溅镀靶材的冷却装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是一种溅镀靶材的冷却装置，是设置于一溅镀阴极的阴极本体的下方，该阴极本体具有一环形水道，该冷却装置包括有：一绝缘座，是具有一凹槽以及至少二贯穿该绝缘座并连通于该凹槽的接合孔；一磁铁底板，是设置于该凹槽之中，具有至少二水路接头设置孔，该水路接头设置孔是介于该环形水道与该接合孔之间并且对应于该环形水道与该接合孔；至少二水路接头，各具有一接合部以及一连接于该接合部的一端的出水端部；通过上述的结构，本实用新型专利技术将冷却水直接注入环形水道，更可提升冷却效果以增进溅镀靶材的热能逸散。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种溅镀靶材的冷却装置，其特别是关于一种真空溅镀制程中可 增进溅镀靶材的散热效率的冷却装置。
技术介绍
真空溅镀技术是真空薄膜制程中应用层面相当广泛的一项重要技术，近年来已 经逐渐取代喷导电漆或电解电镀等方式，大量地应用在光电、通信、半导体等产业， 成为相当重要的表面处理技术。在溅镀制程中，是将一溅镀靶材及待镀工件设置于一布满惰性气体的真空环境 中，该溅镀靶材及待镀工件之间是存在着一具有高电位差的电场，当惰性气体离子 受到电场加速而撞击该溅镀靶材表面，该溅镀靶材表面的原子受撞击后则飞向该待 镀工件并且在待镀工件的表面沉积而形成薄膜。然而，在溅镀过程中溅镀设备会产生高温，溅镀靶材因而必须具备良好的散热 效率，以非金属靶材为例，由于非金属靶材的散热效率不佳，所以必须以铟为介质 接合于一无氧铜层，通过该无氧铜层优异的热传导效率协助该非金属靶材进行散热， 另外，还会在溅镀设备中辅以冷却水路的搭配以进一步提升其散热的效果。如图4所示，是为一用于真空溅镀制程的现有技术溅镀源(1)，该现有技术溅 镀源(1)具有一溅镀源本体(11)，该溅镀源本体(11)中设有一溅镀阴极(12)， 该溅镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅镀靶材的冷却装置，是设置于一溅镀阴极的阴极本体的下方，该阴极本体具有一环形水道，其特征在于该冷却装置包括有：　一绝缘座，是具有一凹槽以及至少二贯穿该绝缘座并连通于该凹槽的接合孔；　一磁铁底板，是设置于该凹槽之中，具有至少二 水路接头设置孔，该水路接头设置孔是介于该环形水道与该接合孔之间并且对应于该环形水道与该接合孔；　至少二水路接头，各具有一接合部以及一连接于该接合部的一端的出水端部。

【技术特征摘要】
1、一种溅镀靶材的冷却装置，是设置于一溅镀阴极的阴极本体的下方，该阴极本体具有一环形水道，其特征在于该冷却装置包括有一绝缘座，是具有一凹槽以及至少二贯穿该绝缘座并连通于该凹槽的接合孔；一磁铁底板，是设置于该凹槽之中，具有至少二水路接头设置孔，该水路接头设...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚朝祯，
申请(专利权)人：钰衡科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]