光刻装置和检测物体的正确夹紧的方法制造方法及图纸

公开了一种光刻装置（１），其包括可夹紧物体（Ｗ；ＭＡ；５）的支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）。支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）和夹紧于其上的物体（Ｗ；ＭＡ；５）形成了隔腔。供给装置（１１）与隔腔相连并为隔腔提供流体。供给装置（１１）包括仪表（１５），其可测量流体的流速或压力中至少一个的变化。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻投影装置，其包括至少一个可在其上夹紧物体的支撑结构，支撑结构和夹紧在该支撑结构上的物体形成了隔腔；以及与所述隔腔相通的供给装置，所述供给装置构造并设置成可为所述隔腔提供流体。
技术介绍
通常在光刻投影装置中，至关重要的是能够检测物体是否已被正确地放置在支撑结构上。例如晶片台上的晶片或掩模台上的掩模均是这种情况。为此，支撑结构和/或物体设计成使得能与放置于该支撑结构上的物体一起形成一个封闭的空间。在大气状况下工作的光刻装置中，物体通常通过抽空所述封闭空间而与支撑结构相连或被“夹紧”。然后通过测量该空间内的压力或该空间的流量来检测物体在支撑结构上的存在。当存在物体时，压力或流量与不存在物体时不同。然而，对于在相对较高的真空状况下工作的光刻装置如采用远紫外线辐射(EUV)的光刻装置来说，这一原理并不可行。在这种真空环境下，夹紧通过静电力来实现。已经提出了电容性测量来检测物体是否已被正确地放置或具有良好的接触。由于对电磁干扰的敏感性，或者由于很多种物体材料均具有不同的电性质，使得其电容存在着不同的变化，因此这种测量同样并不能很好地实行。从上述中可以清楚，现有技术中存本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻装置（１），包括：－至少一个可在其上夹紧物体（Ｗ；ＭＡ；５）的支撑结构（ＭＴ；ＷＴ），所述支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）和夹紧在所述支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）上的所述物体（Ｗ；ＭＡ；５）形成了隔腔，和－与所述隔腔相通的供给装置（１１），所述供给装置（１１）构造并设置成可为所述隔腔提供流体，其中，所述供给装置（１１）包括设置成可测量流体流速和流体压力中的至少一个随时间的变化的仪表（１５），以便检测所述物体（Ｗ；ＭＡ；５）是否被正确地夹紧在所述支撑结构（ＭＴ；ＷＴ）上。

【技术特征摘要】
EP 2003-2-12 03075415.41.一种光刻装置(1)，包括-至少一个可在其上夹紧物体(W；MA；5)的支撑结构(MT；WT)，所述支撑结构(MT；WT)和夹紧在所述支撑结构(MT；WT)上的所述物体(W；MA；5)形成了隔腔，和-与所述隔腔相通的供给装置(11)，所述供给装置(11)构造并设置成可为所述隔腔提供流体，其中，所述供给装置(11)包括设置成可测量流体流速和流体压力中的至少一个随时间的变化的仪表(15)，以便检测所述物体(W；MA；5)是否被正确地夹紧在所述支撑结构(MT；WT)上。2.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述仪表(15)是与控制单元相连的流速计，所述控制单元设置成可接收表示了所述流体的流速的值，并设置成可确定所述流体的流速随时间的变化和将所述变化与所述变化的预定值进行比较。3.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述仪表(15)是与控制单元相连的压力计，所述控制单元设置成可接收表示了所述流体的压力的值，并设置成可确定所述流体的压力随时间的变化和将所述变化与所述变化的预定值进行比较。4.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1)，其特征在于，所述至少一个支撑结构包括-用于支撑图案形成装置(MA)的第一支撑结构(MT)，所述图案形成装置(MA)用于根据所需的图案使投影光束(PB)形成图案，-用于固定衬底(W；5)的第二支撑结构(WT)，并且所述装置(1)还包括-用于提供辐射投影光...

【专利技术属性】
技术研发人员：HAJ尼霍夫，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]