【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种薄膜表面平坦化的方法，其特征在于，在采用干法刻蚀对非金属层进行图案刻蚀之后，对干法刻蚀后露出的第一膜层进行表面平坦化处理，使因干法刻蚀导致表面粗糙的所述第一膜层恢复平坦，所述第一膜层位于所述非金属层的下方。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈磊，夏子祺，代伍坤，李嘉鹏，金秀洪，王凤国，张磊，仇淼，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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