【技术实现步骤摘要】
本技术涉及化学品供应
,特别涉及一种液态化学品温控供应系统及晶圆刻蚀清洗设备。
技术介绍
在湿式单片晶圆清洗和蚀刻过程中,会用到多种化学品。针对液态化学品的供应系统,需要对液态化学品的浓度和温度实现高精度控制,从而实现工艺的高度稳定性。目前,单片晶圆清洗和蚀刻机台中,液态化学品供应系统都是使用化学槽循环加热,通过温度侦测值实现PID反馈来达到工艺需求温度;然后,将温度控制稳定后的液态化学品输送到各个反应腔体来实施工艺流程。但是,由于温度控制仅设置在化学槽循环加热管路中,而液态化学品从化学槽循环加热管路输出端到达各反应腔需经传输管路,具有热损耗,导致化学品到达各反应腔时的实际温度与从化学槽循环加热管路输出时的温度存在温差,且到达各反应腔传输管路长度不同,温差各异;最终影响产品的工艺稳定性,尤其对于高温的化学品蚀刻工艺,微小的温差对工艺反应的蚀刻率影响显著。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种液态化学品温控供应系统,其能够有效补偿传输管路热损耗,保证液态化学品到达各反应腔时的温度与从化学槽循环加热管路输出时的温度一致。本技术解决上述技术问题的技术方案如下:一种液态化学品温控供应系统,包括至少一个化学品储存室和至少一个反应腔,每个化学品储存室均对应设置有化学槽循环加热管路,所述化学槽循环加热管路输出端通过第一传输管路与各所述反应腔连通;各所述第一传输管路中均设置有第一加热器和第一温度侦测计,且所述第一温度侦测计设置于所述第一传输管路与所述反应腔相连接的一端的端口处。本技术的有益效果是:根据第一温度侦测计侦测到的第一传输管路与反应腔相连接的一端的端口 ...
【技术保护点】
一种液态化学品温控供应系统,其特征在于,包括至少一个化学品储存室(1)和至少一个反应腔(2),每个化学品储存室(1)均对应设置有化学槽循环加热管路(3),所述化学槽循环加热管路(3)输出端通过第一传输管路(4)与各所述反应腔(2)连通;各所述第一传输管路(4)中均设置有第一加热器(41)和第一温度侦测计(42),且所述第一温度侦测计(42)设置于所述第一传输管路(4)与所述反应腔(2)相连接的一端的端口处。
【技术特征摘要】
1.一种液态化学品温控供应系统,其特征在于,包括至少一个化学品储存室(1)和至少一个反应腔(2),每个化学品储存室(1)均对应设置有化学槽循环加热管路(3),所述化学槽循环加热管路(3)输出端通过第一传输管路(4)与各所述反应腔(2)连通;各所述第一传输管路(4)中均设置有第一加热器(41)和第一温度侦测计(42),且所述第一温度侦测计(42)设置于所述第一传输管路(4)与所述反应腔(2)相连接的一端的端口处。2.根据权利要求1所述一种液态化学品温控供应系统,其特征在于,还包括第一控制器,所述第一加热器(41)、第一控制器和第一温度侦测计(42)依次电连接。3.根据权利要求1所述一种液态...
【专利技术属性】
技术研发人员:金小斗,
申请(专利权)人:武汉新芯集成电路制造有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北;42
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