Processing method of wafer, the wafer in a plurality of segmentation by cross formation is scheduled to have a positive line dividing device is formed in each region, each device has a plurality of convex points highlighted in the front surface of the wafer processing method comprises the following steps: the groove forming step, from the front of the wafer along the the preset dividing line formation depth than the specified thickness is not deep and completely cut off the chip groove; resin covering step liquid resin using 1.5 times to the height of the convex point is 5 times the thickness of the cover is formed in the front of the chip groove; resin hardening step, after the implementation of the resin cover the steps, so that the liquid resin hardening; and the grinding step, after the implementation of the resin hardening step, grinding on the back of the wafer and the wafer thinning to the specified thickness, and the groove is exposed On the back, a plurality of device chips that form a prescribed thickness are segmented along the segmented predetermined line to form a predetermined thickness.
【技术实现步骤摘要】
晶片的加工方法
本专利技术涉及晶片的加工方法,在该晶片中,在由交叉形成的多条分割预定线划分的正面的各区域内形成有器件,该各器件具有多个在正面上突出的凸点。
技术介绍
在半导体器件芯片的制造工艺中,在由硅或化合物半导体构成的晶片正面上呈格子状形成有多条被称为间隔道的分割预定线,在由分割预定线划分的各区域内形成有LSI等器件。在对这些晶片的背面进行磨削而将其薄化至规定的厚度之后,通过切削装置等沿着间隔道进行分割,由此,制造出各个半导体器件芯片。近年来,作为用于实现半导体器件模块的轻薄短小化的技术,实用化了一种被称为倒装芯片键合的安装技术,在器件正面上形成有多个被称为凸点的金属突起物,使这些凸点与形成在配线基板上的电极直接接合(例如,参照日本特开2001-237278号公报)。并且,作为将晶片分割成更薄的器件芯片的技术,开发并实用化了被称为所谓的先划片法(DicingBeforeGrinding)的分割技术(例如,参照日本特开平11-40520号公报)。该先划片法是以如下的方式来实施的技术,能够将器件芯片的厚度加工至50μm以下,该方式为:从半导体晶片或光器件晶片的正面沿着分割预定线形成规定的深度(相当于器件芯片的完工厚度的深度以上的深度)的分割槽,之后,对正面上形成有分割槽的晶片的背面进行磨削而使分割槽露出于该背面从而将晶片分割成各个器件芯片。近年来,在正面上形成有凸点的晶片中还存在安装有被称为高凸点的高度较高的凸点的晶片。在对这样的晶片进行背面磨削时,将具有相当厚度的保护带粘接在晶片正面上而进行背面磨削。然而,由于凸点的高度较高,所以即使利用保护带来吸收凸点 ...
【技术保护点】
一种晶片的加工方法,该晶片在由交叉形成的多条分割预定线划分的正面的各区域内形成有器件,并且该各器件具有在正面上突出的多个凸点,该晶片的加工方法沿着该分割预定线对该晶片进行分割而形成规定的厚度的多个器件芯片,该晶片的加工方法的特征在于,具有如下的步骤:槽形成步骤,从晶片的正面沿着该分割预定线形成深度比该规定的厚度深且未将晶片完全切断的槽;树脂覆盖步骤,利用具有该凸点的高度的1.5倍~5倍的厚度的液状树脂将形成有该槽的晶片的该正面覆盖;树脂硬化步骤,在实施了该树脂覆盖步骤之后,使该液状树脂硬化;以及磨削步骤,在实施了该树脂硬化步骤之后,对晶片的背面进行磨削而将晶片薄化至该规定的厚度并且使该槽露出于该背面,由此沿着该分割预定线对晶片进行分割而形成规定的厚度的多个器件芯片。
【技术特征摘要】
2015.10.21 JP 2015-2074691.一种晶片的加工方法,该晶片在由交叉形成的多条分割预定线划分的正面的各区域内形成有器件,并且该各器件具有在正面上突出的多个凸点,该晶片的加工方法沿着该分割预定线对该晶片进行分割而形成规定的厚度的多个器件芯片,该晶片的加工方法的特征在于,具有如下的步骤:槽形成步骤,从晶片的正面沿着该分割预定线形成深度比该规定的厚度深且未将晶片完全切断的槽;树脂覆盖步骤,利用具有该凸点的高...
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