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本发明公开了一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，该掩膜板包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组对位标识中包含的两个对位标识以对应的掩膜图案区域为中心对称设...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司授权不得商用。