彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法技术

本发明专利技术公布了一种彩膜基板的制作方法，包括：提供第一基板，所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区，在所述第一基板上涂布光阻材料，曝光所述像素单元区形成单色阻块，部分曝光所述遮光区形成色阻垫块；涂布黑色光阻材料于所述遮光区，并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块；曝光所述黑色光阻材料，使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵，覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。本发明专利技术还公布了一种液晶面板的制作方法。以色阻垫块为衬底的黑色光阻材料曝光后形成间隔柱，遮光区其他部分的黑色光阻材料曝光后形成黑色矩阵，该曝光过程使用普通光罩即可实现，彩膜基板的制作成本低。

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法
本专利技术涉及显示
，尤其是涉及一种彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)包含彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate，)和薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorSubstrate，TFTSubstrate)，基板相对内侧存在透明电极。两片基板之间夹一层液晶分子(LiquidCrystal，LC)。液晶显示器是通过电场对液晶分子取向的控制，改变光的偏振状态，并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡，实现显示的目的。彩膜基板为液晶显示器彩色化的关键零组件，彩膜基板在制造过程中需要是分别涂布和曝光黑色矩阵材料、红、绿、蓝光阻材料及制作间隔柱。现有技术中，为了简化制作工艺，在扫描线位置涂布黑色光阻材料(BlackPhotoSpacer，BPS)，并利用多色光罩(MultiToneMask，MTM)技术在多个不同光照强度下进行曝光，同时形成高度不同的黑色矩阵和间隔柱，从而将黑色矩阵制程和间隔柱制程合成到一道制程完成，简化制作过程。但是MTM光罩技术复杂、制作难度大，且光罩价格昂贵，彩膜基板及液晶面板的制作成本高。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法，用以解决现有技术中彩膜基板及液晶面板的制作成本高的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种彩膜基板的制作方法，包括：提供第一基板，所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区，在所述第一基板上涂布光阻材料，曝光所述像素单元区形成单色阻块，部分曝光所述遮光区形成色阻垫块；涂布黑色光阻材料于所述遮光区，并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块；曝光所述黑色光阻材料，使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵，覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。进一步，一次曝光所述光阻材料过程所形成的所述色阻垫块包括尺寸不等的第一色阻垫块和第二色阻垫块。进一步，所述第一色阻垫块在所述遮光区的正投影尺寸大于所述第二色阻垫块在所述遮光区的正投影的尺寸，曝光所述第一色阻垫块表面的所述黑色光阻材料形成主间隔柱，曝光所述第二色阻垫块表面的所述黑色光阻材料形成辅间隔柱。进一步，所述色阻垫块位于相邻的两个颜色相同的所述单色阻块之间，与所述第一色阻垫块相邻的所述单色阻块和与所述第二色阻垫块相邻的所述单色阻块的颜色相同。进一步，所述第一色阻垫块与所述第二色阻垫块的颜色相同。进一步，所述色阻垫块和与所述色阻垫块相邻的所述单色阻块的颜色相同。进一步，所述单色阻块包括红色阻块、绿色阻块及蓝色阻块，所述色阻垫块位于相邻的两个所述蓝色阻块之间的所述遮光区。进一步，所述色阻垫块为蓝色。进一步，所述色阻垫块包括垂直于所述第一基板的高度尺寸，所述第一色阻垫块的所述高度尺寸与所述第二色阻垫块的所述高度尺寸相等。本专利技术还提供一种液晶面板的制作方法，包括以上任意一项所述的彩膜基板的制作方法；在所述彩膜基板上滴入液晶；及将第二基板贴合至所述彩膜基板，在所述第二基板的边缘区域与所述第一基板的边缘区域之间使用框胶粘合。本专利技术的有益效果如下：制作单色阻块的同时在遮光区曝光形成色阻垫块，不增加额外的制程，在遮光区涂布黑色光阻材料并进行一次曝光，以色阻垫块为衬底的黑色光阻材料曝光后形成间隔柱，遮光区其他部分的黑色光阻材料曝光后形成黑色矩阵，该曝光过程使用普通光罩即可实现，普通光罩的材料成本低，并且黑色光阻材料的黄光工艺简单，彩膜基板的制作成本低。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的明显变形方式。图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图。图2为本专利技术实施例提供的第一基板的表面示意图。图3和图4为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的S101示意图。图5为S101过程中彩膜基板的局部放大示意图。图6为S101过程中彩膜基板的截面示意图。图7和图8为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的S102示意图。图9为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法制作的彩膜基板示意图。图10为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法制作的彩膜基板的截面示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1为本专利技术实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图，如图所示，制作方法如下：S101、在第一基板100上涂布光阻材料，曝光像素单元区102形成单色阻块，部分曝光遮光区104形成色阻垫块。第一基板100为玻璃基板，作为彩膜基板的衬底，用于承载单色阻块、间隔柱等结构。结合图2和图9，第一基板100包括像素单元区102与遮光区104，遮光区104位于相邻的像素单元区102之间，像素单元区102用于形成单色阻块以实现液晶面板的彩色显示，遮光区104对应阵列基板的扫描线等不透明且不被背光源穿透的器件，遮光区104用于形成黑色矩阵500并遮挡扫描线等器件。一种较佳的实施方式中，遮光区104为长条状，以对应扫描线。结合后图3和图4，在第一基板100的像素单元区102与遮光区104均匀涂布多种颜色的光阻材料后，通过光罩的依次曝光显影，在像素单元区102上形成交替排列的多种颜色的单色阻块。具体的，光阻材料包括蓝色光阻材料、绿色光阻材料及红色光阻材料，对应形成的单色阻块包括蓝色阻块202、绿色阻块204及红色阻块206。一种较佳的实施方式中，光阻材料还包括白色光阻材料，曝光后对应形成白色阻块。在像素单元区102形成单色阻块的同时，遮光区104同时形成色阻垫块。进一步的，一次曝光光阻材料过程同时形成单色阻块和色阻垫块，所形成的色阻垫块包括尺寸不等的第一色阻垫块302与第二色阻垫块304，具体的，第一色阻垫块302在遮光区104的正投影的尺寸大于第二色阻垫块304在遮光区104的正投影的尺寸，或者也可以理解为第一色阻垫块302在遮光区104的正投影的面积大于第二色阻垫块304在遮光区104的正投影的面积。第一色阻垫块302用于后续在其表面曝光黑色光阻材料40后形成主间隔柱502，第二色阻垫块304用于后续在其表面曝光黑色光阻材料40后形成辅间隔柱504。第一色阻垫块302与第二色阻垫块304交替排列，以使后续形成的主间隔柱502与辅间隔柱504可以均匀分布，从而提高间隔柱的支撑效果。本实施例中，蓝色阻块202、绿色阻块204及红色阻块206形成一个像素单元，遮光区104两侧的两个像素单元颜色对称，即遮光区104两侧的相对的两个单色阻块颜色相同。进一步的，相邻的色阻垫块两侧对应的单色阻块颜色相同，即第一色阻垫块302两侧对应的单色阻块颜色本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供第一基板，所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区，在所述第一基板上涂布光阻材料，曝光所述像素单元区形成单色阻块，部分曝光所述遮光区形成色阻垫块；涂布黑色光阻材料于所述遮光区，并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块；曝光所述黑色光阻材料，使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵，覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供第一基板，所述第一基板包括像素单元区与位于所述像素单元区之间的遮光区，在所述第一基板上涂布光阻材料，曝光所述像素单元区形成单色阻块，部分曝光所述遮光区形成色阻垫块；涂布黑色光阻材料于所述遮光区，并且所述黑色光阻材料覆盖所述色阻垫块；曝光所述黑色光阻材料，使得位于所述遮光区的所述黑色光阻材料形成黑色矩阵，覆盖所述色阻垫块的所述黑色光阻材料形成间隔柱。2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，一次曝光所述光阻材料过程所形成的所述色阻垫块包括尺寸不等的第一色阻垫块和第二色阻垫块。3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一色阻垫块在所述遮光区的正投影尺寸大于所述第二色阻垫块在所述遮光区的正投影的尺寸，曝光所述第一色阻垫块表面的所述黑色光阻材料形成主间隔柱，曝光所述第二色阻垫块表面的所述黑色光阻材料形成辅间隔柱。4.根据权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述色阻垫块位于相邻的两个颜色相同的所述单色阻块之间，与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓竹明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44