１８对棒多晶硅还原炉制造技术

本１８对棒多晶硅还原炉在还原炉内壁有光滑的银层，底盘上配有１８对电极、在底盘上均匀设置多个进气喷嘴，利用银的化学特性和良好的加工性，以及抛光后的镜面效果，使多晶硅还原炉中反应时的供料气体分布更均匀，反应更充分，此举不仅提高了产品纯度，也达到了大幅度节能降耗的目的。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种生产多晶硅用的还原炉，特别是一种以提高单炉的产量和降 低能耗为目的大对棒数多晶硅还原炉。
技术介绍
多晶硅还原炉是生产多晶硅原料的关键设备，同时又是一个高耗能的设备。因此， 还原炉的设计和制造，直接影响到产品的产量、质量和生产成本。随着多晶硅市场的竟争日 趋激烈，要求多晶硅生产必须做到充分利用生产资料，提高生产效率、降低生产成本，为多 晶硅生产企业提高产量、质量、节省投资显得尤为重要。现有的多晶硅还原炉结构由底盘、炉体组成，炉子主体采用不锈钢材料。底盘上设 置电极、进气口和还原尾气排气口。从节能降耗、提高产品质量、降低生产成本考虑，其炉子 结构有待进一步完善。
技术实现思路
本技术的目的是为了进一步提高产品质量和节能降耗，对现有多晶硅还原炉 进行优化设计，提供一种具有显著节能降耗效果和提高产品质量的多晶硅还原炉。本技术的结构特点实现了上述设计目的。本技术是一种18对棒多晶硅 还原炉，由底盘和炉体构成，在炉体和底盘上设有冷却水腔和冷却水进出口，底盘上配有电 极、进气口和排气口，底盘与炉体采用紧固件连接，其特征在于还原炉内壁有一层厚度为 2-3mm的光滑的银层，底盘上有18对用于生成硅棒的电极。上述设置的18对电极在底盘上分二圈在360°上均布内圈为6对电极，外圈为 12对电极，底盘上在两圈电极之间间隔120°均勻分布3个进气喷嘴，底盘中心设有还原尾 气的出气口。本技术由于采用了在炉内壁和底盘内侧设置光滑的银层，均勻设置进气喷 嘴，使多晶硅还原炉中反应时的供料气体分布更均勻，反应更充分，并利用银的化学特性和 良好的加工性，以及抛光后的镜面效果，在生产出纯度更高的多晶硅产品的同时，大幅度降 低了能耗，从而显著降低了多晶硅的生产成本。附图说明图1是本18对棒多晶硅还原炉的外观示意图。图2是炉子底盘电极、进气喷嘴和排气口分布示意图。实施例1如图所示，本技术是一种18对棒多晶硅还原炉，由底盘9和炉体5构成，底盘 与炉体采用法兰盘8连接。炉体5上设有冷却水腔夹套7，底盘9上也设有冷却水腔夹套， 夹套上设有冷却水进出口。炉体5上设有9个用于观察和测量温度的视孔4，分上、中、下三 层120°均布；还原炉内壁有一层光滑的银层3，厚度2-3mm。底盘上设置有18对电极10，3在底盘上分二圈分布内圈为6对电极，外圈为12对电极；炉子下部有进气管道2与底盘上 的3个进气喷嘴11连通，3个进气喷嘴在底盘上的二圈电极之间间隔120 °均勻分布，底盘 中心设有还原尾气的出气口 1。权利要求18对棒多晶硅还原炉，包括底盘和炉体，在炉体和底盘上设有冷却水腔和用于冷却水进出的进出口，底盘上配有电极、进气口和排气口，底盘与炉体采用紧固件连接，炉体上设有用于观察和测量温度的视孔，其特征在于还原炉内壁有一层厚度为2 3mm的光滑的银层，底盘上有18对用于生成硅棒的电极。2.根据权利要求1所述的18对棒多晶硅还原炉，其特征在于18对电极在底盘上分二 圈在360°上均布，内圈为6对电极，外圈为12对电极，底盘上位于两圈电极之间在360° 上均勻分布3个进气喷嘴，底盘中心设有还原尾气的排气口。专利摘要本18对棒多晶硅还原炉在还原炉内壁有光滑的银层，底盘上配有18对电极、在底盘上均匀设置多个进气喷嘴，利用银的化学特性和良好的加工性，以及抛光后的镜面效果，使多晶硅还原炉中反应时的供料气体分布更均匀，反应更充分，此举不仅提高了产品纯度，也达到了大幅度节能降耗的目的。文档编号C01B33/021GK201713325SQ20102021562公开日2011年1月19日 申请日期2010年6月4日 优先权日2010年6月4日专利技术者王姗 申请人:成都蜀菱科技发展有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１８对棒多晶硅还原炉，包括底盘和炉体，在炉体和底盘上设有冷却水腔和用于冷却水进出的进出口，底盘上配有电极、进气口和排气口，底盘与炉体采用紧固件连接，炉体上设有用于观察和测量温度的视孔，其特征在于还原炉内壁有一层厚度为２－３ｍｍ的光滑的银层，底盘上有１８对用于生成硅棒的电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王姗，
申请(专利权)人：成都蜀菱科技发展有限公司，
类型：实用新型
国别省市：90[中国|成都]