本文提供用于处理基板的方法与设备。一些实施方式中，基板处理腔室包含：腔室主体；腔室盖组件，所述腔室盖组件具有外壳(housing)，所述外壳包围中央通道，所述中央通道沿着中央轴延伸并具有上部与下部；盖板，所述盖板耦接于所述外壳并具有含轮...

本公开的实施例总体上涉及一种在半导体制造中使用的系统。更具体地，本公开的实施例涉及一种用于脉冲式DC偏压和箝位基板的系统。在一个实施例中，系统包括等离子体腔室，所述等离子体腔室具有ESC以用于支撑基板。电极嵌入在ESC中并电耦合至偏压与...

描述了用于抑制载体的振动的磁性阻尼装置(100)。所述磁性阻尼装置(100)包括第一组件(110)，所述第一组件包括至少一个导电板元件(111)。附加地，所述磁性阻尼装置(100)包括磁体组件(120)，所述磁体组件具有沿减振方向(10...

描述了一种用于保持基板(101)的保持装置(100)。所述保持装置(100)包括：主体(110)；粘合布置(120)，所述粘合布置提供在所述主体(110)的表面(111)上；和形状记忆元件(130)，所述形状记忆元件与所述主体(110)...

本文披露了一种用于替换坩埚的蒸发沉积系统，所述蒸发沉积系统包括：真空腔室，所述真空腔室被配置为容纳基板；蒸发源，所述蒸发源被配置为供应气相沉积材料至基板；多个移动腔室，每个移动腔室被配置为沿着轨道移动并且容纳蒸发源；和连接腔室，所述连接...

描述了一种用于清洁真空腔室(特别是用于OLED装置的制造中的真空腔室)的方法。此方法包括利用活性物种清洁真空腔室的内侧及真空腔室的内侧的元件的至少一者，用于产生这些活性物种的处理气体包括至少90％的氧及至少2％的氩，特别是，其中处理气体...

一种压电装置，包括：基板；位于所述基板上的热氧化物层；位于所述热氧化物层上的金属或金属氧化物粘附层；位于所述金属氧化物粘附层上的下部电极；位于所述下部电极上的种晶层；位于所述种晶层上的铌镁酸铅‑钛酸铅(PMNPT)压电层；和位于所述PM...

本公开的实施例涉及用于半导体处理腔室的制品。所述制品包括：主体；含稀土金属的氧化物涂层，所述含稀土金属的氧化物涂层共形地覆盖所述主体的表面，所述含稀土金属的氧化物涂层具有0％的孔隙率；以及缓冲层，所述缓冲层在所述主体的所述表面上，其中所...

一种制造压电层的方法，包括：在将基板保持在低于400℃的温度的同时，通过物理气相沉积将第一结晶相的压电材料沉积到基板上；和在高于500℃的温度下对基板进行热退火，以将压电材料转变为第二结晶相。所述物理气相沉积包括在等离子体沉积腔室中从靶...

提供一种发光结构(500)。发光结构(500)包括第一反射电极部分(400)、在第一反射电极部分上的发射器层(502)和在发射器层上的第二电极部分(504)。第一反射电极部分(400)包括第一透明导电金属氧化物层(401)、反射金属层(...

本文的实施方式涉及运输系统和基板处理及传送(SPT)系统。SPT系统包含连接两个处理工具的运输系统。运输系统包含真空隧道，真空隧道被配置为在处理工具之间运输基板。真空隧道包含基板运输载具，以移动基板通过真空隧道。SPT系统具有多种配置以...

本公开的实施例总体上提供用于处理基板的设备和方法。更具体地，本公开的实施例提供一种处理腔室，所述处理腔室对设置在处理腔室中的基板的边缘具有增强的处理效率。在一个实施例中，处理腔室包含：腔室主体，所述腔室主体在处理腔室中界定内部处理区域；...

本文描述的实施方式大致上关于原位计量系统，该原位计量系统能够持续提供到达设置于处理腔室内的基板的不中断的光学途径。在一个实施方式中，提供一种用于基板处理腔室的计量系统。该计量系统包括：传感器观察管件，耦接至基板处理腔室的石英圆顶；凸缘，...

提供一种辐射装置(200)，包括中空主体和布置在所述中空主体(250)内的冷却装置(246)。

本文中提供一种使用可变微波频率来固化基板上的聚合物层的方法。在一些实施例中，使用可变微波频率来固化基板上的聚合物层的方法包括(a)在基板上形成第一薄膜聚合物层，所述第一薄膜聚合物层包括至少一种第一基底介电材料和至少一种微波可调谐材料；(...

一种用于聚焦扫描式电子显微镜(scanning electron microscope，SEM)的系统和方法包括使用第一聚焦条件获取样本的第一SEM图像；分析第一SEM图像，以确定对比改变测量结果；基于这些对比改变测量结果确定感兴趣区；...

本公开的方面涉及用于处理腔室的衬底支撑件的一个或多个实现方式。在一个实现方式中，一种衬底支撑件包括：主体，所述主体具有中心；以及支撑表面，所述支撑表面在所述主体上，所述支撑表面被配置为至少部分地支撑衬底。所述衬底支撑件包括：第一成角度壁...

在基板的化学机械抛光期间，通过第一原位监测系统来确定取决于经受抛光的基板上的测量点中的层的厚度的信号值。通过第二原位成像系统产生至少基板的测量点的图像。机器视觉处理(例如卷积神经网络)用于基于图像来确定测量点的特征值。然后，基于特征值和...

兹描述用于形成诸如NMOS栅电极之类的半导体结构的方法及设备。所述方法可包括以下步骤：于高k介电层的第一表面上方沉积第一覆盖层，该第一覆盖层具有第一表面；及于第一覆盖层的第一表面上方沉积至少一个金属层，该至少一个金属层具有第一表面，其中...

本公开内容的方面涉及用于在等离子体处理腔室的盖组件内使用的导热间隔件。在一个实施方式中，等离子体处理腔室包括腔室主体和盖组件，所述盖组件耦接至所述腔室主体，从而限定处理空间。所述盖组件包括耦接至所述腔室主体的背板，以及具有从中穿过而形成...