发光二极管模块检验制造技术

技术编号:8149830 阅读:225 留言:0更新日期:2012-12-28 21:08
本实用新型专利技术公开了一种发光二极管模块检验,包括:一摄影部、一扩散层、一介质层、复数光源模块及一辐射模块;摄影部用以撷取影像,扩散层位于摄影部前方用以均匀化光源,介质层位于扩散层前方用以提供光源穿透,复数光源模块位于介质层前方,将复数光源模块容置固定于一承载件内表面,其中复数光源模块系以规则性比例之多组单一光源组件排列而成,且每一组单一光源组件组成之数量皆相等,辐射模块位于承载件下方。本创作特征在于透过复数模块光源配置及特殊迭层结构设计,使待测物前、后段亮度下降现象获得补偿。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及ー种发光二极管模块检验,其整合复数光源模块用以改善待测物亮度特性不均匀之互相补偿技木。
技术介绍
光学镜头处理检测对象为高速高精度光学影像检测技术,运用机器设备视觉效果做为检测技术之标准,作为改良传统利用人力使用光学仪器逐一完成检测之缺失,应用层面从高科技产业之研发、制造品管,扩及至国防、民生、医疗、环保、电カ等领域。广义的光学检测为结合光学感测系统、讯号处理系统及分析软件,应用层面涵盖宇宙探測、航空、卫星遥测、生物医学、エ业生产质量检测、指纹比对、机器人控制、多媒体技术等。狭义的光学检测则指大量应用エ业自动化的薄膜晶体管/液晶显示器、晶体管与印刷电路板等エ业制程上的光学检测设备,以及半导体、集成电路、消费性电子产品、自动化机械、金属钢铁业、纺织皮革エ业、汽车电子、建筑材料、保全监视等产业。光学检查是エ业制程中常见的代表性作法,利用光学仪器撷取成品表面状态,再以计算机影像处理技术检测出异物或图案异常等瑕疵,属于非接触式检测。一般高精度光学影像检测整体系统涵盖
,包含量测镜头制造技术、光学照明处理手法、定位量测原理、电子电路电性驱动测试技术、影像处理系统以及自动化应用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光二极管模块检验,包括:一摄影部,系用以撷取影像;一扩散层,位于该摄影部前方,系用以均匀化光源并于扩散层内部空间将光线产生会聚;一介质层,位于该扩散层前方,系用以提供光源穿透;其特征在于:复数光源模块,位于该介质层前方,系容置固定于一承载件内表面,该复数光源模块系以规则性比例之多组单一光源组件排列而成,其中每一组单一光源组件组成之数量皆相等;以及一辐射模块,位于该承载件下方。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:罗友群方志恒
申请(专利权)人:由田信息技术上海有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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