处理腔中晶圆位置检测装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种处理腔中晶圆位置检测装置及方法。本发明专利技术的处理腔中晶圆位置检测装置包括：摄像机、光源以及监视器；其中，光源布置在晶圆处理腔内或者布置在晶圆处理腔外以使得光源能够照射晶圆处理腔内部；并且其中，所述摄像机布置在晶圆处理腔内或者布置在晶圆处理腔侧壁以便能够拍摄晶圆处理腔内布置的待处理晶圆的位置；而且，监视器布置在晶圆处理腔外部；并且监视器通过缆线连接至摄像机，从而监视器能够实时地显示摄像机所拍摄的图像。根据本发明专利技术，工程师能够通过方便地查看所述监视器来获知所述待处理晶圆的实时位置。从而，即使在处理腔中晶圆位置发生偏移时，也不会发生移动晶圆时损坏晶圆的问题，并且也不会延长晶圆处理时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造工艺，更具体地说，本专利技术涉及一种处理腔中晶圆位置检测装置以及处理腔中晶圆位置检测装置方法。
技术介绍
当晶圆在处理腔中进行加工处理时，由于传输或者托盘的问题可能会使得晶圆的位置发生偏移。当晶圆位置偏移时，设备发出警报，以便将晶圆位置偏移的情况告知工程师或操作人员。但是，即使设备在晶圆位置发生偏移时发出了警报，工程师或操作人员仍无法获知晶圆在处理腔中的实际位置。同时，当晶圆位置偏移而使设备发出警报时，需要使用机械手来移动处理腔中晶 圆，而由于工程师或操作人员无法获知晶圆在处理腔中的实际位置，所以机械手在接触晶圆时并不能精确拾取晶圆，从而会产生使晶圆破损的危险。但是，如果打开处理腔来取出发生偏移的晶圆，虽然能够避免晶圆破损的危险，但是延长了晶圆处理时间。因此，在现有技术中，在处理腔中晶圆位置发生偏移时，要么会发生移动晶圆时损坏晶圆的问题，要么会延长晶圆处理时间。因此，希望能够提供一种在处理腔中晶圆位置发生偏移时既不会发生移动晶圆时损坏晶圆的问题也不会延长晶圆处理时间的解决方案。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中存在上述缺陷，提供一种在处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理腔中晶圆位置检测装置，其特征在于包括：摄像机、光源以及监视器；其中，所述光源布置在所述晶圆处理腔内或者布置在晶圆处理腔外以使得所述光源能够照射所述晶圆处理腔内部；并且其中，所述摄像机布置在所述晶圆处理腔内或者布置在晶圆处理腔侧壁以便能够拍摄所述晶圆处理腔内布置的待处理晶圆的位置；而且，所述监视器布置在所述晶圆处理腔外部；并且所述监视器通过缆线连接至所述摄像机，从而所述监视器能够实时地显示所述摄像机所拍摄的图像。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周广伟，巴文林，
申请(专利权)人：上海宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：