半导体器件制造技术

技术编号:9360652 阅读:117 留言:0更新日期:2013-11-21 06:49
本发明专利技术的目的在于,提供可以缩小器件尺寸、降低串联电阻和抑制泄漏电流的半导体器件。本发明专利技术正是把器件动作本来不需要的电位阶差产生层插入器件的结构内。该电位阶差具有这样的功能,即,即使带隙小的半导体在台面侧面露出,也可以抑制该部分的电压降,减小对器件动作不合适的泄漏电流。异质结构双极晶体管、光电二极管和电场吸收型光调制器等都可以得到该效果。另外,在光电二极管中,由于泄漏电流缓和,所以可以缩小器件的尺寸,不仅可以通过降低串联电阻改善动作速度,还具有可以高密度地阵列状地配置器件的优点。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:石桥忠夫安藤精后村本好史吉松俊英横山春喜
申请(专利权)人:NTT电子股份有限公司日本电信电话株式会社
类型:
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1