【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体工艺与光学元件制作方法，尤其涉及一种彩色滤光片的蚀刻方法及其制作方法。
技术介绍
现今社会多媒体技术相当发达，多半受惠于半导体元件或显示装置的进步。就显示器而言，具有高画质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的液晶显示器已逐渐成为市场的主流。液晶显示器主要是由显示面板与背光模块所构成，其中显示面板包括有源阵列显示基板与彩色滤光片。彩色滤光片是用以将背光模块所发出的光进行过滤，而使液晶显示器具有全彩的功能。彩色滤光片通常可分为单一膜层的滤光片与具有复合层结构的滤光片。一般来说，具有复合层结构的滤光片是藉由将不同折射率的膜层交错叠合而成，以达成对特定波长过滤的目的。在一般具有复合层结构的滤光片的制作过程中，通常是先将具有不同折射率的膜层依序形成在基板上，然后再进行溅镀蚀刻工艺以将上述的膜层图案化。现有的溅镀蚀刻工艺所使用的蚀刻气体通常是由氟氯化碳、氟化碳与氯气所组成的混合气体。然而，一般滤光片的膜层厚度至少大于8000(800nm)，但采用上述的蚀刻气体来进行蚀刻工艺时，蚀刻速率却只有17nm/min至22nm/min，其蚀刻速...
【技术保护点】
一种彩色滤光片的蚀刻方法，包括：提供一基板，该基板上已形成有一多层式滤光片材料层；以及将该基板置入一蚀刻反应室中，通入一混合气体以进行一干式蚀刻工艺，将该多层式滤光片材料层图案化，该混合气体包括一物理反应气体与一化学反应气体 。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴沂庭，余华伟，
申请(专利权)人：联华电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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