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本实用新型涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单元包括...该专利属于柏霆(苏州)光电科技有限公司;柏腾科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过柏霆(苏州)光电科技有限公司;柏腾科技股份有限公司授权不得商用。