气相沉积膜设备用抽气陶瓷环制造技术
【技术实现步骤摘要】
：本专利技术涉及一种抽气设备，尤其是一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。
技术介绍
：气相沉积膜设备在沉积时控制密封腔室内需保持一定范围的压力，需要通过抽气设备进行抽气，使腔室达到指定负压力值。目前没有专用的设备进行这种操作，普通的抽气装置一般很难控制气体均匀的抽出。
技术实现思路
：针对上述现有技术的不足，本专利技术提供了一种气相沉积膜设备用抽气陶瓷环。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。优选的，所述的抽气小孔为12至48个圆形的抽气小孔，小孔直径范围由1毫米至12毫米。优选的，所述的抽气小孔设置在陶瓷环的中间或上端或下端。本专利技术可针对不同沉积反应的真空要求可匹配不同的小孔数量及小孔孔径的陶瓷环，且保证抽气泵抽气时，腔室内部向外部抽气的气流均匀稳定。另外腔室内通入高能量离子时，可避免聚集高能量而产生局部燃烧现象。附图说明：图1是本专利技术实施例1的结构示意图。图2是抽气小孔处的局部放大图。图3是实施例2的结构示意图图4是实施例3的结构示意图。具体实施方式：下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1和图2所示：气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环1，在陶瓷环1上均布抽气小孔2，抽气小孔2的内壁为圆角。抽气小孔设置...
【技术保护点】
气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，其特征在于：在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。
【技术特征摘要】
1.气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，包括环形的陶瓷环，其特征在于：在陶瓷环上均布抽气小孔，抽气小孔的内壁为圆角。2.如权利要求1所述的气相沉积膜设备用抽气陶瓷环，其特征在于：所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：柴智，刘亿军，王燚，
申请(专利权)人：沈阳拓荆科技有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21
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