蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法技术

本发明专利技术公开了一种蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法，该喷淋处理设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。通过上述方式，本发明专利技术能够提升处理液处理基材的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种，该喷淋处理设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。通过上述方式，本专利技术能够提升处理液处理基材的均匀性。【专利说明】
本专利技术涉及喷淋处理
，特别是涉及一种。
技术介绍
现有的喷淋处理设备通常通过朝下喷淋处理液对水平移动的材料进行化学反应或清洗，处理液因重力作用在水平移动的基材上面形成一层水膜，阻碍新的处理液与材料接触而造成上表面存在“水池效应”，从而使得喷淋的液体不能直接喷洒到水平移动基材上，造成化学反应或清洗不均匀。 因此，需要提供一种，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种，能够避免与基材反应过的处理液阻挡新的处理液与基材反应，能够提升处理液处理基材的均匀性。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种喷淋处理设备，喷淋处理设备包括:支撑装置，用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置，用于向倾斜设置的基材喷淋处理液。 其中，支撑装置设有用于传送基材的传送机构。 其中，支撑装置的两侧均设置有喷淋装置。 其中，支撑平面与水平面的夹角为2?70度。 其中，支撑装置还包括用于调节支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。 其中，喷淋装置与支撑装置平行设置，且喷淋装置喷出处理液的方向与支撑装置支撑的基材表面垂直；或者喷淋装置水平设置，且喷淋装置喷出处理液的方向与水平面垂直。 其中，支撑装置包括至少两个子支撑装置，喷淋装置包括至少两个子喷淋装置，且每个子支撑装置对应设置至少一个子喷淋装置。 其中，至少两个子支撑装置的两支撑平面相交。 其中，至少两个子支撑装置的两支撑平面关于同一铅垂面对称设置。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一个技术方案是:提供一种蚀刻设备，该蚀刻设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋蚀刻液。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的另一个技术方案是:提供一种显影设备，显影设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋显影液。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是:提供一种清洗设备，该清洗设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋清洗液。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是:提供一种褪膜设备，该褪膜设备包括支撑装置和喷淋装置，支撑装置用于支撑待处理的基材，且支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置用于向倾斜设置的基材喷淋褪膜液。 为解决上述技术问题，本专利技术采用的又一个技术方案是:提供一种喷淋处理方法，喷淋处理方法包括:将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上，以使得基材与水平面成预定角度倾斜；利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。 其中，将待处理基材置于支撑平面倾斜设置的支撑装置上包括:将待处理基材置于支撑装置包括的至少两个支撑平面倾斜设置的子支撑装置上；利用喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液包括:将喷淋装置设置为包括至少两个子喷淋装置，利用至少两个子喷淋装置向倾斜设置的基材喷淋处理液。 本专利技术的有益效果是:区别于现有技术的情况，本专利技术通过设置支撑平面倾斜的支撑装置，使基材上的处理液快速流走避免“水池效应”，确保新鲜处理液持续快速与基材表面反应，不会产生处理液到不了的死角，从而提升处理液处理基材的均匀性。 【专利附图】【附图说明】 图1是本专利技术喷淋处理设备的第一实施例的结构示意图； 图1a是支撑装置和喷淋装置倾斜的另一种情况示意图； 图2是本专利技术喷淋处理设备的第二实施例的结构示意图； 图3是本专利技术喷淋处理设备的第三实施例的结构示意图； 图4是本专利技术喷淋处理设备的第四实施例的结构示意图； 图5是本专利技术喷淋处理设备的第五实施例的结构示意图； 图6是本专利技术喷淋处理方法的优选实施例的流程图。 【具体实施方式】 下面结合附图和实施例对本专利技术进行说明。 请参阅图1，图1是本专利技术喷淋处理设备的第一实施例的结构示意图。在本实施例中，在本实施例中，喷淋处理设备包括支撑装置10和喷淋装置11。 支撑装置10用于支撑待处理的基材12，且支撑装置10的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得基材12与水平面成预定角度倾斜。 喷淋装置11用于向倾斜设置的基材12喷淋处理液。喷淋装置11进一步相对水平面倾斜设置，优选地，喷淋装置11与支撑装置10平行设置，且喷淋装置11喷出处理液的方向与支撑装置10支撑的基材12表面垂直。当然，在其他实施例中，喷淋装置11也可以是水平设置。 喷淋装置11包括安装板111和喷头112，安装板111用于固定喷头112，喷头112用于喷淋处理液。优选地，安装板111与支撑装置10支撑平面平行设置。在本专利技术其他实施例中，安装板111与支撑装置10支撑平面也可以成一定的角度设置，比如安装板111水平设置。 优选地，喷淋处理设备也包括用于调节喷淋装置的倾斜角度的角度调节装置。 优选地，喷淋处理设备设有用于调节喷淋装置11旋转角度的调节装置(图未示)，喷淋处理设备还设有用于调节支撑装置10旋转角度的调节装置。 优选地，支撑装置10设有用于传送基材12的传送机构，即支撑装置10还用于传送基材12。传送机构包括若干通过动力驱动而转动的辊轴101，基材12支撑在多个辊轴101形成的支撑平面上，由辊轴101转动从而传送基材12。 优选地，辊轴101之间有间隙，喷淋装置11喷出的处理液通过间隙喷淋至基材12上。 优选地，支撑装置10具有一个整体的支撑平面支撑基材12。 优选地，支撑装置10的两侧均设置有喷淋装置11。 优选地，支撑装置10还包括用于调节支撑平面的倾斜角度的角度调节装置。 优选地，支撑装置10支撑平面与水平面的夹角为2?70度。 更为优选地，支撑装置10支撑平面与水平面的夹角为3?10度。 由于基材12支撑在支撑平面上，基材12与水平面的夹角和支撑装置10支撑平面与水平面的夹角相等。 优选地，处理液为显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜液中的一种或组合。例如，当处理液为显影液的时候，本专利技术的喷淋处理设备可以为显影设备，当处理液为蚀刻液的时候，本专利技术的喷淋处理设备可以为蚀刻设备，当处理液为清洗液的时候，本专利技术的喷淋处理设备可以为清洗设备。当处理液为褪膜液的时候，本专利技术的喷淋处理设备可以为褪膜设备，当然在有多个子喷淋装置和子支撑装置而在不同的子喷淋装置上喷淋不同的处理液时，本专利技术的喷淋处理设备也可以是一种流水线处理设备，例如流水线处理设备利用不同的子喷淋装置按一定的顺序喷淋显影液、蚀刻液、清洗液、褪膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷淋处理设备，其特征在于，所述喷淋处理设备包括：支撑装置，用于支撑待处理的基材，且所述支撑装置的支撑平面相对水平面倾斜设置，以使得所述基材与水平面成预定角度倾斜；喷淋装置，用于向倾斜设置的所述基材喷淋处理液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙尚传，
申请(专利权)人：安徽省大富光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34