
申请(专利权)人：北京京东方显示技术有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11