易于气流控制的晶圆清洗槽制造技术

本发明专利技术提供一种易于气流控制的晶圆清洗槽，包括清洗槽主体、活动气板、导杆机构、固定气板、进气机构、导气管及晶圆安装支架，清洗槽主体两侧的上部及下部均开设有通气口；活动气板活动设置于清洗槽主体两侧的上部，导杆机构与活动气板相连接；固定气板设置于清洗槽主体两侧的下部，并在清洗槽主体两侧的下部留有通气通道；进气机构设置于清洗槽主体的顶部；导气管设置于清洗槽主体的底部，晶圆安装支架设置于导气管的顶部。本发明专利技术易于气流控制的晶圆清洗槽能在清洗槽内放置有晶圆或无放置晶圆的情况下，保障清洗槽内气流的通畅，避免清洗槽内的气体滞留，进而避免清洗槽内清洗液或汽雾凝结，保障了晶圆的清洗效果。

【技术实现步骤摘要】
易于气流控制的晶圆清洗槽
本专利技术涉及晶圆清洗器具
，具体而言，涉及一种易于气流控制的晶圆清洗槽。
技术介绍
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的集成电路产品。集成电路的制造是电子信息产业的核心，是推动国民经济和社会信息化发展的最主要的高新技术之一。随着晶圆向大尺寸、细线条方向发展，晶圆表面平整度的要求也越来越高。因此，化学机械抛光设备在集成电路领域也越来越受重视。在化学机械抛光过程中，清洗机构是整个抛光过程的最后环节，须严格控制清洗动作的每个细节及清洗机构的每个结构，从而保证清洗后的晶圆表面的洁净度及平整度，实现晶圆的干进干出，使晶圆抛光过程的合格率更高。随着设备结构的不断升级，晶圆清洗槽所占空间也越来越小。现有的晶圆清洗槽的使用过程中，在晶圆清洗槽中放入或取出清洗后的晶圆时，会打乱槽内气流的流动方向，使得槽内出现不受控的气体滞留区域，造成槽内的清洗液或汽雾凝结，产生颗粒，影响晶圆的清洗效果。
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术提供了一种易于气流控制的晶圆清洗槽，该易于气流控制的晶圆清洗槽能在清洗槽内放置有晶圆或无放置晶圆的情况下，保障清洗槽内气流的通畅，避免清洗槽内的气体滞留，进而避免清洗槽内清洗液或汽雾凝结，保障了晶圆的清洗效果。为了实现上述目的，本专利技术采用如下的技术方案：易于气流控制的晶圆清洗槽，包括清洗槽主体、活动气板、导杆机构、固定气板、进气机构、导气管及晶圆安装支架，所述清洗槽主体内形成清洗腔，所述清洗槽主体两侧的上部及下部均开设有通气口；所述活动气板活动设置于所述清洗槽主体两侧的上部，所述导杆机构与活动气板相连接，所述活动气板用于关闭或打开所述清洗槽主体两侧的上部的通气口；所述固定气板设置于所述清洗槽主体两侧的下部，并在所述清洗槽主体两侧的下部留有通气通道；所述进气机构设置于所述清洗槽主体的顶部；所述导气管设置于所述清洗槽主体的底部，所述晶圆安装支架设置于所述导气管的顶部。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述导杆机构包括导杆机构主体及安装板，所述安装板设置于所述清洗槽主体两侧的外部，所述导杆机构主体设置于所述安装板上，并与所述活动气板相连接。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述导杆机构主体为摆动导杆机构。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述摆动导杆机构包括导杆、旋转杆及摆动气缸，所述活动气板上设置有连接耳，所述导杆的一端与所述连接耳相连接，所述导杆的另一端与所述旋转杆的一端相连接，所述旋转杆的另一端与所述摆动气缸相连接，所述摆动气缸安装于所述安装板上。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，在所述清洗槽主体两侧的上部的通气口处于打开状态时，所述活动气板与所述清洗槽主体的侧部所成夹角的范围为110°～130°。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述固定气板与所述清洗槽主体的侧部所成夹角的范围为110°～130°。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述进气机构设置于所述清洗槽主体顶部的中部，所述导气管设置于所述清洗槽主体底部的中部。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述进气机构为空气过滤器。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述导气管的长度为所述清洗槽主体高度的2/5至3/5。作为上述易于气流控制的晶圆清洗槽的进一步可选方案，所述易于气流控制的晶圆清洗槽还包括传感器，所述传感器设置于所述清洗槽主体内，用于感应所述晶圆安装支架上是否安装有晶圆。下面对本专利技术的优点或原理进行说明：易于气流控制的晶圆清洗槽，清洗槽主体内形成清洗腔，清洗槽主体两侧的上部及下部均开设有通气口，通气口用于清洗槽内气流的流出；进气机构设置于清洗槽主体的顶部，即气流从清洗槽主体的顶部流入清洗槽内；导气管设置于清洗槽主体的底部，晶圆安装支架设置于导气管的顶部，晶圆安装支架用于放置晶圆，导气管在清洗槽内放置有晶圆的情况下，对晶圆下表面进行吹风、导气，增加晶圆下部气体的流动性，使晶圆的清洗更为均匀，以更好地对晶圆进行清洗；固定气板设置于清洗槽主体两侧的下部，并在清洗槽主体两侧的下部留有通气通道，活动气板活动设置于清洗槽主体两侧的上部，导杆机构与活动气板相连接，固定气板及活动气板能对气流的流向起引导作用，较好地保障清洗槽内气流的通畅，具体地，在清洗槽内无放置晶圆的情况下，清洗槽主体两侧的上部的通气口处于打开状态，保障该情况下清洗槽内气流的通畅；在清洗槽内放置有晶圆的情况下，导杆机构带动活动气板转动，将清洗槽主体两侧的上部的通气口关闭，保障该情况下清洗槽内气流的通畅；该易于气流控制的晶圆清洗槽能在清洗槽内放置有晶圆或无放置晶圆的情况下，保障清洗槽内气流的通畅，避免清洗槽内的气体滞留，进而避免清洗槽内清洗液或汽雾凝结，保障了晶圆的清洗效果。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是本专利技术实施例的易于气流控制的晶圆清洗槽的结构示意图；图2是本专利技术实施例的易于气流控制的晶圆清洗槽两侧的上部的通气口处于打开状态时的气流流向示意图；图3是本专利技术实施例的易于气流控制的晶圆清洗槽两侧的上部的通气口处于关闭状态时的气流流向示意图。附图标记说明：11-清洗槽主体；111-通气口；12-活动气板；121-连接耳；13-导杆机构主体；131-导杆；132-旋转杆；133-摆动气缸；14-安装板；15-固定气板；16-进气机构；17-导气管；18-晶圆安装支架；20-晶圆。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本专利技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本专利技术中的具体含义。此外，术语“安装”、“设置”、“设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.易于气流控制的晶圆清洗槽，其特征在于，包括清洗槽主体、活动气板、导杆机构、固定气板、进气机构、导气管及晶圆安装支架，所述清洗槽主体内形成清洗腔，所述清洗槽主体两侧的上部及下部均开设有通气口；所述活动气板活动设置于所述清洗槽主体两侧的上部，所述导杆机构与活动气板相连接，所述活动气板用于关闭或打开所述清洗槽主体两侧的上部的通气口；所述固定气板设置于所述清洗槽主体两侧的下部，并在所述清洗槽主体两侧的下部留有通气通道；所述进气机构设置于所述清洗槽主体的顶部；所述导气管设置于所述清洗槽主体的底部，所述晶圆安装支架设置于所述导气管的顶部。

【技术特征摘要】
1.易于气流控制的晶圆清洗槽，其特征在于，包括清洗槽主体、活动气板、导杆机构、固定气板、进气机构、导气管及晶圆安装支架，所述清洗槽主体内形成清洗腔，所述清洗槽主体两侧的上部及下部均开设有通气口；所述活动气板活动设置于所述清洗槽主体两侧的上部，所述导杆机构与活动气板相连接，所述活动气板用于关闭或打开所述清洗槽主体两侧的上部的通气口；所述固定气板设置于所述清洗槽主体两侧的下部，并在所述清洗槽主体两侧的下部留有通气通道；所述进气机构设置于所述清洗槽主体的顶部；所述导气管设置于所述清洗槽主体的底部，所述晶圆安装支架设置于所述导气管的顶部。2.根据权利要求1所述的易于气流控制的晶圆清洗槽，其特征在于，所述导杆机构包括导杆机构主体及安装板，所述安装板设置于所述清洗槽主体两侧的外部，所述导杆机构主体设置于所述安装板上，并与所述活动气板相连接。3.根据权利要求2所述的易于气流控制的晶圆清洗槽，其特征在于，所述导杆机构主体为摆动导杆机构。4.根据权利要求3所述的易于气流控制的晶圆清洗槽，其特征在于，所述摆动导杆机构包括导杆、旋转杆及摆动气缸，所述活动气板上设置有连接耳，所述导杆的一端与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨师，费玖海，史霄，佀海燕，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11