显示基板曝光方法技术

提供了一种显示基板曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在显示基板的第一区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在图案掩模中的掩模对准标记来曝光显示基板的第一区域；第一对准结果计算步骤，计算第一基板对准标记和掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映第一对准结果在显示基板的第二区域的非显示区中设置第二基板对准标记；以及第二曝光步骤，通过基于第二基板对准标记对准掩模对准标记来曝光显示基板的第二区域。

Display substrate exposure method

Provides a display substrate exposure method, the pattern mask having a plurality of regions of the display substrate sequential exposure, the method includes: a first exposure step by setting in the first display area of the substrate in the first non display substrate alignment mark alignment is formed on the first region pattern mask mode of alignment mark the exposure to the display substrate based on the alignment results; the first calculation step, calculating the first substrate alignment mark and the first alignment results mask alignment mark; second substrate alignment mark is arranged by the first step, reflecting the alignment results in a non display setting second substrate alignment mark regions displayed in second area of the substrate; and a second exposure step by second substrate alignment mark alignment mask alignment mark to exposure display area of the substrate based on second.

【技术实现步骤摘要】

所描述的技术大体涉及显示基板曝光方法，更具体地说，涉及用曝光装置的图案掩模顺序对准并曝光具有多个区域的显示基板的方法。
技术介绍
目前已知的平板显示器包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、有机发光二极管设备(OLED设备)、场效应显示器(FED)、电泳显示设备等。平板显示器是通过半导体工艺制造的，在加工期间形成各种图案，并且为了形成图案而使用曝光装置。曝光装置根据形成在图案掩模中的图案曝光目标。然而，当显示设备扩大时，由于图案掩模的大小是有限的，难以由图案掩模一次曝光显示基板，其结果是，使用顺序对准并曝光显示基板上的图案掩模的方法。然而，由于难以精确地将图案掩模上的对准标记对准在显示基板上设置的对准基准点上，因此实际上，图案掩模以未对准的状态被对准在显示基板上。当在显示基板上顺序对准图案掩模时，形成了在曝光期间未对准度彼此重叠的缝线(stitch line)，其结果是，存在重叠偏差出现在显示基板上的问题，并且增加了产生诸如显示设备的斑点的缺陷的可能性。在此
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于增强对所描述技术的背景的理解，因此其可能包含不形成在本国对本领域普通技术人员来说已经知晓的现有技术的信息。
技术实现思路
所描述的技术已经致力于提供一种对准并曝光图案掩模的方法，通过在曝光装置中反映显示基板和图案掩模的初始对准结果以在后续图案掩模对准期间应用初始对准结果，具有在曝光期间减少缝线中的重叠偏差的优点。一个示例性实施例提供了一种曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在显示基板的第一区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在图案掩模中的掩模对准标记来曝光显示基板的第一区域；第一对准结果计算步骤，计算第一基板对准标记和掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映第一对准结果在显示基板的第二区域的非显示区中设置第二基板对准标记；以及第二曝光步骤，通过基于第二基板对准标记对准掩模对准标记来曝光显示基板的第二区域。第一基板对准标记可以被设置在显示基板的第一区域的边缘的上角和下角。第二基板对准标记可以被设置在显示基板的第二区域的边缘的上角和下角。显示基板可以进一步包括除了第一区域和第二区域之外的第三区域，并且在第二曝光步骤之后，该方法可以进一步包括：第二对准结果计算步骤，计算第二基板对准标记和掩模对准标记的第二对准结果；第三基板对准标记设置步骤，通过反映第二对准结果在显示基板的第三区域的非显示区中设置第三基板对准标记；以及第三曝光步骤，通过基于第三基板对准标记对准掩模对准标记来曝光显示基板的第三区域。第三基板对准标记可以被设置在显示基板的第三区域的边缘的上角和下角。另一示例性实施例提供了一种曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在显示基板的第一区域的非显示区和第二区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在图案掩模中的掩模对准标记并遮蔽第二区域来曝光显示基板的第一区域；第一对准结果计算步骤，计算第一基板对准标记和掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映第一对准结果在显示基板的第二区域的非显示区和第三区域的非显示区中设置第二基板对准标记；以及第二曝光步骤，通过基于第二基板对准标记对准掩模对准标记来曝光显示基板的第二区域和第三区域。第一基板对准标记可以被设置在显示基板的第一区域的边缘的上角和第二区域的边缘的下角。第二基板对准标记可以被设置在显示基板的第二区域的边缘的上角和第三区域的边缘的下角。又一示例性实施例提供了一种曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在显示基板的第一区域的非显示区和第二区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在图案掩模中的掩模对准标记并遮蔽第二区域来曝光显示基板的第一区域；第一对准结果计算步骤，计算第一基板对准标记和掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映第一对准结果在显示基板的第二区域的非显示区和第三区域的非显示区中设置第二基板对准标记；第二曝光步骤，通过基于第二基板对准标记对准掩模对准标记并遮蔽第三区域来曝光显示基板的第二区域；第二对准结果计算步骤，计算第二基板对准标记和掩模对准标记的第二对准结果；第三基板对准标记设置步骤，通过反映第二对准结果在显示基板的第三区域的非显示区和第四区域的非显示区中设置第三基板对准标记；以及第三曝光步骤，通过基于第三基板对准标记对准掩模对准标记来曝光显示基板的第三区域和第四区域。第一基板对准标记可以被设置在显示基板的第一区域的边缘的上角和第二区域的边缘的下角。第二基板对准标记可以被设置在显示基板的第二区域的边缘的上角和第三区域的边缘的下角。第三基板对准标记可以被设置在显示基板的第三区域的边缘的上角和第四区域的边缘的下角。根据示例性实施例，在通过图案掩模顺序曝光大型显示基板的曝光方法中，通过在曝光装置中反映显示基板和图案掩模的初始对准结果以在后续图案掩模对准期间应用初始对准结果，能够在曝光期间减少缝线的重叠偏差，并防止诸如显示设备的斑点的缺陷。附图说明图1是示出了根据第一示例性实施例的曝光方法的流程图。图2是示意性地示出了根据第一示例性实施例的曝光方法中的第一曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图3是示意性地示出了根据第一示例性实施例的曝光方法中的第二曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图4是示意性地示出了根据第一示例性实施例的曝光方法中的第一基板对准标记和掩模对准标记的第一对准状态的图。图5是示意性示出了根据第一示例性实施例的曝光方法中的第二基板对准标记设置状态的图。图6是示意性地示出了根据第二示例性实施例的曝光方法中的第一曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图7是示意性地示出了根据第二示例性实施例的曝光方法中的第二曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图8是示意性地示出了根据第二示例性实施例的曝光方法中的第三曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图9是示意性地示出了根据第三示例性实施例的曝光方法中的第一曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图10是示意性地示出了根据第三示例性实施例的曝光方法中的第二曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。图11是示意性地示出了根据第四示例性实施例的曝光方法中的第三曝光步骤中的图案掩模的对准状态的图。具体实施例在下文中将参考其中示出了专利技术的示例性实施例的附图更完整地描述本专利技术。如本领域技术人员将认识到的那样，所描述的实施例可以以各种不同的方式修改，所有这些都不脱离本专利技术的精神或范围。此外，在示例性实施例中，由于相同的附图标记指代具有相同构造的相同元件，代表性地描述了第一示例性实施例，在其它示例性实施例中，将只描述不同于第一示例性实施例的构造。应该注意的是，图是示意性的，没有按照比例绘制。为了清楚和方便，图中部分的相对尺寸和比例被示出为在图中的尺寸上被夸大或减小了，任何尺寸仅仅是例示，而不是限制。此外，在两个或更多的图中示出的相同结构、元件或部件使用相同的附图标记，以显示相似的特征。将理解的是，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”时，它可以直接在另一元件上，或者也可以存在中间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在所述显示基板的第一区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在所述图案掩模中的掩模对准标记来曝光所述显示基板的所述第一区域；第一对准结果计算步骤，计算所述第一基板对准标记和所述掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映所述第一对准结果在所述显示基板的第二区域的非显示区中设置第二基板对准标记；和第二曝光步骤，通过基于所述第二基板对准标记对准所述掩模对准标记来曝光所述显示基板的所述第二区域。

【技术特征摘要】
2015.05.06 KR 10-2015-00633641.一种显示基板曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在所述显示基板的第一区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在所述图案掩模中的掩模对准标记来曝光所述显示基板的所述第一区域；第一对准结果计算步骤，计算所述第一基板对准标记和所述掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过反映所述第一对准结果在所述显示基板的第二区域的非显示区中设置第二基板对准标记；和第二曝光步骤，通过基于所述第二基板对准标记对准所述掩模对准标记来曝光所述显示基板的所述第二区域。2.根据权利要求1所述的方法，其中：所述第一基板对准标记被设置在所述显示基板的所述第一区域的边缘的上角和下角。3.根据权利要求2所述的方法，其中：所述第二基板对准标记被设置在所述显示基板的所述第二区域的边缘的上角和下角。4.根据权利要求3所述的方法，所述显示基板进一步包括除了所述第一区域和所述第二区域之外的第三区域，并且在所述第二曝光步骤之后，所述方法进一步包括：第二对准结果计算步骤，计算所述第二基板对准标记和所述掩模对准标记的第二对准结果；第三基板对准标记设置步骤，通过反映所述第二对准结果在所述显示基板的所述第三区域的非显示区中设置第三基板对准标记；和第三曝光步骤，通过基于所述第三基板对准标记对准所述掩模对准标记来曝光所述显示基板的所述第三区域。5.根据权利要求4所述的方法，其中：所述第三基板对准标记被设置在所述显示基板的所述第三区域的边缘的上角和下角。6.一种显示基板曝光方法，通过图案掩模将具有多个区域的显示基板顺序曝光，该方法包括：第一曝光步骤，通过基于设置在所述显示基板的第一区域的非显示区和第二区域的非显示区中的第一基板对准标记对准形成在所述图案掩模中的掩模对准标记并遮蔽所述第二区域来曝光所述显示基板的所述第一区域；第一对准结果计算步骤，计算所述第一基板对准标记和所述掩模对准标记的第一对准结果；第二基板对准标记设置步骤，通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙柱镐，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR