【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】发光结构和用于沉积发光结构的电极部分的设备
本公开内容涉及一种发光结构和用于沉积发光结构的电极部分的设备。特别地,本公开内容涉及一种用于在基板上形成至少一层溅射材料以用于显示器制造的设备。
技术介绍
在许多应用中,使用在基板上(例如在玻璃基板上)沉积薄层。常规地,在涂布设备的不同腔室中涂布基板。对于一些应用来说,使用气相沉积技术在真空中涂布基板。已知用于在基板上沉积材料的数种方法。例如,可通过物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺或等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺或类似工艺来涂布基板。通常,工艺在待涂布的基板所在的处理设备或处理腔室中执行。在过去几年内,电子器件且特别是光电子器件的成本表现出显著降低。另外,在显示器中的像素密度不断增加。例如,发光二极管(LED)显示器使用发光二极管阵列作为像素。LED显示器的高亮度产生对LED显示器的逐渐地增加的需求。在有机发光二极管(OLED)中,电致发光材料是有机化合物。OLED的潜在优点包括具有低驱动电压、宽视角和高对比度和色域的低成本的薄显示器。然而 ...
【技术保护点】
1.一种发光结构(500),其特征在于包括:/n-第一反射电极部分(400)、在所述第一反射电极部分上的发射器层(502)和在所述发射器层上的第二电极部分(504);/n-其中所述第一反射电极部分(400)包括第一透明导电金属氧化物层(401)、反射金属层(402)和第二透明导电金属氧化物层(403),/n-其中所述反射金属层(402)由所述第二透明导电金属氧化物层(403)覆盖;并且/n-其中所述第一反射电极部分(400)对入射光具有小于6%的光吸收率。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种发光结构(500),其特征在于包括:
-第一反射电极部分(400)、在所述第一反射电极部分上的发射器层(502)和在所述发射器层上的第二电极部分(504);
-其中所述第一反射电极部分(400)包括第一透明导电金属氧化物层(401)、反射金属层(402)和第二透明导电金属氧化物层(403),
-其中所述反射金属层(402)由所述第二透明导电金属氧化物层(403)覆盖;并且
-其中所述第一反射电极部分(400)对入射光具有小于6%的光吸收率。
2.如权利要求1所述的发光结构(500),其中所述第一透明导电金属氧化物层(401)和所述第二透明导电金属氧化物层(403)中的至少一者对所述入射光具有93%至100%的吸收率。
3.如权利要求1所述的发光结构(500),其中所述第一反射电极部分(400)的粗糙度小于2nm。
4.如权利要求1所述的发光结构(500),其中所述第一反射电极部分(400)中的O2含量在1%与5%之间;以及所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:林宛瑜,于尔根·格里尔迈尔,蔡皮皮,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:新型
国别省市:美国;US
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