The invention relates to a wafer processing field, discloses a quartz wafer etching device includes a cam and cam connected with coaxial shaft, cam is arranged inside the first cavity and the second cavity in the end side of the first cavity is arranged in the etching solution, second cavity cleaning liquid outlet; the cavity of the first set the first piece, the side wall of the exit of the second second cavity plate respectively arranged on the cam two grooves, groove is arranged in the side wall of the slide arm, a slide arm and the side wall of the baffle is fixedly connected with the other side wall of a slide arm through a pressure spring is connected with the side wall of the groove. Also includes a first convex block, second block, the first convex blocks and second convex blocks are respectively positioned on the both sides of the cam, a transmission device is arranged below the cam, the lower end of the rotating shaft is connected with the first gear, the first The gear is connected with a power unit. The invention not only can control the corrosion degree of the wafer, but also can be corroded and cleaned at the same time, and saves time and labor.
【技术实现步骤摘要】
石英晶片腐蚀装置
本专利技术涉及晶片加工领域,具体涉及一种石英晶片腐蚀装置。
技术介绍
石英晶片腐蚀装置是用于对晶片进行腐蚀的常用设备,使用时,将晶片盛放在晶片篮中,然后放在腐蚀液池中,摇动晶片篮对晶片进行腐蚀,腐蚀完后再把晶片篮放在清洗池中摇动进行清洗,这种装置将晶片腐蚀完之后,还需转移晶片到清洗设备中再进行清洗,非常费时费力;并且采用这种浸泡的方式进行腐蚀,通常会导致腐蚀过度;为了克服上述问题,现有技术中也存在采用喷洒腐蚀的方式进行晶片腐蚀的装置,但是喷洒腐蚀通常又会导致腐蚀不均匀、有些位置不会被腐蚀的情况发生。为了解决上述问题,急需一种石英晶片腐蚀装置,既能控制晶片的腐蚀程度,还能边腐蚀边清洗,不需要在腐蚀后转移晶片。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可均匀腐蚀的石英晶片腐蚀装置,能边腐蚀边清洗,不需要在腐蚀后转移晶片的位置,省时省力。为达到上述目的,本专利技术的基础方案如下:石英晶片腐蚀装置,包括凸轮机构,凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴,所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔,所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列,所述第一空腔内装有腐蚀液,所述第二空腔内装有清洁液;所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片,第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片,所述凸轮的侧壁上分别设置可有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽,所述第一挡片和第二挡片与相应的凹槽之间设置有滑臂,所述滑臂的侧壁与所述挡片的侧壁固定连接,所述滑臂嵌入所述凹槽,所述滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接,在所述凸轮的运动轨迹上设 ...
【技术保护点】
一种石英晶片腐蚀装置,包括凸轮机构,凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴,其特征在于,所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔,所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列,所述第一空腔内装有腐蚀液,所述第二空腔内装有清洁液;所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片,第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片,所述凸轮的侧壁上分别设置可有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽,所述第一挡片和第二挡片与相应的凹槽之间设置有滑臂,所述滑臂的侧壁与所述挡片的侧壁固定连接,所述滑臂嵌入所述凹槽,所述滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接,在所述凸轮的运动轨迹上设置有可与所述第一挡片相抵的第一凸块以及可与所述第二挡片相抵的第二凸块,所述第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧, 所述凸轮的下方设置有运送晶片的传送装置,所述转轴下端连接有第一齿轮,所述第一齿轮连接有动力装置。
【技术特征摘要】
1.一种石英晶片腐蚀装置,包括凸轮机构,凸轮机构包括凸轮和与凸轮下端面偏心连接的转轴,其特征在于,所述凸轮内部靠近大端一侧设置有第一空腔和第二空腔,所述第一空腔和第二空腔在垂直方向上从上至下依次排列,所述第一空腔内装有腐蚀液,所述第二空腔内装有清洁液;所述第一空腔的出口处设置有遮挡第一空腔的第一挡片,第二空腔的出口处设置有遮挡第二空腔的第二挡片,所述凸轮的侧壁上分别设置可有供所述第一挡片和第二挡片滑动的两条凹槽,所述第一挡片和第二挡片与相应的凹槽之间设置有滑臂,所述滑臂的侧壁与所述挡片的侧壁固定连接,所述滑臂嵌入所述凹槽,所述滑臂的另一侧壁通过压簧与所述凹槽侧壁连接,在所述凸轮的运动轨迹上设置有可与所述第一挡片相抵的第一凸块以及可与所述第二挡片相抵的第二凸块,所述第一凸块和第二凸块分别位于所述凸轮的两侧,所述凸轮的下方设置有运送晶片的传送装置,所述转轴下...
【专利技术属性】
技术研发人员:侯明永,
申请(专利权)人:重庆晶宇光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:重庆,50
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