一种双栅TFT阵列基板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种双栅TFT阵列基板及其制造方法和显示装置，其中，制造方法包括：通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅。本发明专利技术提供的双栅TFT阵列基板及其制造方法，通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅，与传统的先制作公共电极，再制作顶栅的工艺过程相比，减少了构图工艺的次数，简化了工艺流程。同时，本发明专利技术中通过还原方法得到的双栅TFT阵列基板中的顶栅与底栅具有相近的电阻，保证了整个阵列基板的稳定性。

Double gate TFT array substrate, manufacturing method thereof and display device

The invention discloses a double gate TFT array substrate and a manufacturing method thereof and a display device, wherein, the manufacturing method comprises the following steps of: forming a common electrode and a top gate through a primary patterning process. The invention provides a dual gate TFT array substrate and its manufacturing method, through a process to form a common electrode composition and top gate, and the traditional production of common electrode fabrication process, and then the top gate compared to a decrease of the number of composition process, simplify the process. At the same time, the top gate and the bottom gate of the double gate TFT array substrate obtained by the reduction method have the similar resistance, which ensures the stability of the whole array substrate.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示
，具体而言，涉及一种双栅TFT阵列基板的制造方法、一种双栅TFT阵列基板和一种显示装置。
技术介绍
在液晶显示领域中，薄膜晶体管的有源层一直使用稳定性能、加工性能等优异的硅系材料，硅系材料主要分为非晶硅和多晶硅，其中非晶硅材料迁移率很低，而多晶硅材料虽然有较高的迁移率，但用其制造的器件均匀性较差，良率低，单价高。所以近年来，将透明氧化物半导体膜用于沟道形成区来制造薄膜晶体管(TFT)等，并应用于电子器件及光器件的技术受到广泛关注。其中，利用以铟、镓、锌、氧为构成元素的非晶质In-Ga-Zn-O系材料(a-IGZO)的场效应型晶体管因其具有较高迁移率，较大开关比，而得到了最多的瞩目。但是IGZO是非晶结构，特性很不稳定，所以提高氧化物器件的稳定性非常重要。改善氧化物稳定性有很多方向，其中使用上下双栅极结构是一种非常有效的方法。现有制备双栅结构的氧化物器件需要在传统的BCE(背沟道刻蚀)或者ESL(刻蚀阻挡层)结构TFT区域上方增加一层金属作为顶栅(Top-Gate)，该结构需要增加一次金属的图案化工艺和保护该层金属的绝缘层的沉积工艺。步骤繁多，工艺复杂。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是如何简化双栅极薄膜晶体管阵列基板的工艺流程。针对该技术问题，第一方面，本专利技术提供一种双栅TFT阵列基板的制造方法，包括：通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅。优选地，在形成所述公共电极和顶栅前，还包括：在基底上形成底栅和栅线；在所述底栅和栅线上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成有源层；在所述有源层上形成源极和漏极；在所述源极和漏极上形成第一钝化层；其中，所述公共电极和顶栅形成在所述第一钝化层上。优选地，还包括：在所述第一钝化层和所述栅绝缘层中与所述栅线对应的位置形成过孔，所述顶栅与所述栅线通过过孔连接。优选地，还包括：在所述公共电极和顶栅上形成第二钝化层，在所述第二钝化层上形成像素电极。优选地，所述双栅TFT阵列基板的有源层为IGZO。优选地，所述公共电极为透明金属氧化物，形成所述公共电极和顶栅的步骤包括：对所述顶栅进行还原处理。优选地，形成所述公共电极和顶栅的步骤包括：形成透明金属氧化物层；在所述透明金属氧化物层上形成光刻胶；对所述光刻胶进行半灰阶掩膜曝光处理，通过显影，保留第一区域的光刻胶，部分保留第二区域的光刻胶，去除其他区域光刻胶；蚀刻掉所述其他区域的透明金属氧化物层；通过一次灰化工艺去除所述第二区域的光刻胶，减薄第一区域的光刻胶厚度；对第二区域的透明金属氧化物层进行等离子还原气体表面处理，以析出所述第二区域的透明金属氧化物层中的金属，将所述第一区域的透明金属氧化物层作为所述公共电极，将所述第二区域的金属层作为所述顶栅。第二方面，本专利技术提供了一种双栅TFT阵列基板，包括公共电极和顶栅，其特征在于所述公共电极与所述顶栅同层设置。优选地，双栅TFT阵列基板还包括：基底；设置在所述基底上的底栅和栅线；设置在所述底栅和栅线上的栅绝缘层；设置在所述栅绝缘层上的有源层；设置在所述有源层上的源极和漏极；设置在所述源极和漏极上的第一钝化层；其中，所述公共电极和顶栅形成在所述第一钝化层上。优选地，双栅TFT阵列基板还包括：设置在所述第一钝化层和所述栅绝缘层中与所述栅线对应位置的过孔，用于将所述顶栅与所述栅线连通。优选地，双栅TFT阵列基板还包括：设置在所述公共电极和顶栅上的第二钝化层；设置在所述第二钝化层上的像素电极。优选地，所述双栅TFT阵列基板的有源层为IGZO。优选地，所述公共电极为透明氧化铟锡，所述顶栅由透明氧化铟锡经还原处理形成。第三方面，本专利技术提供了一种显示装置，包括权利以上所述的双栅TFT阵列基板。本专利技术提供的双栅TFT阵列基板及其制造方法，通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅，与传统的先制作公共电极，再制作顶栅的工艺过程相比，减少了构图工艺的次数，简化了工艺流程。同时，本专利技术中通过还原方法得到的双栅TFT阵列基板中的顶栅与底栅具有相近的电阻，保证了整个阵列基板的稳定性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术一个实施例的双栅TFT阵列基板的制造方法的流程示意图；图2是本专利技术一个实施例的公共电极和顶栅制造方法的流程示意图；图3是本专利技术一个实施例的双栅TFT阵列基板的结构示意图；图4是图3中双栅TFT阵列基板沿着A-A方向的截面示意图；图5是图3中双栅TFT阵列基板沿着B-B方向的截面示意图；图6至图13是本专利技术一个实施例的双栅TFT阵列基板上的公共电极和顶栅的制作过程示意图；附图标记说明：1-公共电极；2-顶栅；3-像素电极；4-第二钝化层；5-第一钝化层；6-有源层；7-源漏极层；8-底栅或栅线；9-栅绝缘层；10-基底；11-透明金属氧化物层；12-光刻胶；A-A和B-B是视图方向示意。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1所示，根据本专利技术一个实施例的双栅TFT阵列基板的制造方法，包括：S6：通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅。如图6至图13所提供的公共电极和顶栅的制造方法，在第一钝化层5上，沉积一层透明金属氧化物层11(例如氧化铟锡)，通过一次构图工艺，在该金属氧化物层上形成公共电极1和顶栅2。相比于传统的先形成公共电极1再形成顶栅2的方法，本实施例提供的方法减少了图案化工艺的次数，简化了工艺流程。优选地，如图1和图3和图4所示，在形成所述公共电极和顶栅前，还包括：S1：在基底10上形成底栅和栅线8；S2：在该底栅和栅线8上形成栅绝缘层9；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双栅TFT阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅。

【技术特征摘要】
1.一种双栅TFT阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：
通过一次构图工艺形成公共电极和顶栅。
2.根据权利要求1所述的双栅TFT阵列基板的制造方法，其特
征在于，在形成所述公共电极和顶栅前，还包括：
在基底上形成底栅和栅线；
在所述底栅和栅线上形成栅绝缘层；
在所述栅绝缘层上形成有源层；
在所述有源层上形成源极和漏极；
在所述源极和漏极上形成第一钝化层；
其中，所述公共电极和顶栅形成在所述第一钝化层上。3.根据权利要求2所述的双栅TFT阵列基板的制造方法，其特
征在于，还包括：
在所述第一钝化层和所述栅绝缘层中与所述栅线对应的位置形
成过孔，所述顶栅与所述栅线通过过孔连接。
4.根据权利要求1所述的双栅TFT阵列基板的制造方法，其特
征在于，还包括：
在所述公共电极和顶栅上形成第二钝化层，在所述第二钝化层上
形成像素电极。
5.根据权利要求1所述的双栅TFT阵列基板的制造方法，其特
征在于，所述双栅TFT阵列基板的有源层为IGZO。
6.根据权利要求1至5中任一项权利要求所述的双栅TFT阵列
基板的制造方法，其特征在于，所述公共电极为透明金属氧化物，形
成所述公共电极和顶栅的步骤包括：
对所述顶栅进行还原处理。
7.根据权利要求6所述的双栅TFT阵列基板的制造方法，其特
征在于，形成所述公共电极和顶栅的步骤包括：
形成透明金属氧化物层；
在所述透明金属氧化物层上形成光刻胶；
对所述光刻胶进行半灰阶掩膜曝光处理，通过显影，保留第一区
域的光刻胶，部分保留第二区域的光刻胶，去除其他区域光刻胶；
蚀刻掉所述其他区域的透明金属氧化物层；<...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛菁，春晓改，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11