彩膜基板、阵列基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例涉及一种彩膜基板、阵列基板及显示装置。该彩膜基板包括基板；以及位于所述基板上的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅。本公开实施例提供的彩膜基板应用于显示装置时，能够实现简化彩膜制作工艺、降低生产成本并减少油墨环境污染。

Color film substrate, array substrate and display device

The embodiment of the invention relates to a color film substrate, an array substrate and a display device. The color film substrate comprises a substrate; and the color filter layer on the substrate wherein the color filter layer comprises a transmission grating, a third grating transmission grating comprises a transmission grating, the first red light green light transmission grating and second blue light transmission. When the color film substrate provided by the embodiment of the utility model is applied to the display device, the production process of the color film can be simplified, the production cost is reduced, and the environmental pollution of the ink is reduced.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板、阵列基板及显示装置
本专利技术的实施例涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板、阵列基板及显示装置。
技术介绍
传统显示装置的全彩显示主要通过彩色滤光片滤出红(R)绿(G)蓝(B)三基色光来实现。具体地，利用颜料或染料吸收不需要波长的光，选择性的透过需要波长的光，从而实现RGB三基色的透射与彩色显示。图1示意性地示出传统彩色滤光片10的截面图。如图1所示，彩色滤光片10包括玻璃基板11和位于玻璃基板11上的彩膜层12，彩膜层12包括红色色阻(R)、绿色色阻(G)、蓝色色阻(B)以及位于各色阻之间的黑矩阵。传统的彩色滤光片制作工艺需要分别制备RGB三层彩膜，工艺周期较长，并且所使用的RGB油墨材料会对环境造成污染。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种彩膜基板、阵列基板及显示装置，能够实现简化彩膜制作工艺、降低生产成本并减少油墨环境污染。在本公开的第一方面中，提供一种彩膜基板，包括：基板；以及位于所述基板上的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。在一个实施例中，所述透射光栅包括：位于所述基板上的介质阵列；以及位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。在一个实施例中，所述介质阵列包括PMMA或氧化硅。在一个实施例中，所述金属层包括Al、Au或Ag。在一个实施例中，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅，其中，所述第一光栅的光栅周期范围为360-436nm；所述第二光栅的光栅周期范围为288-331nm；所述第三光栅的光栅周期范围为262-276nm。在本公开的第二方面中，还提供一种阵列基板，包括：基板；位于所述基板上的薄膜晶体管；以及位于所述基板上且沿平行于所述基板表面的方向邻近所述薄膜晶体管设置的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。在一个实施例中，所述透射光栅包括：位于所述基板上的介质阵列；以及位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。在一个实施例中，所述介质阵列包括PMMA或氧化硅。在一个实施例中，所述金属层包括Al、Au或Ag。在一个实施例中，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅，其中，所述第一光栅的光栅周期范围为360-436nm；所述第二光栅的光栅周期范围为288-331nm；所述第三光栅的光栅周期范围为262-276nm。在一个实施例中，所述薄膜晶体管与所述透射光栅同层设置。在一个实施例中，所述阵列基板还包括：钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述透射光栅；以及位于所述钝化层上的透明电极。在一个实施例中，所述薄膜晶体管与所述透射光栅非同层设置。在一个实施例中，所述阵列基板还包括：钝化层，所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管和所述基板，其中，所述透射光栅位于所述钝化层上；位于所述钝化层上的平坦化层；以及位于所述平坦化层上的透明电极。在本公开的第三方面中，提供一种显示装置，包括：在本公开的第一方面中描述的任一种彩膜基板或在本公开的第二方面中描述的任一种阵列基板。在本文描述的实施例中，使用透射光栅代替传统的彩膜，允许白光透过三种光栅周期不同的透射光栅以得到RGB三基色，从而实现全彩色显示。因此，本公开实施例提供的彩膜基板、阵列基板及显示装置可以实现简化彩膜制作工艺、降低生产成本并减少油墨环境污染。适应性的进一步的方面和范围从本文中提供的描述变得明显。应当理解，本申请的各个方面可以单独或者与一个或多个其他方面组合实施。还应当理解，本文中的描述和特定实施例旨在仅说明的目的并不旨在限制本申请的范围。附图说明本文中描述的附图用于仅对所选择的实施例的说明的目的，并不是所有可能的实施方式，并且不旨在限制本申请的范围，其中：图1示意性示出一种传统彩色滤光片的截面图；图2示意性示出本公开实施例提供的示例性彩膜基板的截面图；图3示意性示出本公开实施例提供的示例性透射光栅的截面图；图4示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图；图5示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图；图6A示意性示出根据本公开实施例的示例性阵列基板的截面图；图6B示意性示出根据本公开实施例的示例性阵列基板的截面图；图7A示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图；图7B示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图；图8A示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图；图8B示意性示出根据本公开实施例的示例性显示装置的截面图。贯穿这些附图的各个视图，相应的参考编号指示相应的部件或特征。具体实施方式首先需要说明的是，除非上下文中另外明确地指出，否则在本文和所附权利要求中所使用的词语的单数形式包括复数，反之亦然。因而，当提及单数时，通常包括相应术语的复数。相似地，措辞“包含”和“包括”将解释为包含在内而不是独占性地。同样地，术语“包括”和“或”应当解释为包括在内的，除非本文中明确禁止这样的解释。在本文中使用术语“示例”之处，特别是当其位于一组术语之后时，所述“示例”仅仅是示例性的和阐述性的，且不应当被认为是独占性的或广泛性的。此外，在附图中，为了清楚起见夸大了各层的厚度及区域。应当理解的是，当提到层、区域、或组件在别的部分“上”时，指其直接位于别的部分上，或者也可能有别的组件介于其间。相反，当某个组件被提到“直接”位于别的组件上时，指并无别的组件介于其间。现将参照附图更全面地描述示例性的实施例。在本文描述的实施例中，提供一种彩膜基板，该彩膜基板可以应用于显示装置中。当这种彩膜基板用于显示装置时，透射光栅可以替代传统的彩膜，实现RGB三基色的透过以实现全彩显示，从而简化彩膜制作工艺、降低生产成本并减少油墨环境污染。现将参照图2详细描述本公开实施例提供的示例性彩膜基板。图2示意性示出本公开实施例提供的示例性彩膜基板20的截面图。如图2所示，该彩膜基板20包括基板201以及设置在基板201上的彩色滤光层202。在该实施例中，彩色滤光层202包括透射光栅。具体地，彩色滤光层202包括第一透射光栅203、第二透射光栅204和第三透射光栅205。第一透射光栅203能够透射白光中的红光分量，其中，红光波长范围为620-750nm；第二透射光栅204能够透射白光中的绿光分量，其中，绿光波长范围为495-570nm；第三透射光栅205能够透射白光中的蓝光分量，其中，蓝光波长范围为450-475nm，。在该实施例中，使用透射光栅代替传统的彩膜，以透过RGB三基色，从而实现全彩显示。图3示意性示出本公开实施例提供的示例性透射光栅30的截面图。如图3所示，透射光栅30包括位于基板201上的介质阵列301和位于介质阵列301的顶表面和侧壁上的金属层302。在一个示例性实施例中，基板可以包括玻璃等透明材料。在一个示例性实施例中，介质阵列301可以包括PMMA或氧化硅。在一个示例性实施例中，金属层302包括Al、Au或Ag。在一个示例性实施例中，金属层302的厚度小于50nm。在一个示例性实施例中，制备介质阵列301的方法包括但不限于纳米压印、印刷工艺、光刻工艺等。在一个示例性实施例中，通过沉积方法将金属层302沉积在介质阵列301的顶表面和侧壁上，所述沉积方法包括但不限于磁控溅射、热蒸镀、电子束蒸镀、原子层沉积等。对于传统光学，当光照射到金属表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；以及位于所述基板上的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；以及位于所述基板上的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透射光栅包括：位于所述基板上的介质阵列；以及位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述介质阵列包括PMMA或氧化硅。4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述金属层包括Al、Au或Ag。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述透射光栅包括透射红光的第一光栅、透射绿光的第二光栅和透射蓝光的第三光栅，其中，所述第一光栅的光栅周期范围为360-436nm；所述第二光栅的光栅周期范围为288-331nm；所述第三光栅的光栅周期范围为262-276nm。6.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；位于所述基板上的薄膜晶体管；以及位于所述基板上且沿平行于所述基板表面的方向邻近所述薄膜晶体管设置的彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括透射光栅。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述透射光栅包括：位于所述基板上的介质阵列；以及位于所述介质阵列的顶表面和侧壁上的金属层。8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述介...

【专利技术属性】
技术研发人员：王美丽，邱云，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11