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本发明公开了一种薄膜表面平坦化的方法、阵列基板及其制备方法和显示装置，涉及显示领域，可解决现有干法刻蚀对被刻蚀膜层下方的其它膜层表面平整度损伤大的技术问题，从而提高液晶显示器的显示性能。本发明所述阵列基板的制备方法，包括采用干法刻蚀对非金属...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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