光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件制造方法及图纸

本发明专利技术提出光刻装置、器件制造方法及其由此而制造的器件。在密封有基片平台ＷＴ的壳体１０与用于制备基片的处理单元１１之间传递基片，在一个基本不含杂质的环境中进行，这样基片上的抗蚀剂在杂质中暴露的最少，其中处理单元用于使基片曝光并在曝光后对基片进行处理。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻的投影装置，它包括-提供投影辐射束的辐射系统；-支撑图案形成部件的支撑结构，该图案形成部件根据所需图形对投影光束进行构图；-用于保持基片的基片平台；-投影系统，用于将已形成图案的光束投影到基片上的靶部；-处理单元，在基片曝光于投影束之前和/或之后用于处理基片；-传输单元，用于在基片平台和处理单元之间传输基片。
技术介绍
此处所用的术语“图案形成部件”泛指可在入射的辐射束的横截面上形成图案的部件，该图案与在基片的靶部所产生的图案相对应；术语“光阀”也可用于这一语境。一般来说，所述的图案会对应于在靶部所产生的器件内的特定功能层，例如集成电路或其它的器件(见下文)。例如，此类图案形成部件包括一掩模。掩模的概念在光刻领域是众所周知的，它包括各种类型的掩模，例如二元的、交替相移的和衰减相移的，还有各种混合类型的掩模。布置在辐射束中的掩模会根据其上的图案使投射到掩模上的辐射有选择地透射(在采用透射掩模的情况下)或反射(在采用反射掩模的情况下)。在用掩模时，支撑结构一般是掩模平台，该平台可以确保掩模保持在入射的辐射束中的合适位置，该平台还可以确保掩模在需要时可相对于光束移本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻的投影装置，包括：－提供投影辐射束的辐射系统；－支撑图案形成部件的支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；－用于保持基片的基片平台；－投影系统，用于将形成有图案的光束投影到基片上的靶部； －处理单元，在基片曝光于投影束之前和／或之后用于处理基片；－传输单元，用于在基片平台和处理单元之间传输基片；其特征在于具有用于控制传输单元中各杂质组分的分压力的部件，可将水的分压力控制至小于１×１０↑［－２］毫巴，将 烃的分压力控制至小于１×１０↑［－４］毫巴，将氨类物质例如氨的分...

【技术特征摘要】
EP 2002-8-30 02256036.11.一种光刻的投影装置，包括-提供投影辐射束的辐射系统；-支撑图案形成部件的支撑结构，该图案形成部件用于使投影束形成所需要的图案；-用于保持基片的基片平台；-投影系统，用于将形成有图案的光束投影到基片上的靶部；-处理单元，在基片曝光于投影束之前和/或之后用于处理基片；-传输单元，用于在基片平台和处理单元之间传输基片；其特征在于具有用于控制传输单元中各杂质组分的分压力的部件，可将水的分压力控制至小于1×10-2毫巴，将烃的分压力控制至小于1×10-4毫巴，将氨类物质例如氨的分压力控制至小于1×10-6毫巴，最好小于1×10-7毫巴。2.如权利要求1所述的光刻的投影装置，其特征在于还包括用于将传输单元内杂质的分压力控制至小于1毫巴的部件。3.如权利要求1或2所述的光刻的投影装置，其特征在于用于控制传输单元中的水和烃的分压力的部件将水的分压力控制至小于1×10-5毫巴，将烃的分压力控制至小于1×10-7毫巴。4.如权利要求1或2或3所述的光刻的投影装置，其特征在于用于控制传输单元中的水、烃和/或氨类物质的分压力的部件将传输单元基本上抽空。5.如权利要求4所述的光刻的投影装置，其特征在于在环绕所述基片平台的空间和所述的处理单元中至少有一个被抽空。6.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：K范恩根谢诺，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]