本发明专利技术提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。曝光装置(PE)包括对照射到工件(W)的曝光光的照度进行测定的照度计(40)，在将工件(W)曝光前，使用照度计(40)来测定经由平面镜(68)照射到工件(W)的曝光光的曝光区域(A)的照度分布。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及，更详细而言，涉及通过将曝光光隔着形成有掩模图案的掩模照射到涂布有感光剂的工件来进行曝光，从而将掩模图案转印到工件上的。
技术介绍
以往，公开了包括光学系统的曝光装置，该光学系统包括:镜要素，其具有反射照明光的反射面；及多个驱动单元，其对镜要素的背面施加力而使反射面变形，该光学系统能将反射面变形为各种形状(例如参照专利文献I和2。)。如图8所示，在专利文献I的曝光装置中，包括:镜要素101，其具有反射照射光IL的反射面1la ;多个驱动单元102，其配置在镜要素101的背面；及保持块103，其保持镜要素101的周边部的保持部101b，该曝光装置利用多个驱动单元102使镜要素101的反射面1la变形为各种形状，对难以用通常的成像特性校正机构来校正的光轴上的像散这样的非旋转对称的像差成分进行校正。在专利文献2的曝光装置中，经由多个支承部件、球接头和垫将平面镜的背面支承于保持框，利用驱动装置来驱动支承部件，与工件的形变对应地校正平面镜的曲率，从而根据工件的被曝光区域的形状将掩模的图案曝光。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2013-161992号公报专利文献2:日本特开2011-123461号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的问题可是，在专利文献2所记载的曝光装置中，与工件的形变对应地校正平面镜的曲率时，由于曝光光的照度分布恶化，因此需要改善照度分布的恶化。本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。解决问题的方法本专利技术的上述目的由下述的构成实现。(I) 一种曝光装置，包括:工件支承部，所述工件支承部支承工件；掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，所述曝光装置的特征在于，包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，在曝光所述工件前，使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布。(2)如(I)所述的曝光装置，其特征在于，包括移动所述工件支承部以便使所述工件与所述掩模在水平方向相对移动的输送机构，驱动所述输送机构，能够使所述照度计在所述曝光区域的整个范围移动。(3)如⑴或⑵所述的曝光装置，其特征在于，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布，驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。(4)如⑴或⑵所述的曝光装置，其特征在于，所述照明光学系统包括多个所述反射镜，并且，所述镜弯曲机构包含分别能校正所述多个反射镜的曲率的多个镜弯曲机构，对于所述多个反射镜的任意I个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率，对于所述多个反射镜的任意另I个，在校正了所述任意I个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。(5) 一种曝光方法，使用(3)所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序:使用所述照度计测定经由所述反射镜将照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正所述反射镜的曲率。(6) 一种曝光方法，使用(4)所述的曝光装置，将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，其特征在于，包括如下的工序:对于所述多个反射镜的任意I个，驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率的工序；使用所述照度计，测定经由所述曲率由所属镜弯曲机构进行了校正的所述任意I个反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布；及对于所述多个反射镜的任意另I个，在校正了所述任意I个反射镜的曲率的状态下，根据由所述照度计测定的所述曝光区域的照度分布来驱动所述镜弯曲机构，从而校正其曲率。专利技术的效果根据本专利技术的，包括对照射到工件的曝光光的照度进行测定的照度计，在曝光工件前，使用照度计测定经由曲率由镜弯曲机构进行了校正的反射镜照射到工件的曝光光的曝光区域的照度分布。由此，能够获取曝光区域的照度分布，在未到达目标照度分布的情况下，再次驱动进行了曲率校正的反射镜、或者其他反射镜的镜弯曲机构，进行微调以便到达目标照度分布，从而能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。【附图说明】图1是本专利技术所涉及的曝光装置的主视图。图2是示出本专利技术的第I实施方式所涉及的照明光学系统的图。图3(a)是示出照明光学系统的反射镜支承构造的平面图，(b)是沿着(a)的II1-1II线的剖视图，(C)是沿着(a)的III’ -1II’线的剖视图。图4(a)?(d)是说明测定曝光区域的照度分布的过程的概要图。图5是图1的V部放大图。图6是示出本实施方式的曝光方法的流程图的图。图7是示出本专利技术的第2实施方式所涉及的照明光学系统的图。图8是示出以往的反射镜支承构造的图。附图标记说明I掩模台(掩模支承部)2工件台(工件支承部)3照明光学系统5 X轴台输送机构6 Y轴台输送机构40照度计60复合灯单元(光源)65光学积分器66、68平面镜(包括镜弯曲机构的反射镜)70镜变形单元(镜弯曲机构)EL 光路M 掩模PE曝光装置W 工件【具体实施方式】(第一实施方式)下面，基于附图详细说明本专利技术所涉及的曝光装置的一个实施方式。图1是示出本专利技术的曝光装置的图。如图1所示，接近曝光装置PE使用比作为被曝光件的工件W小的掩模M，用掩模台I保持掩模M，并且用工件台(工件支承部)2保持工件W，使掩模M与工件W接近，以预定的曝光间隙对置配置，在该状态下，从照明光学系统3向掩模M照射图案曝光用的光，从而将掩模M的图案曝光转印到工件W上。另外，使工件台2相对于掩模M在X轴方向和Y轴方向这两轴方向步进移动，在每一步中进行曝光转印。为了使工件台2在X轴方向步进移动，在装置底座4上设置有X轴台输送机构5，该轴台输送机构5使X轴输送台5a在X轴方向步进移动。为了使工件台2在Y轴方向步进移动，在X轴台输送机构5的X轴输送台5a上设置有Y轴台输送机构6，该Y轴台输送机构6使Y轴输送台6a在Y轴方向步进移动。在Y轴台输送机构6的Y轴输送台6a上设置有工件台2。在工件台2的上表面，工件W在被工件卡盘等真空吸引的状态下被保持。另外，在工件台2的侧部配设有用于测定掩模M的下表面高度的基板侧变位传感器15。所以，基板侧变位传感器15能够与工件台2 —起在X、Y轴方向移动。在装置底座4上，沿X轴方向配置有多个(图示的实施方式中为4条)X轴直线导轨的导轨51，在各导轨51上跨架有固定在X轴输送台5a的下表面的滑动件52。由此，X轴输送台5a被X轴台输送机构5的第I直线马达20驱动，能够沿着导轨51在X轴方向往返移动。另外，在X轴输送台5a上，沿Y轴方向配置有多个Y轴直线导轨的导轨53，在各导轨53上跨架有固定在Y轴输送台6a的下表面的滑动件54。由此，Y轴输送台6a被Y轴台输送机构6的第2直线马达21驱动，能够沿本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，包括：工件支承部，所述工件支承部支承工件；掩模支承部，所述掩模支承部支承掩模；照明光学系统，所述照明光学系统具有光源和将来自该光源的曝光光反射的反射镜；及镜弯曲机构，所述镜弯曲机构能校正所述反射镜的曲率，所述曝光装置将来自所述光源的曝光光隔着所述掩模照射到所述工件，将所述掩模的图案转印到所述工件，所述曝光装置的特征在于，包括对照射到所述工件的曝光光的照度进行测定的照度计，在曝光所述工件前，使用所述照度计测定经由所述反射镜照射到所述工件的所述曝光光的曝光区域的照度分布。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：林慎一郎，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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