The invention relates to an abrasive equipment, in particular to a wafer grinding apparatus for manufacturing electronic products. The technical problem to be solved by the invention is to provide a wafer grinding device with simple operation, capable of lapping different sizes of wafers simultaneously, and high grinding efficiency for the manufacture of electronic products. In order to solve the technical problem, the invention provides a wafer grinding equipment for electronic products manufacturing, comprising a base plate, left frame, frame, roof, grinding polishing film, the adjusting mechanism; the left side of the top plate is installed with left frame, the left frame is connected with a top plate, bottom plate is arranged on the right side of the top rotating mechanism. The rotating mechanism is connected with the grinding frame, the grinding frame is connected with a regulating mechanism at the bottom, a lifting mechanism is arranged at the bottom of the middle plate, the lifting mechanism is connected with the grinding sheet. The invention can place different wafers in different regulating mechanisms, and then grind, so that the operation is simple and the efficiency of grinding is high.
【技术实现步骤摘要】
一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备
本专利技术涉及一种研磨设备,尤其涉及一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备。
技术介绍
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。晶圆需要对表面进行研磨,目前研磨晶圆的研磨设备还不能研磨不同尺寸的晶圆,操作复杂,研磨效率不高,因此亟需研发一种操作简单,能够同时研磨不同尺寸的晶圆,研磨效率高的用于电子产品制造的晶圆研磨设备。
技术实现思路
(1)要解决的技术问题本专利技术为了克服目前研磨晶圆的研磨设备还不能研磨不同尺寸的晶圆,操作复杂,研磨效率不高的缺点,本专利技术要解决的技术问题是提供一种操作简单,能够同时研磨不同尺寸的晶圆,研磨效率高的用于电子产品制造的晶圆研磨设备。(2)技术方案为了解决上述技术问题,本专利技术提供了这样一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备,包括有底板、左架、顶板、研磨框、研磨片、调节机构、升降机构和旋转机构,底板顶部左侧安装有左架,左架顶端连接有顶板,底板顶部右侧安装有旋转机构,旋转机构上连接有研磨框,研磨框底部连接有调节机构,顶板底部中间安装有升降机构,升降机构底部连接有研磨片。优选地,调节机构包括有第一滑块、研磨盘、固定块、第一插销、第二插销和第一滑轨,研磨框内底部开有第一滑轨,第一滑轨上滑动式连接有第一滑块,第一滑块连接有研磨盘,研磨盘顶部均匀 ...
【技术保护点】
一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备,其特征在于,包括有底板(1)、左架(2)、顶板(3)、研磨框(4)、研磨片(5)、调节机构(6)、升降机构(7)和旋转机构(8),底板(1)顶部左侧安装有左架(2),左架(2)顶端连接有顶板(3),底板(1)顶部右侧安装有旋转机构(8),旋转机构(8)上连接有研磨框(4),研磨框(4)底部连接有调节机构(6),顶板(3)底部中间安装有升降机构(7),升降机构(7)底部连接有研磨片(5)。
【技术特征摘要】
1.一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备,其特征在于,包括有底板(1)、左架(2)、顶板(3)、研磨框(4)、研磨片(5)、调节机构(6)、升降机构(7)和旋转机构(8),底板(1)顶部左侧安装有左架(2),左架(2)顶端连接有顶板(3),底板(1)顶部右侧安装有旋转机构(8),旋转机构(8)上连接有研磨框(4),研磨框(4)底部连接有调节机构(6),顶板(3)底部中间安装有升降机构(7),升降机构(7)底部连接有研磨片(5)。2.根据权利要求1所述的一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备,其特征在于,调节机构(6)包括有第一滑块(61)、研磨盘(62)、固定块(64)、第一插销(65)、第二插销(66)和第一滑轨(67),研磨框(4)内底部开有第一滑轨(67),第一滑轨(67)上滑动式连接有第一滑块(61),第一滑块(61)连接有研磨盘(62),研磨盘(62)顶部均匀开有放置槽(63),研磨盘(62)左右两侧均开有凹槽(611),研磨框(4)左右两侧均安装有固定块(64),固定块(64)水平开有第一销孔(69),固定块(64)垂直开有第二销孔(610),研磨框(4)左右两侧底部均开有第一通孔(68),第一销孔(69)内插有第一插销(65),第一插销(65)内开有第二通孔(612),第一插销(65)穿过第一销孔(69)、第一通孔(68)和凹槽(611),第二销孔(610)内插有第二插销(66),第二插销(66)穿过第二销孔(610)和第二通孔(612)。3.根据权利要求2所述的一种用于电子产品制造的晶圆研磨设备,其特征在于,旋转机构(8)包括有支撑杆(81)、圆形滑轨(82)、第三滑块(83)、电机(84)和第二转轴(85),底板(1)顶部右侧安装有支撑杆(81),底板(1)底部右侧安装有电机(84),支撑杆(81)在电机(84)左右两侧,...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨连数,
申请(专利权)人:苍南博雅科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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