防溅装置及腐蚀工艺反应设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种防溅装置及腐蚀工艺反应设备，前者包括防溅筒、升降挡板以及挡板驱动装置，防溅筒的顶部和底部分别具有开口，且防溅筒能够套设于腐蚀工艺反应设备的反应台的周面上且与周面之间形成导流间隙，升降挡板与防溅筒固定连接，挡板驱动装置与升降挡板传动连接，用于驱动升降挡板带动防溅筒进行升降运动；后者包括前者。本发明专利技术提供的防溅装置及腐蚀工艺反应设备能够防止化学反应液在冲蚀过程中向外飞溅到工艺设备的内腔壁，具有结构简单、可防止工艺设备的内腔壁腐蚀损坏的优点。

【技术实现步骤摘要】
防溅装置及腐蚀工艺反应设备
本专利技术涉及腐蚀工艺设备
，尤其是涉及一种用于防溅装置及腐蚀工艺反应设备。
技术介绍
随着半导体进入微纳米时代，对制造工艺提出了更大的挑战，在半导体元件湿法腐蚀工艺过程中，会对放置在工艺设备的反应台上的半导体元件(例如晶圆)通过化学反应液进行冲刷腐蚀以及通过清洗液进行冲刷清洗。但是现有技术中的方法直接对半导体元件冲蚀或冲刷清洗，会导致一系列的问题。例如，会导致化学反应液在冲蚀过程中向外飞溅到工艺设备的内腔壁，造成腐蚀损坏；而且化学反应液和清洗液与半导体元件冲刷后的废液在反应台上不能较好的引流汇聚，不仅导致废液的难于收集，而且散布在反应台废液在内腔中挥发还会进一步污蚀工艺设备。公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本专利技术总体
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种防溅装置及腐蚀工艺反应设备。该防溅装置应用于腐蚀工艺设备，能够防止化学反应液在冲蚀过程中向外飞溅到工艺设备的内腔壁，具有结构简单、可防止工艺设备的内腔壁腐蚀损坏的优点。该腐蚀工艺反应设备包括上述的防溅装置，能实现上述的防溅装置所以有益效果，在此不再赘述。为实现本专利技术的目的采用如下的技术方案：第一技术方案的专利技术为一种防溅装置，应用于腐蚀工艺反应设备，所述防溅装置包括防溅筒、升降挡板以及挡板驱动装置，所述防溅筒的顶部和底部分别具有开口，且所述防溅筒能够套设于腐蚀工艺反应设备的反应台的周面上且与所述周面之间形成导流间隙；所述升降挡板与所述防溅筒固定连接；所述挡板驱动装置与所述升降挡板传动连接，用于驱动所述升降挡板带动所述防溅筒进行升降运动。另外，第二技术方案的防溅装置，在第一技术方案的防溅装置基础上，所述防溅装置还包括限位框，所述限位框包括水平顶框以及分别垂直于所述水平顶框分布于所述水平顶框的两端的第一竖直侧框和第二竖直侧框，且在所述第一竖直侧框和所述第二竖直侧框的相互面对的相对面上分别设置有沿竖直方向延伸的导向槽，所述升降挡板以能够沿所述导向槽上下滑动的方式与所述限位框连接。另外，第三技术方案的防溅装置，在第二技术方案的防溅装置基础上，在所述水平顶框的朝向所述升降挡板的框面上还设置有高压喷气孔，且所述高压喷气孔通过导气管路与高压气泵连接。另外，第四技术方案的防溅装置，在第一技术方案的防溅装置基础上，所述挡板驱动装置包括气缸、驱动连接板和升降连接板，所述驱动连接板与所述气缸的活塞杆的输出端连接，且所述驱动连接板通过所述升降连接板与所述升降挡板连接。另外，第五技术方案的防溅装置，在第一技术方案的防溅装置基础上，所述挡板驱动装置包括步进电机、齿轮齿条传动机构、驱动连接板和升降连接板，所述齿轮齿条传动机构包括齿轮和沿竖直方向延伸的齿条，所述齿轮设置于所述步进电机的输出轴上并与所述齿条啮合，所述齿条固定于所述驱动连接板上，且所述驱动连接板通过所述升降连接板与所述升降挡板连接。另外，第六技术方案的防溅装置，在第一技术方案的防溅装置基础上，所述挡板驱动装置包括步进电机、丝杠螺母传动机构、驱动连接板和升降连接板，所述丝杠螺母传动机构包括丝杠和螺母，所述丝杠与所述步进电机的输出轴连接，所述螺母套设于所述丝杠上并与所述驱动连接板连接，所述驱动连接板通过所述升降连接板与所述升降挡板连接。另外，第七技术方案的防溅装置，在第一技术方案的防溅装置基础上，在所述防溅筒的顶部开口的筒壁上设置有向所述顶部开口的中心点延伸形成的环状内沿。另外，第八技术方案为一种腐蚀工艺反应设备，该腐蚀工艺反应设备包括反应室、反应台、以及第一至第七技术方案中任一项所述的防溅装置，所述反应台设置于所述反应室的内部；在所述反应室的腔壁上开设有腔壁开口，所述挡板驱动装置设置于所述反应室的腔体外壁上，所述升降挡板穿过所述腔壁开口伸入所述反应室的内部，且，所述防溅筒套设于所述反应台的周面上且与所述周面之间形成导流间隙。另外，第九技术方案的腐蚀工艺反应设备，在第八技术方案的腐蚀工艺反应设备基础上，在所述反应室的腔壁外壁上还固定有缓冲连接板，在所述缓冲连接板上设置有油压缓冲器，且所述缓冲连接板位于所述升降驱动装置的下方，配置成在所述升降驱动装置下降至最低位置的工况下与所述升降驱动装置的下端抵接。另外，第十技术方案的腐蚀工艺反应设备，在第八技术方案的腐蚀工艺反应设备基础上，所述反应台为由下而上半径逐渐缩小的圆台状。结合以上技术方案，本专利技术带来的有益效果分析如下：本专利技术提供的防溅装置，应用于腐蚀工艺反应设备，该防溅装置包括防溅筒、升降挡板以及挡板驱动装置，防溅筒的顶部和底部分别具有开口，且防溅筒能够套设于腐蚀工艺反应设备的反应台的周面上且与周面之间形成导流间隙；升降挡板与防溅筒固定连接；挡板驱动装置与升降挡板传动连接，用于驱动升降挡板带动防溅筒进行升降运动。本专利技术还提供了一种腐蚀工艺反应设备，该腐蚀工艺反应设备包括反应室、反应台、以及上述的防溅装置，反应台设置于反应室的内部；在反应室的腔壁上开设有腔壁开口，挡板驱动装置设置于反应室的腔体外壁上，升降挡板穿过腔壁开口伸入反应室的内部，且，防溅筒套设于反应台的周面上且与周面之间形成导流间隙。该防溅装置在使用时，防溅筒能够在挡板驱动装置的驱动下随着升降挡板沿腐蚀工艺反应设备的反应台上下移动，当腐蚀工艺反应设备对反应台上的元件进行腐蚀时，防溅筒沿反应台的周面向上移动，形成包围元件的反应空间，防溅筒能够阻挡腐蚀液在冲蚀元件时向外飞溅到工艺设备的内腔壁，且防溅筒与反应台周面之间形成导流间隙，也便于收集反应后的废液，具有结构简单、可防止工艺设备的内腔壁腐蚀损坏的优点。该腐蚀工艺反应设备包括上述的防溅装置，能实现上述的防溅装置所以有益效果，在此不再赘述。本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图所特别指出的结构来实现和获得。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术提供的防溅装置的具体实施例的一个视角下的结构示意图；图2为本专利技术提供的防溅装置的具体实施例的另一个视角下的结构示意；图3为本专利技术提供的腐蚀工艺反应设备的结构示意图。图标：100-反应台；200-反应室；210-水平顶框；220-第一竖直侧框；230-第二竖直侧框；300-防溅筒；310-环状内沿；400-升降挡板；510-气缸；520-驱动连接板；530-升降连接板；610-缓冲连接板；620-油压缓冲器。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防溅装置，应用于腐蚀工艺反应设备，其特征在于：所述防溅装置包括防溅筒、升降挡板以及挡板驱动装置，所述防溅筒的顶部和底部分别具有开口，且所述防溅筒能够套设于腐蚀工艺反应设备的反应台的周面上且与所述周面之间形成导流间隙；所述升降挡板与所述防溅筒固定连接；所述挡板驱动装置与所述升降挡板传动连接，用于驱动所述升降挡板带动所述防溅筒进行升降运动。

【技术特征摘要】
1.一种防溅装置，应用于腐蚀工艺反应设备，其特征在于：所述防溅装置包括防溅筒、升降挡板以及挡板驱动装置，所述防溅筒的顶部和底部分别具有开口，且所述防溅筒能够套设于腐蚀工艺反应设备的反应台的周面上且与所述周面之间形成导流间隙；所述升降挡板与所述防溅筒固定连接；所述挡板驱动装置与所述升降挡板传动连接，用于驱动所述升降挡板带动所述防溅筒进行升降运动。2.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于：所述防溅装置还包括限位框，所述限位框包括水平顶框以及分别垂直于所述水平顶框分布于所述水平顶框的两端的第一竖直侧框和第二竖直侧框，且在所述第一竖直侧框和所述第二竖直侧框的相互面对的相对面上分别设置有沿竖直方向延伸的导向槽，所述升降挡板以能够沿所述导向槽上下滑动的方式与所述限位框连接。3.根据权利要求2所述的防溅装置，其特征在于：在所述水平顶框的朝向所述升降挡板的框面上还设置有高压喷气孔，且所述高压喷气孔通过导气管路与高压气泵连接。4.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于：所述挡板驱动装置包括气缸、驱动连接板和升降连接板，所述驱动连接板与所述气缸的活塞杆的输出端连接，且所述驱动连接板通过所述升降连接板与所述升降挡板连接。5.根据权利要求1所述的防溅装置，其特征在于：所述挡板驱动装置包括步进电机、齿轮齿条传动机构、驱动连接板和升降连接板，所述齿轮齿条传动机构包括齿轮和沿竖直方向延伸的齿条，所述齿轮设置于所述步进电...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄鑫亮，夏楠君，王勇威，范文斌，李元升，张伟锋，祝福生，吴光庆，吴娖，陈苏伟，王文丽，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11