用于真空溅射沉积薄膜的设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单元包括回送线支架、回送线平台、回送线传动轴、回送线传动轮、回送线马达，所述的回送线平台置于所述的回送线支架上，所述的回送线传动轴可转动地设置在所述的回送线平台上，所述的回送线传动轮固定安装在所述的回送线传动轴上，所述的回送线传动轴由所述的回送线马达带动传动。本实用新型专利技术的优点是：提高了抽气速率及靶极溅射能力，增加了溅射薄膜的厚度，提高了效率，降低了成本。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备。
技术介绍
目前，塑材工件的电磁波干扰遮蔽膜是一层金属薄膜，该金属薄膜通过真 空溅射物理气相沉积溅射在塑材工件上，整个过程需要在真空环境中进行。 原有技术中，真空溅射沉积薄膜设备的主溅射区内部的传送系统为带有电动 机的自动传送系统，外部传送系统为万向滚轮回送线。需溅射的工件放置在 传送平台上，经前负载腔体抽气后，直接进入溅射区腔体进行溅射沉积薄膜， 传送平台被自动送出溅射区腔体进入后负载腔体进行充气，通过回送线升降 台送至外部传送系统，由专人负责将传送平台通过万向滚轮回送线推回到进 料口处，进行下一轮回作业。溅射沉积薄膜设备中有需要溅射的金属靶极， 靶极上的金属离子通过物理气相沉积溅射在塑材工件上。因为现有溅射沉积 薄膜设备的溅射靶极组数量、腔体内的抽气速率不足等，造成溅射沉积薄膜 的厚度不厚，无法满足产品的要求；又由于需要专人负责将传送平台通过万 向滚轮回送线推回到进料口处，会导致传送平台积压在外部传送系统，效率 降低，人工成本高。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的是提供一种作业效率高、 抽气速度快、溅射薄膜厚度厚的带有自动本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台（１）、前负载腔体（２）、主溅射区、后负载腔体（８）、后升降台（９）、外部回送系统，其特征在于：所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元（１０），该回送单元（１０）包括回送线支架（１０４）、回送线平台（１０５）、回送线传动轴（１０２）、回送线传动轮（１０１）、回送线马达（１０６），所述的回送线平台（１０５）置于所述的回送线支架（１０４）上，所述的的回送线传动轴（１０２）可转动地设置在所述的回送线平台（１０５）上，所述的回送线传动轮（１０１）固定安装在所述的回送线传动轴（１０２）上，所述...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林政乾，曾德洪，
申请(专利权)人：柏霆苏州光电科技有限公司，柏腾科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]