【技术实现步骤摘要】
一种晶圆干燥设备
本专利技术属于晶圆加工领域,具体涉及到一种晶圆干燥设备。
技术介绍
晶圆是指圆形的硅晶片,可在其上加工成电路元件结构,而成为集成电路产品,由于晶圆在加工制作中,表面将会有灰尘等污渍附着在晶圆表面,使其在日后的电路工作中带来缺陷,故而在完成晶圆的加工后,需要对其进行清洗,而后再进行干燥,故而需要用到晶圆干燥设备,来清除晶圆表面的水渍,但是现有技术存在以下不足:由于晶圆为圆形物体,在进行甩干干燥过程中,需要对晶圆进行装夹,而完成清洗的晶圆表面留有水渍将在装夹过程中,晶圆的部分位置将与水渍一同被夹紧,进而在干燥过程中,无法对其装夹部位进行干燥,造成晶圆表面水渍的残留。以此本申请提出一种晶圆干燥设备,对上述缺陷进行改进。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术目的是提供一种晶圆干燥设备,以解决现有技术由于晶圆为圆形物体,在进行甩干干燥过程中,需要对晶圆进行装夹,而完成清洗的晶圆表面留有水渍将在装夹过程中,晶圆的部分位置将与水渍一同被夹紧,进而在干燥过程中,无法对其装夹部 ...
【技术保护点】
1.一种晶圆干燥设备,其结构包括脚架(1)、机箱(2)、机盖(3)、干燥结构(4)、控制面板(5),所述脚架(1)竖直安装于机箱(2)下端四角,所述机盖(3)水平安装于机箱(2)上端,所述干燥结构(4)贯穿于机盖(3)内侧,所述控制面板(5)安装于机箱(2)前端;其特征在于:/n所述干燥结构(4)包括机架(41)、上沿(42)、内槽(43)、喷气头(44)、装夹架(45),所述上沿(42)水平安装于机架(41)上端,所述内槽(43)贯穿于上沿(42)内侧,所述喷气头(44)环形安装于机架(41)内侧,所述装夹架(45)安装于机架(41)内侧上端。/n
【技术特征摘要】
1.一种晶圆干燥设备,其结构包括脚架(1)、机箱(2)、机盖(3)、干燥结构(4)、控制面板(5),所述脚架(1)竖直安装于机箱(2)下端四角,所述机盖(3)水平安装于机箱(2)上端,所述干燥结构(4)贯穿于机盖(3)内侧,所述控制面板(5)安装于机箱(2)前端;其特征在于:
所述干燥结构(4)包括机架(41)、上沿(42)、内槽(43)、喷气头(44)、装夹架(45),所述上沿(42)水平安装于机架(41)上端,所述内槽(43)贯穿于上沿(42)内侧,所述喷气头(44)环形安装于机架(41)内侧,所述装夹架(45)安装于机架(41)内侧上端。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥设备,其特征在于:所述装夹架(45)包括旋转座(451)、伸缩架(452)、装夹结构(453),所述伸缩架(452)竖直安装于旋转座(451)上端,所述装夹结构(453)水平安装于伸缩架(452)上端,所述伸缩架(452)之间镂空。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆干燥设备,其特征在于:所述喷气头(44)设有多个并且分为两组分别向内侧倾斜对准装夹架(45)上端。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆干燥设备,其特征在于:所述装夹结构(453)包括安装盘(53a)、夹紧结构(53b)、装...
【专利技术属性】
技术研发人员:乐美华,
申请(专利权)人:泉州惠安泉创文化用品有限公司,
类型:发明
国别省市:福建;35
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