一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，该掩膜板包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组对位标识中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域为中心对称设置。由于一个掩膜图案区域可以用于对应形成一个单膜层图案的有效图形，通过掩膜板中的至少两个并排设置的掩膜图案区域，即可形成至少两个单膜层图案的有效图形，并且以对应的掩膜图案区域为中心对称设置的每组对位标识中包含的两个对位标识，保证了单膜层图案的有效图形的位置精度。因此，有效减少了掩膜板的数量，从而降低了开发颠覆性创新设计的成本。

A mask plate, an exposure device and a method for exposing the same

The invention discloses a method for mask, exposure device and exposure, the mask includes at least two parallel arranged mask pattern for regional effective pattern forming single film pattern, at least two sets of alignment logo and mask pattern with each region respectively; two alignment mark each group contains para's logo to the corresponding mask pattern area as the center symmetry set. As a result of a mask pattern area can be used for the effective pattern corresponding to form a single layer pattern, the mask pattern area and at least two parallel arranged mask in the graphics can be effective to form at least two single layer pattern, and the mask pattern area corresponding to two marks each containing Para Para symmetrically arranged in the center mark, ensure the position accuracy of single layer pattern of effective graphics. As a result, the number of mask plates is effectively reduced, thereby reducing the cost of developing subversive innovative designs.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法
本专利技术涉及曝光
，尤其涉及一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法。
技术介绍
掩膜板作为转移微细图形的工具，在显示面板生产中具有承上启下的关键作用，是显示面板产业链中不可或缺的重要环节。生产过程中有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜板，即同一工艺制程的膜层图案和对位标识制作在同一张掩膜板上，不同工艺制程的膜层图案和对位标识制作在不同的掩膜板上上，利用对位标识保证各膜层图案的精确位置。例如如图1所示，a代表包含栅极层(G)图案和对位标识的掩膜板，b代表另一张包含源漏极层(SD)图案和对位标识的掩膜板。对位标识实现对位的原理是基板上形成包含栅极层图案的掩膜板的对位标识，实现包含栅极层图案的掩膜板与基板之间的对位；而源漏极层图案的掩膜板上设置有与栅极层图案的对位标识互补的对位标识，c代表最终经过对位光学系统以后图像传感器(Charge-coupledDevice，CCD)抓到的完整的对位后的图案。可见，掩膜板的数量代表了制造过程中采用的光刻工艺子流程的数目，而掩膜板价格昂贵，一直占据着技术开发项目成本中的绝大部分。为降低技术开发成本，目前，高世代线的技术开发项目大部分采用选择性的搭载已开发产品的方式进行。具体方式是更改其中的一张或两张掩膜板，通过共用其他掩膜板和工艺条件来降低成本和提高开发成功率。长期以来，这种方式已被验证是进行技术开发的最有效的方式，但是由于这种方式只针对单个关键技术进行开发，因此，只适用于改良和性能提升的技术开发，而不能进行颠覆性创新设计，例如新像素和新面板等的开发和验证，从而导致整个行业每年新产生的大部分专利成果都无法得到验证，严重影响了高性能产品的开发周期。若新开掩膜板进行较大创新项目的验证以缩短开发周期，则需要抛弃原有的开发载体重新设计一整套掩膜板，这样会成倍地增加开发成本。因此，如何设计掩膜板，以解决开发颠覆性创新设计的成本是目前亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，用以解决现有技术中存在的如何设计掩膜板，以解决开发颠覆性创新设计的成本是目前亟需解决的问题。本专利技术实施例提供一种掩膜板，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，在所述掩膜板中最先使用的掩膜图案区域对应的对位标识的图案与其他掩膜图案区域对应的对位标识的图案互补。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，各所述掩膜图案区域按照用于形成的单膜层图案的有效图形的制备顺序依次顺序排列。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，全部所述掩膜图案区域用于采用相同性质光刻胶形成单膜层图案的有效图形。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，在全部所述掩膜图案区域用于采用正性光刻胶形成单膜层图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：栅极层图案、有源层图案、源漏极层图案、树脂层图案、公共电极层图案和像素电极层图案；在全部所述掩膜图案区域用于采用负性光刻胶形成单膜层图案或采用正性光刻胶形成过孔图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：第一层绝缘层图案、第二层绝缘层图案和紫外固化图案。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，与各所述掩膜图案区域分别对应的对位标识为两组，分别设置在对应的所述掩膜图案区域的四角位置。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，在全部所述掩膜图案区域用于采用负性光刻胶形成单膜层图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：黑矩阵层图案、彩色树脂层图案和光阻层图案。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，与各所述掩膜图案区域分别对应的对位标识为两组，分别设置在对应的所述掩膜图案区域的相对两个侧边位置。本专利技术实施例还提供了一种曝光装置，包括：多个载置台，以及通过同一个通道与各所述载置台连接的遮光罩载物台；其中，各所述载置台分别对应放置一张上述掩膜板。本专利技术实施例还提供了一种采用上述曝光装置进行曝光的方法，包括：根据各单膜层图案形成的顺序，调用相应的所述载置台上的掩膜板，对放置于所述遮光罩载物台上的基板依次进行曝光，形成各所述单膜层图案的有效图形。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，该掩膜板包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组对位标识中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域为中心对称设置。由于一个掩膜图案区域可以用于对应形成一个单膜层图案的有效图形，通过掩膜板中的至少两个并排设置的掩膜图案区域，即可形成至少两个单膜层图案的有效图形，并且以对应的掩膜图案区域为中心对称设置的每组对位标识中包含的两个对位标识，保证了单膜层图案的有效图形的位置精度。因此，有效减少了掩膜板的数量，从而降低了开发颠覆性创新设计的成本。附图说明图1为现有技术中曝光工艺中使用的掩膜板的示意图；图2为本专利技术实施例提供的掩膜板的示意图之一；图3为本专利技术实施例提供的掩膜板的示意图之二；图4为本专利技术实施例提供的掩膜板的示意图之三；图5为本专利技术实施例提供的掩膜图案区域对应的对位标识的图案的示意图之一；图6为本专利技术实施例提供的掩膜图案区域对应的对位标识的图案的示意图之二；图7为本专利技术实施例提供的用于监控曝光机挡板遮挡位置的标识位置的示意图之一；图8为本专利技术实施例提供的用于监控曝光机挡板遮挡位置的标识位置的示意图之二；图9为现有技术中曝光装置的结构示意图；图10为本专利技术实施例提供的曝光装置的结构示意图。具体实施方式下面结合附图，对本专利技术实施例提供的一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法的具体实施方式进行详细地说明。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供的一种掩膜板，如图2至图4所示，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域201，以及与各掩膜图案区域201分别对应的至少两组对位标识202；每组对位标识202中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域201为中心对称设置。具体地，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，由于一个掩膜图案区域201可以用于对应形成一个单膜层图案的有效图形，通过掩膜板中的至少两个并排设置的掩膜图案区域201，即可形成至少两个单膜层图案的有效图形，并且以对应的掩膜图案区域201为中心对称设置的每组对位标识202中包含的两个对位标识，保证了单膜层图案的有效图形的位置精度。因此，有效减少了掩膜板的数量，从而降低了开发颠覆性创新设计的成本。在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述掩膜板中，如图2和图3所示，还可以包括设置在掩膜板相对的两侧的上中下位置处的三组对位标识203，用于掩膜板首次曝光时与机台进行对位。较佳地，为确保各单膜层图案的有效图形能够正常形成，上述三组对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，其特征在于，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，在所述掩膜板中最先使用的掩膜图案区域对应的对位标识的图案与其他掩膜图案区域对应的对位标识的图案互补。3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，各所述掩膜图案区域按照用于形成的单膜层图案的有效图形的制备顺序依次顺序排列。4.如权利要求1-3任一项所述的掩膜板，其特征在于，全部所述掩膜图案区域用于采用相同性质光刻胶形成单膜层图案的有效图形。5.如权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，在全部所述掩膜图案区域用于采用正性光刻胶形成单膜层图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：栅极层图案、有源层图案、源漏极层图案、树脂层图案、公共电极层图案和像素电极层图案；在全部所述掩膜图案区域用于采用负性光刻胶形成单膜层图案或采用正性光刻胶形成过孔图案的有效图形时，所述各...

【专利技术属性】
技术研发人员：许卓，张逵，王孝林，白雅杰，汪锐，金在光，尚飞，邱海军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11