【技术实现步骤摘要】
层叠存储装置以及具有该层叠存储装置的存储器封装
示例实施方式涉及一种半导体器件,更具体地,涉及一种层叠存储装置(stackedmemorydevice)以及具有该层叠存储装置的存储器封装和存储系统。
技术介绍
随着半导体存储装置的容量的增加,已经开发了层叠存储装置,其中包括存储器单元的半导体管芯(semiconductordie)被依次堆叠。在传统的层叠存储装置中,电源电压从下部的半导体管芯传输到上部的半导体管芯。因此,上部的半导体管芯的路径(上部的半导体管芯通过该路径接收电源电压)会长于下部的半导体管芯的路径(下部的半导体管芯通过该路径接收电源电压)。因而,传输到上部的半导体管芯的电源电压的大小会由于在所述路径上的电压降而小于传输到下部的半导体管芯的电源电压的大小。
技术实现思路
某些示例实施方式针对于提供具有提高的电源特性的层叠存储装置。某些示例实施方式针对于提供包括该层叠存储装置的存储系统。某些示例实施方式针对于提供包括该层叠存储装置的存储器封装。根据示例实施方式,一种层叠存储装置包括主半导体管芯(die)和多个从属半导体管芯。主半导体管芯包括联接到从层叠存储装置的外面提供的第一电源电压的第一电源线、联接到从层叠存储装置的外面提供的第二电源电压的第二电源线、联接到第一电源线的存储装置、以及联接到第二电源线的第一数据输入/输出缓冲器。多个从属半导体管芯从下至上依次堆叠在主半导体管芯上。多个从属半导体管芯的每个包括第三电源线、第四电源线和联接到第三电源线的存储装置。第三电源线电连接到第一电源线,第四电源线与第二电源线电分离,并且第三电源线电连接到第四电源线。 ...
【技术保护点】
一种层叠存储装置,包括:主半导体管芯,包括联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第一电源电压的第一电源线、联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第二电源电压的第二电源线、联接到所述第一电源线的第一存储装置、以及联接到所述第二电源线的第一数据输入/输出缓冲器;和多个从属半导体管芯,从下至上依次堆叠在所述主半导体管芯上,所述多个从属半导体管芯的每个包括第三电源线、第四电源线和联接到所述第三电源线的第二存储装置,其中所述第三电源线电连接到所述第一电源线,所述第四电源线与所述第二电源线电分离,并且所述第三电源线电连接到所述第四电源线,并且其中所述第一数据输入/输出缓冲器配置为缓冲外部装置与所述第一存储装置和所述第二存储装置之间通讯的数据。
【技术特征摘要】
2015.11.26 KR 10-2015-01660451.一种层叠存储装置,包括:主半导体管芯,包括联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第一电源电压的第一电源线、联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第二电源电压的第二电源线、联接到所述第一电源线的第一存储装置、以及联接到所述第二电源线的第一数据输入/输出缓冲器;和多个从属半导体管芯,从下至上依次堆叠在所述主半导体管芯上,所述多个从属半导体管芯的每个包括第三电源线、第四电源线和联接到所述第三电源线的第二存储装置,其中所述第三电源线电连接到所述第一电源线,所述第四电源线与所述第二电源线电分离,并且所述第三电源线电连接到所述第四电源线,并且其中所述第一数据输入/输出缓冲器配置为缓冲外部装置与所述第一存储装置和所述第二存储装置之间通讯的数据。2.如权利要求1所述的层叠存储装置,其中包括在所述多个从属半导体管芯的每个中的所述第三电源线通过硅通孔电连接到包括在所述主半导体管芯中的所述第一电源线。3.如权利要求1所述的层叠存储装置,其中所述主半导体管芯还包括联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第一接地电压的第一接地线和联接到从所述层叠存储装置的外面提供的第二接地电压的第二接地线,其中所述多个从属半导体管芯的每个还包括电连接到所述第一接地线的第三接地线以及与所述第二接地线电分离的第四接地线,并且其中包括在所述多个从属半导体管芯的每个中的所述第三接地线和所述第四接地线通过连接结构彼此电连接。4.如权利要求3所述的层叠存储装置,其中包括在所述主半导体管芯中的所述第一存储装置联接在所述第一电源线和所述第一接地线之间,并采用通过所述第一电源线提供的所述第一电源电压操作。其中包括在所述主半导体管芯中的所述数据输入/输出缓冲器联接在所述第二电源线和所述第二接地线之间,并采用通过所述第二电源线提供的所述第二电源电压操作,并且其中包括在所述多个从属半导体管芯的每个中的所述第二存储装置联接在所述第三电源线和所述第三接地线之间,并采用通过所述第三电源线和所述第四电源线提供的所述第一电源电压操作。5.如权利要求3所述的层叠存储装置,其中所述主半导体管芯还包括:第一电容器,联接在所述第一电源线和所述第一接地线之间;和第二电容器,联接在所述第二电源线和所述第二接地线之间,并且其中所述多个从属半导体管芯的每个还包括:第三电容器,联接在所述第三电源线和所述第三接地线之间;和第四电容器,联接在所述第四电源线和所述第四接地线之间。6.如权利要求1所述的层叠存储装置,其中包括在所述主半导体管芯中的所述第一电源线和所述第二电源线通过形成为开路状态的金属选项彼此电分离,并且其中包括在所述多个从属半导体管芯的每个中的所述第三电源线和所述第四电源线通过形成为闭合状态的金属选项彼此电连接。7.如权利要求1所述的层叠存储装置,其中所述多个从属半导体管芯的每个还包括:第一后表面焊盘,形成在对应的从属半导体管芯的后表面上,所述第一后表面焊盘通过第三硅通孔联接到所述第三电源线;和第二后表面焊盘,形成在所述对应的从属半导体管芯的所述后表面上,所述第二后表面焊盘通过第四硅通孔联接到所述第四电源线,其中所述第一后表面焊盘和所述第二后表面焊盘在所述对应的从属半导体管芯的所述后表面上彼此电连接。8.如权利要求1所述的层叠存储装置,其中包括在所述主半导体管芯中的所述第一电源线通过第一硅通孔联接到包括在所述主半导体管芯上堆叠的从属半导体管芯中的所述第三电源线,并通过第二硅通孔联接到包括在所述主半导体管芯上堆叠的所述从属半导体管芯中的所述第四电源线,并且其中包括在所述多个从属半导体管芯当中的对应的从属半导体管芯中的所述第三电源线通过第三硅通孔联接到包括在所述对应的从属半导体管芯上堆叠的从属半导体管芯中的所述第三电源线,并通过第四硅通孔联接到包括在所述对应的从属半导体管芯上堆叠的所述从属半导体管芯中的所述第四电源线。9.如权利要求8所述的层叠存储装置,其中所述第二电源线的至少一部分垂直地位于所述第二硅通孔和所述第一电源线之下,并且其中所述第四电源线的至少一部分垂直地位于所述第四硅通孔和所述第三电源线之下。10.如权利要求8所述的层叠存储装置,其中所述主半导体管芯还包括联接在所述第一电源线和所述第二电源线之间的第一电源开关,并且所述第一电源开关配置为响应于具有第一逻辑电平的第一电源控制信号而进入截止状态,并且其中所述多个从属半导体管芯的每个还包括联接在所述第三电源线和所述第四电源线之间的第二电源开关,并且所述第二电源开关配置...
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