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本实用新型提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备。本...该专利属于北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。