被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置。被成膜基板包括：第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和分别在基板的第一成膜区域和第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二膜，第一膜在规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，第二膜在规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与第一膜的膜厚渐减部分重叠，第二膜的除膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于第一膜的除膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，在第二膜上还包括第一缓冲层，第一膜的大致平坦部分的膜厚，与第一缓冲层和第二膜的膜厚之和相等。

【技术实现步骤摘要】
本案是申请日为2012年1月13日、申请号为201280005723.X、专利技术名称为被成膜基板、制造方法和有机EL显示装置的专利申请的分案申请。
本专利技术涉及有机EL显示装置能够利用的被成膜基板、上述被成膜基板的制造方法和使用上述被成膜基板的有机EL显示装置。
技术介绍
近年，在多种多样的商品、领域中使用平板显示器，对平板显示器提出了进一步大型化、高画质化、低耗电化的要求。在这样的状况下，具备利用有机材料的电致发光(Electroluminescence，以下记作“EL”)的有机EL元件的有机EL显示装置作为全固体型且在能够低电压驱动、高速响应性、自发光性等方面优异的平板面板显示器受到高度瞩目。有机EL显示装置例如具有以下结构：在包括设置有TFT(薄膜晶体管)的玻璃基板等的基板上，设置有与TFT连接的有机EL元件。有机EL元件是能够利用低电压直流驱动高亮度地发光的发光元件，具有第一电极、有机EL层和第二电极依次层叠的结构。其中，第一电极与TFT连接。此外，在第一电极与第二电极之间，作为上述有机EL层，设置有使空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子输送层、电子注入层等层叠而得到的有机层。在全彩色的有机EL显示装置中，一般而言，在基板上作为子像素排列形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)各种颜色的有机EL元件，通过使用TFT使这些有机EL元件有选择地按所期望的亮度发光来进行图像显示。>在这样的有机EL显示装置的制造中，至少含有发出各色光的有机发光材料的发光层在每个作为发光元件的有机EL元件上被图案形成(例如参照专利文献1～3)。作为进行发光层的图案形成的方法，例如已知使用被称为荫罩的蒸镀用的掩模的真空蒸镀法、喷墨法、激光转印法。例如，在低分子型有机EL显示器(OLED)中，以往通过使用荫罩的蒸镀法，进行有机层的分涂形成。在使用有荫罩的真空蒸镀法中，使用能够在基板的蒸镀区域整体进行蒸镀的尺寸的荫罩(密接型整面荫罩)。一般而言，作为荫罩，使用与基板同等尺寸的掩模。图24是表示使用有荫罩的现有蒸镀装置的概略结构的截面图。在使用有荫罩的真空蒸镀法中，如图24所示，使基板301与蒸镀源302相对配置，以使作为目的的蒸镀区域以外的区域不附着蒸镀颗粒的方式，在荫罩303设置与蒸镀区域的一部分的图案对应的开口部304，使蒸镀颗粒经该开口部304蒸镀在基板301，由此进行图案形成。基板301配置在没有图示的真空腔室内，在基板301的下方固定蒸镀源302。荫罩303相对于基板301隔着空隙固定，或者在基板301和蒸镀源302固定在真空腔室的内壁的状态下，相对于基板301进行相对移动。例如在专利文献1中，公开了使用加载互锁式的蒸镀源，进行掩模与基板的对位后，将第一发光材料从基板的正下方进行真空蒸镀，形成与掩模的开口部大致相同形状的第一发光部的排列后，移动掩模，将第二发光材料从基板的正下方进行真空蒸镀，形成与掩模的开口部大致相同形状的第二发光部的排列。在专利文献2中，公开了在设置有显示电极的基板上，以包围显示电极的方式设置在基板上突出的隔壁，在该隔壁的上表面载置掩模，在隔壁内的显示电极上使有机EL介质沉积后，移动掩模，使掩模的开口部从1个显示电极上位于相邻的显示电极上，由此依次形成与掩模的开口部大致相同形状的发光层。另外，使用有荫罩的真空蒸镀法不仅可以用于发光层，也可以用于电极的图案形成。例如，在专利文献4中，公开了在与基板同等尺寸的掩模中，将小径或细长的狭缝孔在与掩模的移动方向交差的方向上排列，一边沿着小径或狭缝孔的排列方向使掩模移动，一边使电极材料蒸镀，由此形成电极图案。在这样使用有荫罩的真空蒸镀法中，为了抑制弯曲和变形，而施加张紧力将荫罩固定(例如熔接)于掩模框。在这样的现有的分涂蒸镀法中，如果基板变大，则相应地掩模也需要大型化。但是，当增大掩模时，因掩模的自重弯曲或伸长而容易在基板与掩模之间产生间隙。并且，该间隙的大小根据基板的被蒸镀面的位置的不同而不同。因此，存在难以进行高精度的图案形成，产生蒸镀位置的偏移和混色而难以实现高精细化。此外，如果将掩模加大，则掩模和保持该掩模的框架等也变得巨大，其重量也增加，因此存在难以处理、在生产性和安全性方面产生不便的问题。此外，蒸镀装置和/或附带的装置也同样巨大化、复杂化，因此，装置设计变得困难，设置成本也变高。因此，利用现有的分涂蒸镀法难以应对大型基板，例如不能实现对超过60英寸的掩模的大型基板能够以量产的水平进行分涂蒸镀的方法。作为解决上述问题的方法，在专利文献5中，考虑以下方法(扫描蒸镀法)：使用比基板小的荫罩，以使蒸镀源与荫罩成为一体的状态，将荫罩与基板的间隙保持为一定，同时对该一体化物和基板中的任一个进行扫描并且进行蒸镀，由此在规定的基板的位置图案形成有机膜。如果使用该扫描蒸镀法，则使用小的荫罩即可，因此不发生上述那样的问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本公开特许公报“特开2000－188179号公报(公开日：2000年7月4日)”(对应美国专利第6294892号，公告日：2001年9月25日)专利文献2：日本公开特许公报“特开平8－227276号公报(公开日：1996年9月3日)”(对应美国专利第5，7421，29号，公告日：1998年4月21日)专利文献3：日本公开特许公报“特开平9－167684号公报(公开日：1997年6月24日)”(对应美国专利第5，688，551号，公告日：1997年11月18日)专利文献4：日本公开特许公报“特开平10－102237号公报(公开日：1998年4月21日)”专利文献5：日本公开特许公报“特开2010－270396号公报(公开日：2010年12月2日)”
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题然而，在荫罩与基板之间隔着空隙进行成膜的扫描蒸镀法中，在蒸镀膜的两侧产生膜厚逐渐减少的膜厚渐减部分(蒸镀扩散部)。若该蒸镀扩散部的宽度为非发光区域(发光区域间的间隙)的宽度以上，则蒸镀膜遍及到相邻像素，发生混色。为了防止该混色，若使非发光区域的宽度变大，则发生显示画面的清晰度降低，以及由发光区域面积的减少带来显示品质的降低。相反地，为了提高清晰度及显示品质，若使非发光区域为一定下限以下，则产生上述混色。更详细来说，扫描蒸镀法中，如图25(a)所示，根据荫罩81的掩模开口部82的宽度(以下，称为掩模开口宽度)B82，决定蒸镀膜(即发光层)23R的宽度。形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种被成膜基板，其特征在于，包括：第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二膜，所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于所述第一膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，在所述第二膜上还包括第一缓冲层，所述第一膜的所述大致平坦部分的膜厚，与第一缓冲层和第二膜的膜厚之和相等。

【技术特征摘要】
2011.01.20 JP 2011-0101791.一种被成膜基板，其特征在于，包括：
第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和
分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二
膜，
所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，
所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，
所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于所述第一膜的除
所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，
在所述第二膜上还包括第一缓冲层，
所述第一膜的所述大致平坦部分的膜厚，与第一缓冲层和第二膜的膜厚之和相等。
2.一种被成膜基板，其特征在于，包括：
第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和
分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二
膜，
所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，
所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，
所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于所述第一膜的除
所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，
在所述第二膜上还包括第一缓冲层，
在至少一部分的第一膜上包括第二缓冲层，
所述至少一部分的第一膜的大致平坦部分的膜厚和第二缓冲层的膜厚之和，与第一缓
冲层和第二膜的膜厚之和相等。
3.一种被成膜基板，其特征在于，包括：
第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和
分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二
膜，
所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，
所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，
所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于所述第一膜的除
所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，
在所述第二膜上还包括第一缓冲层，
所述第一缓冲层是构成蓝色的发光层的主体材料或电子输送层。
4.一种被成膜基板，其特征在于，包括：
第一成膜区域和第二成膜区域沿着规定方向彼此隔开间隔地交替配置的基板；和
分别在所述基板的所述第一成膜区域和所述第二成膜区域覆盖形成的第一膜和第二
膜，
所述第一膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，
所述第二膜在所述规定方向上的两侧部分分别具有膜厚向所述规定方向上的前端侧
逐渐减少的膜厚渐减部分，该膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分重叠，
所述第二膜的除所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚小于所述第一膜的除
所述膜厚渐减部分以外的大致平坦部分的膜厚，
在所述第二膜上还包括第一缓冲层，
在至少一部分的第一膜上包括第二缓冲层，
所述第二缓冲层分别是构成蓝色的发光层的主体材料或电子输送层。
5.如权利要求1至4中任一项所述的被成膜基板，其特征在于：
所述第二膜的所述膜厚渐减部分与所述第一膜的所述膜厚渐减部分的基端侧重叠。
6.如权利要求1至4中任一项所述的被成膜基板，其特征在于：
所述第一膜的所述膜厚渐减部分的所述规定方向上的基端侧与所述第一成膜区域重
叠。
7.如权利要求1至4中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：园田通，川户伸一，井上智，桥本智志，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP