基板处理装置和检查方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种使摄像图像的质量提高的基板处理装置和检查方法，该摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时的检查中使用。对被处理基板进行处理的基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查；以及选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。

Substrate treatment device and inspection method

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和检查方法
本公开涉及一种基板处理装置和检查方法。
技术介绍
专利文献1公开了一种判定从位于处理对象物的上方的喷嘴朝向该处理对象物的上表面流下的液体的流下状态的流下判定方法。在该方法中，以将从喷嘴到处理对象物的上表面的液体的流下路径包括在摄像视野中的方式进行摄像。接着，在拍摄到的图像中的与流下路径对应的评价对象区域内，针对由沿液体的流下方向排成一列的像素构成的每个像素列，计算属于该像素列的像素的像素值的合计值。而且，基于沿着与流下方向正交的正交方向的合计值的变化方式，来判定有无液体流下。专利文献1：日本特开2017-29883号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本公开所涉及的技术使摄像图像的质量提高，所述摄像图像在利用对被处理基板进行处理的基板处理装置进行处理时使用。用于解决问题的方案本公开的一个方式是基板处理装置，所述基板处理装置对被处理基板进行处理，所述基板处理装置具有：旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，对被处理基板进行处理，所述基板处理装置具有：/n旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；/n摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；/n光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；/n检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查；以及/n选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。/n

【技术特征摘要】
20181005 JP 2018-1902271.一种基板处理装置，对被处理基板进行处理，所述基板处理装置具有：
旋转保持部，其保持被处理基板并使该被处理基板旋转；
摄像部，该摄像部的摄像区域包括被所述旋转保持部保持的被处理基板的表面；
光源，其向所述摄像部的所述摄像区域照射光；
检查部，其基于所述摄像部的摄像结果来进行检查；以及
选择部，其基于得到该摄像结果时的被处理基板的朝向来选择要在所述检查中使用的摄像结果。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具有：
事前获取部，在所述检查之前，该事前获取部获取被所述旋转保持部保持的被处理基板的朝向互不相同的多个状态的摄像结果；以及
判定部，其基于所述多个状态的摄像结果来判定在所述检查用的摄像时不适当的被处理基板的朝向，
其中，所述选择部基于所述判定部的判定结果来选择要在所述检查中使用的摄像结果。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
所述选择部基于由所述判定部得到的所述不适当的被处理基板的朝向的判定结果、所述检查用的摄像时的被处理基板的转速以及所述检查用的摄像时的所述摄像部的帧频，来选择要在所述检查中使用的摄像结果。


4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：滨田佳志，桾本裕一朗，羽山隆史，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP