一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构制造技术

本实用新型专利技术提出一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，包括：透明隔离层，设置于所述观测窗口面板上；不透明遮挡层卷轴，设置于所述透明隔离层顶端；卷帘式遮挡层，卷设于所述不透明遮挡层卷轴上。本实用新型专利技术提出的改进卷帘式晶片检测机宏观观测窗口，将其设计成为透明不透明可切换的模式，如进行晶片宏观检查就使其观测窗口保持透明状态，如需进行晶片宏观拍照时就将其观测窗口调整为不透明状态。这样既保证了晶片宏观检查所需的正常操作模式，也减少了晶片宏观拍照时外部灯光环境对晶片表面造成的反射，保证了晶片宏观照片质量，避免了由于晶片与机台外环境直接接触而产生微粒。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术设计半导体集成电路制造领域，且特别涉及一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构。
技术介绍
对于晶片的检查包括宏观和微观检查，其宏观检查完全靠人的肉眼去观察晶片表面，然后再进行拍照记录分析，对于不能直接在第一现场对晶片缺陷进行检查的人员，照片质量完全会影响对晶片外观缺陷的判断。现有技术中使用的卷帘式检测机在进行晶片的宏观检查时是透过一层透明的隔离层(隔离窗口)来进行的，以Nikon 0ST3200卷帘式检测机台为例，晶片是隔着透明隔离 层的，晶片检验人员就是通过透明隔离层来检查其宏观缺陷的。但是在对晶片的宏观进行拍照时由于外界灯光的影响以致机台内的部分影像和外界灯光通过透明隔离层反射到晶片表面，导致宏观照片不理想，无论是开着宏观灯还是关着宏观灯，外界的灯光和机台部分影像都会反射到晶片表面。
技术实现思路
本技术的目的是，改进卷帘式晶片检测机宏观观测窗口，将其设计成为透明不透明可切换的模式，如进行晶片宏观检查就使其观测窗口保持透明状态，如需进行晶片宏观拍照时就将其观测窗口调整为不透明状态。这样既保证了晶片宏观检查所需的正常操作模式，也减少了晶片宏观拍照时外部灯光环境对晶片表面造成的反射，保证了晶片宏观照片质量，避免了由于晶片与机台外环境直接接触而产生微粒。为了达到上述目的，本技术提出一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，包括透明隔离层，设置于所述观测窗口面板上；不透明遮挡层卷轴，设置于所述透明隔离层顶端；卷帘式遮挡层，卷设于所述不透明遮挡层卷轴上。进一步的，所述卷帘式遮挡层上设置有不透明遮挡层挂钩。进一步的，所述观测窗口面板上设置有突起杆，所述突起杆靠近所述透明隔离层下端，并正对于所述不透明遮挡层挂钩。进一步的，所述卷帘式遮挡层通过不透明遮挡层挂钩下拉遮盖所述透明隔离层后，所述不透明遮挡层挂钩固定于所述突起杆上。进一步的，所述不透明遮挡层卷轴设置有紧缩弹簧结构，当所述不透明遮挡层挂钩脱离所述突起杆后，所述卷帘式遮挡层自动卷回所述不透明遮挡层卷轴上。本技术的有益效果为将卷帘式检测机台的宏观观测窗口设计成为透明不透明可切换的结构，在进行晶片宏观拍照时可以减少外界灯光因素对晶片表面造成的反射现象，此不透明遮挡层能将宏观观测透明隔离层所覆盖，解决了外界灯光反射问题。避免了为了解决晶片宏观照片外界灯光环境问题而将透明隔离层(隔离窗口)拉起而造成晶片表面与机台外界环境直接接触产生微粒，间接地保证了晶片质量。此不透明遮挡层可以往上移动卷起，调节方便，便于操作。附图说明图I所示为本技术较佳实施例的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构示意图。图2所示为本技术较佳实施例的拉下卷帘式遮挡层的结构示意图。具体实施方式为了更了解本技术的
技术实现思路
，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。 请参考图1，图I所示为本技术较佳实施例的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构示意图。本技术提出一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，包括透明隔离层100，设置于所述观测窗口面板10上；不透明遮挡层卷轴200，设置于所述透明隔离层100顶端；卷帘式遮挡层300，卷设于所述不透明遮挡层卷轴200上。根据本技术较佳实施例，所述卷帘式遮挡层300上设置有不透明遮挡层挂钩400，所述观测窗口面板10上设置有突起杆500，所述突起杆500靠近所述透明隔离层100下端，并正对于所述不透明遮挡层挂钩400，所述卷帘式遮挡层300通过不透明遮挡层挂钩400下拉遮盖所述透明隔离层100后，所述不透明遮挡层挂钩400固定于所述突起杆500上。进一步的，所述不透明遮挡层卷轴200设置有紧缩弹簧结构，当所述不透明遮挡层挂钩400脱离所述突起杆500后，所述卷帘式遮挡层300自动卷回所述不透明遮挡层卷轴200上。请参考图2，图2所示为本技术较佳实施例的拉下卷帘式遮挡层的结构示意图。在进行晶片宏观检查时如需进行拍照就将不透明遮挡层挂钩400往下拉直到可以与固定挂钩的突起杆500钩住来保证此卷帘式遮挡层300不会往上回卷同时也将透明隔离层100完全遮盖，随后就可以进行宏观拍照了。拍完照后将此不透明遮挡层挂钩400放松后，此卷帘式遮挡层300就会被卷回不透明遮挡层卷轴200。综上所述，将卷帘式检测机台的宏观观测窗口设计成为透明不透明可切换的结构，在进行晶片宏观拍照时可以减少外界灯光因素对晶片表面造成的反射现象，此不透明遮挡层能将宏观观测透明隔离层所覆盖，解决了外界灯光反射问题。避免了为了解决晶片宏观照片外界灯光环境问题而将透明隔离层(隔离窗口)拉起而造成晶片表面与机台外界环境直接接触产生微粒，间接地保证了晶片质量。此不透明遮挡层可以往上移动卷起，调节方便，便于操作。虽然本技术已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本技术。本技术所属
中具有通常知识者，在不脱离本技术的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本技术的保护范围当视权利要求书所界定者为准。权利要求1.一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，包括 透明隔离层，设置于所述观测窗口面板上； 不透明遮挡层卷轴，设置于所述透明隔离层顶端； 卷帘式遮挡层，卷设于所述不透明遮挡层卷轴上。2.根据权利要求I所述的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，所述卷帘式遮挡层上设置有不透明遮挡层挂钩。3.根据权利要求2所述的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，所述观测窗口面板上设置有突起杆，所述突起杆靠近所述透明隔离层下端，并正对于所述不透明遮挡层挂钩。4.根据权利要求3所述的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，所述卷帘式遮挡层通过不透明遮挡层挂钩下拉遮盖所述透明隔离层后，所述不透明遮挡层挂钩固定于所述突起杆上。5.根据权利要求4所述的卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，所述不透明遮挡层卷轴设置有紧缩弹簧结构，当所述不透明遮挡层挂钩脱离所述突起杆后，所述卷帘式遮挡层自动卷回所述不透明遮挡层卷轴上。专利摘要本技术提出一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，包括透明隔离层，设置于所述观测窗口面板上；不透明遮挡层卷轴，设置于所述透明隔离层顶端；卷帘式遮挡层，卷设于所述不透明遮挡层卷轴上。本技术提出的改进卷帘式晶片检测机宏观观测窗口，将其设计成为透明不透明可切换的模式，如进行晶片宏观检查就使其观测窗口保持透明状态，如需进行晶片宏观拍照时就将其观测窗口调整为不透明状态。这样既保证了晶片宏观检查所需的正常操作模式，也减少了晶片宏观拍照时外部灯光环境对晶片表面造成的反射，保证了晶片宏观照片质量，避免了由于晶片与机台外环境直接接触而产生微粒。文档编号H01L21/66GK202633247SQ201220297030公开日2012年12月26日 申请日期2012年6月21日 优先权日2012年6月21日专利技术者瞿丹红, 姜舜, 陈丽娟 申请人:上海华力微电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种卷帘式晶片检测机宏观目检观测窗口结构，其特征在于，包括：透明隔离层，设置于所述观测窗口面板上；不透明遮挡层卷轴，设置于所述透明隔离层顶端；卷帘式遮挡层，卷设于所述不透明遮挡层卷轴上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：瞿丹红，姜舜，陈丽娟，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：