超硬高透膜生产设备制造技术

一种超硬高透膜生产设备，包括真空室装置、镀膜装置、传送装置和控制装置；所述真空室装置包括多个在横向上依次连续连接的真空腔室以及用于维持所述各真空腔室处于预定真空度状态的抽真空机构；所述镀膜装置包括预热机构、离子源机构和镀膜机构，且分别设置于相应的真空腔室内；所述传送装置包括横向依次贯穿各真空腔室以在各真空腔室之间传送基板的卧式传送机构。本实用新型专利技术超硬高透膜生产设备采用卧式布局，即各真空腔室横向依次连续连接，同时配合卧式传送机构，从而有利于基板的装卸，有效降低了设备成本，而且，真空室系统采用连续连接的多个真空腔室，可以简化设备结构，有效降低设备成本，提高超硬高透膜的生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及真空镀膜
，特别是涉及一种超硬高透膜生产设备。
技术介绍
以触摸屏技术为交互窗口的智能终端能运用直观、形象地方式实现操作控制，而受到消费者的喜爱。但是，触摸屏暴露在外而不可避免地会受到外部尖锐器具的摩擦的刮蹭，极易形成划痕。因此，防磨抗刮的超硬高透膜应运而生，溅镀于触摸屏表面的超硬高透膜，能有效地减少触摸屏表面的划痕，而且还不影响触摸屏的正常操控。但是，目前生产超硬高透膜的生产商采用阶段式上下排列的立式筒状生产模式，其设备成本大且产能低，导致超硬高透膜成本居高不下，直接影响了超硬高透膜的推广应用。
技术实现思路
本技术要解决的问题是，提供一种超硬高透膜生产设备，能有效降低设备成本，提高产能。为解决上述问题，本技术采用如下技术方案：提供一种超硬高透膜生产设备，包括真空室装置、镀膜装置、传送装置和控制装置；所述真空室装置包括多个在横向上依次连续连接的真空腔室以及用于维持所述各真空腔室预定真空度状态的抽真空机构；所述镀膜装置包括预热机构、离子源机构和镀膜机构，所述预热机构、离子源机构和镀膜机构分别设置于相应的真空腔室内；所述传送装置包括横向依次贯穿各真空腔室以在各真空腔室之间传送基板的卧式传送机构。进一步的，所述真空室装置自进片端到出片端依次包括如下真空腔室：进片室、加热室、镀膜室和出片室，所述预热机构设置加热室内，镀膜机构和离子源机构设置于镀膜室内。进一步的，所述传送装置还包括设置于进片室的进片口外部的装载机构及设置于出片室的出片口外部的卸载机构。进一步的，所述传送装置还包括设于卧式传送机构上用于承载基板的托盘。进一步的，所述真空室装置包括至少两个相邻设置及连接的加热室。进一步的，所述真空室装置包括至少两个相邻设置及连接的镀膜室。进一步的，所述真空室装置的真空腔室还包括设于加热室和镀膜室之间的第一缓冲室、设于镀膜室和出片室之间的第二缓冲室。进一步的，所述真空室装置的真空腔室还包括连接于第二缓冲室和出片室之间的传送室。进一步的，所述控制装置包含：控制面板，用于设定和显示运行参数；数据处理模块，用于进行数据运算及发出控制指令以分别控制预热机构、镀膜机构及传送装置的工作状态。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：本技术超硬高透膜生产设备采用卧式布局，即各真空腔室横向依次连续连接，同时配合卧式传送机构，从而有利于基板的装卸，有效降低了设备成本，而且，真空室系统采用连续连接的多个真空腔室，可以简化设备结构，有效降低设备成本，提高超硬高透膜的生产效率。附图说明图1为本技术超硬高透膜生产设备的主视图。图2为本技术超硬高透膜生产设备的俯视图。图3为本技术超硬高透膜生产设备的托盘与基板结合后的俯视图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本申请作进一步详细说明。应当理解，以下的示意性实施例及说明仅用来解释本技术，并不作为对本技术的限定，而且，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互结合。如图1至图3所示，本技术提供一种超硬高透膜生产设备，包括真空室装置12、镀膜装置、传送装置和控制装置。其中，所述真空室装置12包括多个在横向上依次连续连接的真空腔室以及用于维持所述各真空腔室预定真空度状态的抽真空机构15。一般地，所述真空室装置自进片端到出片端依次包括如下真空腔室：进片室2、加热室、镀膜室和出片室10，所述预热机构设置加热室内，镀膜机构和离子源机构设置于镀膜室内。而根据实际需求，在一个实施例中，所述真空室装置12可以包括至少两个相邻设置及连接的加热室。在另一个实施例中，所述真空室装置12也还可包括至少两个相邻设置及连接的镀膜室。此外，所述真空室装置12的真空腔室还可包括设于加热室和镀膜室之间的第一缓冲室5、设于镀膜室和出片室之间的第二缓冲室8。通过在镀膜室的入口外侧和出口外侧分别设置对应的缓冲室，可以方便调整托盘13传送速度和镀膜室制程气氛。在一个可选实施例中，所述真空室装置的真空腔室还包括连接于第二缓冲室8和出片室10之间的传送室9，通过传送室9内的隔绝，可以有效避免镀膜室内的真空度受外界干扰；并且对基板14起到冷却降温的作用。所述镀膜装置包括预热机构、离子源机构和镀膜机构，所述预热机构、离子源机构和镀膜机构分别设置于相应的真空腔室内。所述传送装置包括横向依次贯穿各真空腔室以在各真空腔室之间传送基板的卧式传送机构。一般地，所述传送装置还包括设置于进片室2的进片口外部的装载机构1、设置于出片室10的出片口外部的卸载机构11及设于卧式传送机构上用于承载基板的托盘13。所述控制装置包含：控制面板，用于设定和显示运行参数；数据处理模块，用于进行数据运算及发出控制指令分别控制预热机构、镀膜机构及传送装置的工作状态。结合图1~图3所示，对本技术超硬高透膜生产设备的具体工作过程描述如下：当设备启动后，操作人员可以在操作面板上进行必要的设置，如无需更改预定设置，则可跳过本步骤；然后，在控制装置的控制下，抽真空机构15工作以使各真空腔室分别处于预定真空度状态；装载机构1先将基板14装载在卧式传送机构上的托盘13上，然后，卧式传送机构将基板14依次输送经过进片室2、第一加热室3、第二加热室4、第一缓冲室5、第一镀膜室6、第二镀膜室7、第二缓冲室8、传送室9和出片室10，在此过程中，加热室内部的预热机构对基板14进行加热，镀膜室内部的镀膜机构对基板14进行镀膜操作，必要时，可以在第一缓冲室5与第二缓冲室8调整托盘13的传送速度与调节真空腔室制程气氛；基板14被传送至出片室10后，卧式传送机构还进一步将托盘13连同基板14自出片室10的出片口输出，由卸载机构11将基板14从托盘13上取下，托盘13可再经卧式传送机构的封闭的循环线回到装载机构1处，可再次装载新的基板14进行镀膜。本技术超硬高透膜生产设备采用卧式布局，即各真空腔室横向依次连续连接，同时配合卧式传送机构，从而有利于基板的装卸，有效降低了设备成本，而且，真空室系统采用连续连接的多个真空腔室，可以简化设备结构，有效降低设备成本，提高超硬高透膜的生产效率。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同范围限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超硬高透膜生产设备，包括真空室装置、镀膜装置、传送装置和控制装置，其特征在于：所述真空室装置包括多个在横向上依次连续连接的真空腔室以及用于维持所述各真空腔室预定真空度状态的抽真空机构；所述镀膜装置包括预热机构、离子源机构和镀膜机构，所述预热机构、离子源机构和镀膜机构分别设置于相应的真空腔室内；所述传送装置包括横向依次贯穿各真空腔室以在各真空腔室之间传送基板的卧式传送机构。

【技术特征摘要】
1.一种超硬高透膜生产设备，包括真空室装置、镀膜装置、传送装置和控制装置，其特征在于：所述真空室装置包括多个在横向上依次连续连接的真空腔室以及用于维持所述各真空腔室预定真空度状态的抽真空机构；所述镀膜装置包括预热机构、离子源机构和镀膜机构，所述预热机构、离子源机构和镀膜机构分别设置于相应的真空腔室内；所述传送装置包括横向依次贯穿各真空腔室以在各真空腔室之间传送基板的卧式传送机构。2.根据权利要求1所述的超硬高透膜生产设备，其特征在于：所述真空室装置自进片端到出片端依次包括如下真空腔室：进片室、加热室、镀膜室和出片室，所述预热机构设置加热室内，镀膜机构和离子源机构设置于镀膜室内。3.根据权利要求2所述的超硬高透膜生产设备，其特征在于：所述传送装置还包括设置于进片室的进片口外部的装载机构及设置于出片室的出片口外部的卸载机构。4.根据权利要求1所述的超硬高透膜生产设备，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐旻生，庄炳河，张永胜，满小花，黄高峰，龚文志，王应斌，
申请(专利权)人：爱发科豪威光电薄膜科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44